江苏优众微纳半导体科技有限公司2026-08-08
纳米柱侧壁粗糙度从2nm增至5nm,超构表面Q值从200降至80,需优化刻蚀工艺控制粗糙度<2nm。
本回答由 江苏优众微纳半导体科技有限公司 提供
江苏优众微纳半导体科技有限公司
联系人: 刘娟
手 机: 19827086768
网 址: http://www.yz-micronano.com/about.html