清远真空离子氮化批发价

离子氮化脉冲电源的优点：有利于深孔、窄缝、微孔的渗氮，由于脉冲电源对空心阴极效应的抑制作用，可在深孔、窄缝、微孔内实现氮化。例如可在型腔≥0.6mm的铝型材挤压模和Ф4×80（Ф32×1030）的深孔内实现氮化。节能，由于脉冲电源可有效地抑制空心阴极效应的产生，避免小孔、窄缝处打死弧，取消了堵孔等工序，省去了不必要的辅助工时，缩短了工艺周期，节省了大量的人力物力，提高了设备的综合使用效率。此外脉冲电源中限流电阻的减小，也可节省部分能量，因此脉冲电源较直流电源更加节能。离子氮化和气体氮化对比。清远真空离子氮化批发价

离子氮化是一种先进的表面处理技术，它基于辉光放电原理。在真空炉内，通入适量的氮气或氮氢混合气体，当炉内气压达到一定值并施加直流电压时，气体被电离，产生大量的氮离子和电子。氮离子在电场作用下，高速轰击工件表面，将动能转化为热能，使工件升温。同时，氮离子在工件表面获得电子变成氮原子，渗入工件表层，并与金属原子发生反应，形成氮化层。与传统氮化工艺不同，离子氮化依靠离子的轰击作用来实现氮化过程，这种方式使得氮化速度更快，氮化层质量更易控制，为众多行业的材料表面性能优化提供了高效解决方案。云浮金属离子氮化生产离子氮化处理加工处理。

   离子氮化的常见缺陷：

一、硬度偏低生产实践中，工件氮化后其表面硬度有时达不到工艺规定的要求，轻者可以返工，重者则造成报废。造成硬度偏低的原因是多方面的：有设备方面的原因，如系统漏气造成氧化；有选材方面的原因，如材料选择不恰当；有前期热处理方面的原因，如基本硬度太低，表面脱碳等；有工艺方面的原因，如氮化温度过高或过低，时间短或氮势不足而造成渗层太薄等等。只有根据具体情况，找准原因，问题才会得以解决。

二、硬度和渗层不均匀装炉方式不当，气压调节不当(如供气量过大)，温度不均，小孔、窄缝未屏蔽造成局面过热等均会造成硬度和渗层不均匀。

三、变形超差变形是难以杜绝的，对易变形件，采取以下措施，有利于减小变形。氮化前应进行稳定化处理(处理次数可以是几次)直至将氮化前的变形量控制在很小的范围内(一般不应超过氮化后允许变形量的50％)；氮化过程中的升、降温速度应缓慢；保温阶段尽量使工件各处的温度均匀一致。对变形要求严格的工件，如果工艺许可，尽可能采用较低的氮化温度。

离子氮化工艺技术应用常见问题：硬度低。主要原因包括系统漏气造成氧化、选材不当、基体硬度低、氮化温度、时间或氮势不足而造成渗层太薄。硬度和涂层不均匀。主要原因包括：装炉方式不当、气压调节不当(如供气量过大)、温度不均、小孔窄缝未屏蔽造成局面过热等均会造成硬度和渗层不均匀。变形超差。减少变形的措施包括：氮化前应进行稳定化处理(处理次数可以是几次)直至将氮化前的变形量控制在很小的范围内(一般不应超过氮化后允许变形量的50％)；氮化过程中的升、降温速度应缓慢；保温阶段尽量使工件各处的温度均匀一致。对变形要求严格的工件，如果工艺许可，尽可能采用较低的氮化温度。合金元素对离子氮化渗氮层硬度、深度的影响。

离子氮化与气体氮化在多个方面存在差异。从氮化原理看，气体氮化是通过氨气在高温下分解出氮原子，然后氮原子在工件表面吸附并扩散形成氮化层；而离子氮化是利用辉光放电产生的氮离子轰击工件表面实现氮化。在氮化速度上，离子氮化明显更快，如前所述，可缩短大量时间。在氮化质量方面，离子氮化能更精确控制氮化层组织和性能，气体氮化的氮化层质量均匀性相对较差。从设备成本来看，离子氮化设备由于包含真空系统、电源系统等，初期投资较高；气体氮化设备相对简单，成本较低。但从长期运行成本考虑，离子氮化因氮化速度快、能耗低，综合成本可能更具优势。在应用范围上，气体氮化适用于各种形状和尺寸的工件，对复杂工件的处理能力较强；离子氮化对于形状简单、表面积较大的工件效果更佳，不过随着技术发展，对复杂工件的处理能力也在不断提升。在相同的氨流量和氨压下,进行离子氮化与气体氮化的对比实验,证明离子氮化比气体氮化的效果好。肇庆小型离子氮化现货

球铁曲轴的离子氮化工艺。清远真空离子氮化批发价

由于离子氮化是在真空中进行，因而可获得无氧化的加工表面，也不会损害被处理工件的表面光洁度。而且由于是在低温下进行处理，被处理工件的变形量极小，处理后无需再行加工，极适合于成品的处理。通过调节氮、氢及其他（如碳、氧、硫等）气氛的比例，可自由地调节化合物层的相组成，从而获得预期的机械性能。离子氮化从380℃起即可进行氮化处理，此外，对钛等特殊材料也可在850℃的高温下进行氮化处理，因而适应范围十分广。由于离子氮化是在低气压下以离子注入的方式进行，因而耗气量极少（只为气体渗氮的百分之几）。清远真空离子氮化批发价