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东莞铝钼铝蚀刻液剥离液厂家现货

来源: 发布时间:2025年02月21日

本发明涉及化学制剂技术领域:,特别涉及一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。背景技术::随着半导体制造技术以及立体封装技术的不断发展,电子器件和电子产品对多功能化和微型化的要求越来越高。在这种小型化趋势的推动下,要求芯片的封装尺寸不断减小。3d叠层粉妆技术的封装体积小,立体空间大,引线距离短,信号传输快,所以能够更好地实现封装的微型化。晶圆叠层是3d叠层封装的一种形式。叠层晶圆在制造的过程中会对**外层的晶圆表面进行显影蚀刻,当中会用到光刻胶剥离液。苏州性价比高的剥离液。东莞铝钼铝蚀刻液剥离液厂家现货

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    形成带有沉淀物的固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,固液混合物进入一级过滤罐16的过滤筒中,先由一级过滤罐16的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵6送往搅拌釜的循环料口7,往复3次数后,一级线性酚醛树脂回收完成,关闭一级过滤罐进料管路上的电磁阀18,利用提升泵6将一级过滤罐16中滤液抽取到搅拌釜10内备用;2、向搅拌釜10中输入酸性溶液,与前述滤液充分搅拌混合再次析出沉淀物,即二级线性酚醛树脂,利用ph计检测溶液ph值,当达到5-7范围内即可,打开二级过滤罐13进料管路上的电磁阀17,带有沉淀物的混合液进入二级过滤罐13中,由其中的过滤筒过滤得到二级线性酚醛树脂,废液二级过滤罐底部的废液出口20流出,送往剥离成分处理系统。上述过滤得到的一级线性酚醛树脂可用于光刻胶产品的原料,而二级线性酚醛树脂可用于其他场合。天马用的蚀刻液剥离液配方技术剥离液适用于哪些行业。

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    所述功能切换口外部并联有高纯水输入管线和沉淀剂输入管线,所述二级过滤罐的底部设有废液出口,所述一级过滤罐和二级过滤罐内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述一级过滤罐和二级过滤罐的结构相同,均由外壳、悬设于外壳内的过滤筒、扣装于过滤筒顶部的压盖组成,所述压盖中心设有对应进料管路的通孔,所述过滤筒由均匀布设多孔的支撑筒体、设于支撑筒体内表面的金属滤网、设于金属滤网表面的纤维滤布组成,所述支撑筒体的上沿伸出外壳顶部并利用水平翻边支撑于外壳上表面,所述金属滤网的上沿设有与支撑筒体的水平翻边扣合的定位翻边,所述支撑筒体的底面为向筒体内侧凹陷的锥面。上述的光刻胶废剥离液回收装置,所述搅拌釜设有ph计,用于检测溶液ph值。本实用新型的有益效果是:使用时,先将高纯水与光刻胶废剥离液在搅拌釜内搅拌均匀,形成固液混合物,打开一级过滤罐进料管路上的电磁阀,固液混合物进入一级过滤罐的过滤筒中,先由一级过滤罐的过滤筒过滤得到一级线性酚醛树脂,滤液由提升泵送往搅拌釜的循环料口,往复设定次数后,一级线性酚醛树脂回收完成,关闭一级过滤罐进料管路上的电磁阀。

    光刻胶残留大,残留分布不均匀,并且产生边缘聚集残留。为了能够进一步地表示配方一和配方二之间的光刻胶残留量对比,图2中将多张单张检测图进行叠加,可以更加清楚地看出两者之间的区别,能够明显地看出使用配方一的剥离液,高世代面板边缘光刻胶残留量大。下面列举更多剥离液组分实施例。表三:不同组分的剥离液表四:测试剥离性能时间30s50s70s90s1okokokok2okokokok3okokokok4okokokok5okokokok6okokokok7okokokok8okokokok9okokokok表三为9组不同组分的所制成的剥离液,9组不同组分的剥离液都进行剥离性能测试,在50℃下分别放入切好的玻璃,进行剥离性能测试,测试结果如表四所示,具有良好的剥离效果。通过上述,本实施方式中的剥离液采用酰胺、醇醚、环胺与链胺、缓蚀剂、润湿剂制得,有效地提高了光刻胶的剥离效果,减少了光刻胶的残留。对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例。选择剥离液,提升工作效率,降低成本。

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    图3是一现有技术光刻胶剥离去除示意图二,其离子注入步骤。图4是一现有技术光刻胶剥离去除示意图三,其显示离子注入后光刻胶形成了主要光刻胶层和第二光刻胶层。图5是一现有技术光刻胶剥离去除示意图四,其显示光刻胶膨胀。图6是一现有技术光刻胶剥离去除示意图五,其显示光刻胶炸裂到临近光刻胶。图7是一现有技术光刻胶剥离去除示意图六,其显示光刻胶去除残留。图8是本发明光刻胶剥离去除示意图一,其显示首先剥离去除主要光刻胶层。图9是本发明光刻胶剥离去除示意图二,其显示逐步剥离去除第二光刻胶层的中间过程。图10是本发明光刻胶剥离去除示意图三,其显示完全去除光刻胶后的衬底。图11是采用现有技术剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。图12是采用本发明剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。具体实施方式以下通过特定的具体实施例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所公开的内容充分地了解本发明的其他优点与技术效果。本发明还可以通过不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点加以应用,在没有背离发明总的设计思路下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。性价比高的剥离液哪里有;合肥BOE蚀刻液剥离液联系方式

什么制程中需要使用剥离液。东莞铝钼铝蚀刻液剥离液厂家现货

本发明涉及能够从施加有抗蚀剂的基材剥离抗蚀剂的抗蚀剂的剥离液。背景技术::印刷布线板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蚀剂等抗蚀剂的剥离液中,伴随微细布线化而使用胺系的剥离液。然而,以往的胺系的抗蚀剂的剥离液有废液处理性难、海外的法规制度的问题,而避免其使用。近年来,为了避免胺系的抗蚀剂的剥离液的问题点,还报道了一种含有氢氧化钠和溶纤剂的剥离液(专利文献1),由于剥离时的抗蚀剂没有微细地粉碎,因此存在近年的微细的布线间的抗蚀剂难以除去的问题点。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2002-323776号公报技术实现要素:发明要解决的问题因此,本发明的课题在于,提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术。用于解决问题的手段本发明人等为了解决上述课题而深入研究的结果发现,含有钾盐和溶纤剂的溶液与专利文献1那样的含有氢氧化钠和溶纤剂的溶液相比,即使是非常微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎,从而完成本发明。即,本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液,其特征在于,含有钾盐和溶纤剂。另外,本发明涉及一种抗蚀剂的除去方法,其特征在于,用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材。东莞铝钼铝蚀刻液剥离液厂家现货