其包含含有钾盐的第1液、和含有溶纤剂的第2液。再者,本发明涉及印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法,其特征在于,在包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法中,使用上述抗蚀剂的剥离液进行抗蚀剂的除去。发明效果本发明的抗蚀剂的剥离液即使是微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎。因此,本发明的抗蚀剂的剥离液适合于包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器或引线框的制造方法。具体实施方式本发明的抗蚀剂的剥离液(以下,称为“本发明剥离液”)含有氢氧化钾和溶纤剂。本发明剥离液中的钾盐没有特别限定,例如,可以举出氢氧化钾、碳酸钾等。需要说明的是,钾盐中不含相当于后述的硅酸盐的硅酸钾。这些之中推荐氢氧化钾。另外,本发明剥离液中的钾盐的含量没有特别限定,例如,推荐,更推荐,特别推荐。本发明剥离液中使用的溶纤剂是指乙二醇的醚类,例如,可以举出异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二甲基溶纤剂、苯基丁基溶纤剂、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、苯基溶纤剂、苄基溶纤剂、卡必醇溶纤剂、二乙基溶纤剂等。这些之中推荐异丙基溶纤剂。另外。苏州性价比高的剥离液。扬州哪家剥离液费用是多少
1.显影液:显影液是一种溶液,用于在PCB板上显示铜线轨道的比例和位置,使其成为可以用于焊接元件的良好的PCB板。2.剥离液:剥离液是一种特殊的溶剂,用于将PCB板上的铜线轨道剥离开,以便重新焊接元件。3.蚀刻液:蚀刻液是一种酸性溶液,用于将PCB板上的铜线轨道腐蚀掉,以便重新焊接元件。4.清洗液:清洗液是一种混合物,用于将PCB板上的尘埃、污垢和其他残留物消除干净,以便进行焊接和装配。1.显影液:是指用于显影制版的液体,一般由溶剂、硫酸铜、有机酸和抗氧化剂等组成。2.剥离液:是指用于把制版上的显影膜剥离出来的液体,一般由硝酸铝、硫酸钠等组成。3.蚀刻液:是指用于蚀刻制版的液体,一般由硝酸铜、硝酸钠、硝酸锌等组成。4.清洗液:是指用于清洗制版的液体,一般由水、硝酸、硫酸、乙醇等组成。南通京东方用的蚀刻液剥离液销售价格剥离液的作用和使用场景。
需要说明的是,本发明剥离液中,推荐*由上述成分构成,但只要不阻碍本发明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡剂等其它成分。以上说明的本发明剥离液可以通过将上述成分溶于水中来制备。需要说明的是,本发明剥离液的ph若为碱性则没有特别限定,但通常**将上述成分溶于水就成为碱性,因此没有特别必要调整ph。另外,本发明剥离液可以通过将上述成分分别分开预先溶于水,成为抗蚀剂的剥离液套件,将它们混合来制备。具体来说,可以举出以包含含有钾盐的第1液和含有溶纤剂的第2液为特征的抗蚀剂的剥离液套件、其中还包含含有硅酸盐的第3液的抗蚀剂的剥离液套件、进而在其中使上述其它成分适当含有于各液中的抗蚀剂的剥离液套件等。通过使用本发明剥离液对施加有抗蚀剂的基材进行处理,抗蚀剂被细小地粉碎。
本发明提供的光刻胶剥离去除方法第二实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积一层二氧化硅薄膜作为介质层;s2,旋涂光刻胶并曝光显影,形成光刻图形阻挡层;s3,执行离子注入,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干法剥离,氢氮混合比例范围为4:96~30:70。s5,对衬底表面进行清洗,清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和过氧化氨混合物溶液。本发明提供的光刻胶剥离去除方法第三实施例,用于半导体制造工艺中,可应用于包括但不限于mos、finfet等所有现有技术中涉及光刻胶剥离去除的生产步骤,主要包括以下步骤:s1,在半导体衬底上淀积一层二氧化硅薄膜作为介质层;s2,旋涂光刻胶并曝光显影,形成光刻图形阻挡层;s3,执行离子注入,离子注入剂量范围为1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮氢混合气体执行等离子刻蚀,对光刻胶进行干法剥离,氢氮混合比例范围为4:96~30:70。s5,对硅片执行单片排序清洗,清洗液采用h2so4:h2o2配比范围为6:1~4:1且温度范围为110℃~140℃的过氧化硫磺混合物溶液。哪家的剥离液的价格低?
根据新思界产业研究中心发布的《2020-2024年中国剥离液行业市场供需现状及发展趋势预测报告》显示,剥离液属于湿电子化学品的重要品类,近几年受新能源、汽车电子等产业的快速发展,我国湿电子化学品市场规模持续扩增,2019年我国湿电子化学品市场规模达到100亿元左右,需求量约为138万吨。随着剥离液在半导体产业中的应用增长,剥离液产量以及市场规模随之扩大,2019年我国半导体用剥离液需求量约为,只占据湿电子化学品总需求量的。从竞争方面来看,当前全球剥离液的生产由湿电子化学品企业主导,主要集中在欧美、日韩以及中国,代表性企业有德国巴斯夫、德国汉高、美国霍尼韦尔、美国ATMI公司、美国空气化工产品公司、三菱化学、京都化工、住友化学、宇部兴产、关东化学,以及中国的江阴江化微、苏州瑞红、中国台湾联仕电子等企业。哪家的剥离液性价比比较高?无锡铜钛蚀刻液剥离液
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具体实施方式现有技术中剥离液废液中含有光刻胶树脂、水和某些金属杂质,而剥离液废液的处理主要是通过焚烧或者低水平回收,其大量的使用但不能够有效地回收,或者回收后需要通过大量的时间分析其含量以及花大量时间进行再生处理,影响了剥离液废液的利用率。本发明对于已知的剥离液的含量以及比例有预先的了解,通过预先制定添加剂的方法,将添加剂以及某些原材料加入后重新制备剥离液新液。本发明中对于回收的剥离液废液的进一步处理加工,是采用现有技术中加压、蒸馏等方式,可以是采用阶段性变压精馏塔进行加压、蒸馏处理。表1:已知的剥离液新液的组分:表二:添加剂的组分组分比例:纯化液体的组分表四:制备剥离液新液在对纯化液体进行加工处理,重新制备剥离液新液的过程中,需要预先制备添加剂,该添加剂中不含有酰胺化合物,而通过表四中可以得出,制备过程中在纯化液体中加入添加剂以及nmf或bdg重新得出与表1组分相同的剥离液新液,该剥离液新液能够达到表1中剥离液新液相同的成分以及相同或大致相同的技术效果。对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的。扬州哪家剥离液费用是多少