例如即使为50/50μm以下的线/间距、推荐10/10~40/40μm的线/间距也能除去抗蚀剂。实施例以下,举出实施例对本发明进行详细说明,但本发明不受这些实施例任何限定。实施例1抗蚀剂的剥离液的制备:将以下的表1中记载的成分在水中混合、溶解而制备抗蚀剂的剥离液。【表1】(mol/l)氢氧化钾氢氧化钠异丙基溶纤剂硅酸钾本发明组成:(1)基板制作方法为了提**膜抗蚀剂一基材间的密合,将覆铜层叠板(古河电工(株式会社)制:ccl:电解铜箔gts35μm箔)通过粗化处理(jcu制:ebakemuneobrownnbsii、蚀刻量μm)使表面粗度成为ra约μm。其后,使用干膜抗蚀剂(日立化成制:rd-1225(sap用):25μm厚)实施从层压到图案曝光、显影。向本基板以15μm厚实施镀铜(jcu制:cu-britevl)后,切出50×50mm2作为试验片。需要说明的是,该试验片是在一片上具有以下的表2的l/s的图案部分和黏性部分的试验片。(2)图案基板上残留的抗蚀剂的评价方法上述评价方法中将喷涂运行时间固定在4分钟,按照以下的评价基准评价l/s=20/20~40/40μm的图案部分有无剥离残渣。将其结果示于表2。<剥离残渣的评价基准>(分数)(内容)1:无残渣2:有极少量残渣。剥离液的大概费用大概是多少?安徽ITO蚀刻液剥离液销售价格
本发明涉及能够从施加有抗蚀剂的基材剥离抗蚀剂的抗蚀剂的剥离液。背景技术::印刷布线板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蚀剂等抗蚀剂的剥离液中,伴随微细布线化而使用胺系的剥离液。然而,以往的胺系的抗蚀剂的剥离液有废液处理性难、海外的法规制度的问题,而避免其使用。近年来,为了避免胺系的抗蚀剂的剥离液的问题点,还报道了一种含有氢氧化钠和溶纤剂的剥离液(专利文献1),由于剥离时的抗蚀剂没有微细地粉碎,因此存在近年的微细的布线间的抗蚀剂难以除去的问题点。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2002-323776号公报技术实现要素:发明要解决的问题因此,本发明的课题在于,提供容易除去微细的布线间的抗蚀剂的技术。用于解决问题的手段本发明人等为了解决上述课题而深入研究的结果发现,含有钾盐和溶纤剂的溶液与专利文献1那样的含有氢氧化钠和溶纤剂的溶液相比,即使是非常微细的布线间的抗蚀剂也能细小地粉碎,从而完成本发明。即,本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液,其特征在于,含有钾盐和溶纤剂。另外,本发明涉及一种抗蚀剂的除去方法,其特征在于,用上述抗蚀剂的剥离液处理施加有抗蚀剂的基材。此外,本发明涉及一种抗蚀剂的剥离液套件。南通BOE蚀刻液剥离液产品介绍华星光电用的哪家的剥离液?
