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涂胶显影机可以实现的光刻曝光工艺有哪些特点？​

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无锡凡华半导体科技有限公司2025-08-14

通过将光刻胶涂布在晶圆表面，经过前烘、曝光、PEB（曝后烘）、显影及坚膜等制程，可将掩模版上的图案精细转移到光刻胶上，对工艺的精确性和稳定性要求高。​

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联系人： 邵圣

手   机： 13961806265

网   址： http://www.fanhuasemi.com/

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