等离子刻蚀机能否刻蚀铝钪氮薄膜？

深圳市方瑞科技有限公司2026-05-20

等离子刻蚀机可以刻蚀铝钪氮压电薄膜，通常使用氯基气体进行ICP刻蚀。AlScN刻蚀速率可达200-300 nm/min，侧壁陡直，对底层电极选择比高。方瑞科技的PE-200刻蚀机已成功应用于AlScN MEMS谐振器和超声波换能器制造。方瑞科技提供工艺开发及样品测试。

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简介：专注于等离子设备的研发、生产和销售，服务于半导体、汽车、电子等多个行业，产品远销全球。

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