随着电子元器件制作要求的提高,相关行业应用对湿电子化学品纯度的要求也 不断提高。为了适应电子信息产业微处理工艺技术水平不断提高的趋势,并规范世 界超净高纯试剂的标准,国际半导体设备与材料组织(SEMI)将湿电子化学品按金 属杂质、控制粒径、颗粒个数和应用范围等指标制定国际等级分类标准。湿电子化 学品在各应用领域的产品标准有所不同,光伏太阳能电池领域一般只需要 G1 级水平;平板显示和 LED 领域对湿电子化学品的等级要求为 G2、G3 水平;半导体领域中, 集成电路用湿电子化学品的纯度要求较高,基本集中在 G3、G4 水平,分立器件对 湿电子化学品纯度的要求低于集成电路,基本集中在 G2 级水平。一般认为,产生集 成电路断丝、短路等物理性故障的杂质分子大小为**小线宽的 1/10。因此随着集成 电路电线宽的尺寸减少,对工艺中所需的湿电子化学品纯度的要求也不断提高。从 技术趋势上看,满足纳米级集成电路加工需求是超净高纯试剂今后发展方向之一。
光电行业的大力发展,致使剥离液被国内外研究人员所关注及研究,虽然在**网及技术网上对剥离液的阐述较少,但当前国内与国外均在剥离液废液如何利用及处置方面有了一定的成果,。美国专利US7273560公布了包含单乙醇胺与二乙二醇单丁醚组合的光刻胶剥离液废液中含有、77%的二乙二醇单丁醚、3%的光刻胶和。现有技术***采用的光刻胶剥离液废液回收方法通常是通过薄膜蒸发器回收大部分的有机成分,回收得到的有机组分或再经脱色脱水等处理后可再次作为光刻胶剥离液应用。这种方法虽然流程简便,但在使用薄膜蒸发器蒸发溶剂过程中,光刻胶浓度达到一定程度后其传热传质效率快速下降,使溶剂回收效率大为降低,处理能耗***升高。且除去溶剂后残留的光刻胶等物质需要定期将其***干净,进而影响工艺操作效率。另外,美国专利US公布了在蚀刻产线上设置过滤回收装置,通过粗孔和细孔过滤器的两步组合过滤法除去光刻胶,将光刻胶剥离液在产线上循环使用。 剥离液的类别一般有哪些。
腾田化学技术(上海)技术有限公司(简称:腾田化学),腾田化学坐落于上海五角场万达广场,依托复旦大学·东华大学·华东理工大学·中科院有机所·上海石油商品研究所就相关材料领域建立研发中心,凭借强大的科研实力,多年丰富的研发经验,共同建立化工材料分析中心与新材料研发中心;腾田化学致力于化工行业材料检测、材料分析、配方还原、新领域新材料的研发;加快新项目整体研发进度,缩短研发周期,推动化工产业自主研发的进程.为企业提供一站式服务。腾田化学作为国内的配方及研发技术有限公司,腾田化学技术团队具有丰富研发经验,与多所高校及研究所建立研究性合作平台,拥有前列的技术研发平台、雄厚的科研技术力量以及精密的高科技仪器设备;有标准的图谱库;材料库;完善的数据库;能够有效的解决某些前列领域特殊产品**能性助剂的定性定量分析及研发技术服务,为企业解决在研发中遇到的难题,突破多领域技术瓶颈;并且与化工行业上百家有规模企业建立长期技术合作;腾田化学中心拥有强大的技术研发团队:由数位工程师在新材料前列领域已帮助多家企业解决实际生产问题,协助企业成功自主研发**产品项目很多项。京东方用的哪家的剥离液?滁州什么剥离液厂家现货
剥离液的发展趋势如何。安徽ITO蚀刻液剥离液销售价格
在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本申请实施例提供的剥离液机台的***种结构示意图。图2为本申请实施例提供的剥离液机台的第二种结构示意图。图3为本申请实施例提供的剥离液机台的第三种结构示意图。图4为本申请实施例提供的剥离液机台的第四种结构示意图。图5为本申请实施例提供的剥离液机台的工作方法的流程示意图。具体实施方式目前剥离液机台在工作时,如果过滤剥离光阻时产生的薄膜碎屑的过滤器被阻塞,则需要剥离液机台内的所有工作单元,待被阻塞的过滤器被清理后,才能重新进行剥离制程,使得机台需频繁停线以更换过滤器,极大的降低了生产效率。请参阅图1,图1为本申请实施例提供的过滤液机台100的***种结构示意图。本申请实施例提供一种剥离液机台100,包括:依次顺序排列的多级腔室10、每一级所述腔室10对应连接一存储箱20;过滤器30,所述过滤器30的一端设置通过***管道40与当前级腔室101对应的存储箱20连接,所述过滤器30的另一端通过第二管道50与下一级腔室102连接;其中,至少在***管道40或所述第二管道50上设置有阀门开关60。具体的,图1所示出的是阀门开关60设置在***管道40上的示例图。安徽ITO蚀刻液剥离液销售价格
苏州博洋化学股份有限公司致力于精细化学品,是一家生产型公司。公司业务涵盖高纯双氧水,高纯异丙醇,蚀刻液,剥离液等,价格合理,品质有保证。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造精细化学品良好品牌。博洋化学立足于全国市场,依托强大的研发实力,融合前沿的技术理念,及时响应客户的需求。