是专为电感类电子元件(如线圈、磁芯、电感器等)设计的电镀加工设备,其特点是采用双滚筒结构,结合滚镀工艺,以实现小型电感元件的高效、均匀镀层处理。
双滚筒设计:两个滚筒可同时或交替运行,一桶装卸时另一桶持续工作,减少停机时间,提升产能。
滚筒优化:采用绝缘耐腐蚀材质(如PP),开孔设计促进镀液流通,防缠绕结构适配电感元件的细小特性。
滚镀工艺:元件在滚筒内翻滚,通过电流作用均匀沉积镀层(如镍、锡、银),双桶可调控转速、电流等参数。
高效连续生产:双桶交替作业支持大规模电镀,尤其适合贴片电感(SMD)、磁环等小件批量处理。
镀层均匀稳定:滚筒旋转避免元件堆积死角,结合阴极导电设计,确保复杂形状表面镀覆一致性。
低损伤高适配:柔和翻滚减少碰撞损耗,可适配防腐、可焊、导电等多种镀层工艺需求。
典型场景:贴片电感、绕线电感、磁芯等镀镍(抗氧化)、镀锡(焊接)或镀银(高导)处理。
关键注意:需匹配元件尺寸选择滚筒孔径,定期维护镀液成分及导电触点,避免漏料或镀层缺陷。 镀铬设备需配置铅合金阳极与阳极袋,防止杂质污染电解液,确保硬铬镀层的高硬度与耐磨性。实验型电镀设备定做价格

阳极氧化线是专门用于金属表面阳极氧化处理的成套生产线,通过电化学方法在金属(如铝、铝合金、镁合金、钛合金等)表面生成一层致密、多孔的氧化膜(如Al₂O₃),以提升工件的耐腐蚀性、耐磨性、绝缘性或装饰性。它是氧化生产线中常用的类型,在于利用外加电源使金属作为阳极发生氧化反应,形成与基体结合牢固的氧化膜层。
阳极氧化线的原理(电化学氧化)原理:
将金属工件(如铝)作为阳极,浸入电解液(如硫酸、草酸、铬酸溶液)中,接通直流电源后,阳极发生氧化反应:
阳极(金属):2Al+3H2O→Al2O3+6H++6e−(以铝为例)
阴极(惰性电极,如铅板、不锈钢):6H++6e−→3H2↑
反应生成的氧化膜(Al₂O₃)紧密附着在金属表面,初始膜层多孔,可通过后续处理(如染色、封孔)赋予更多功能。
膜层特性:多孔结构(孔径约10~20nm),膜厚可控(从几微米到200μm以上),硬度高(HV300~500),绝缘性优异(电阻率达10⁹~10¹²Ω・cm)。 四川实验型电镀设备悬挂传输设备以链条或龙门架为载体,实现工件在各槽体间自动转移,减少人工干预并提高生产节奏。

是用于将电镀过程中产生的废气收集并输送至废气处理设备的装置,常见的有以下几种:
具有风压高、风量较大、效率较高的特点,
适用于输送距离较长、阻力较大的电镀废气系统。
其特点是风量较大、风压低
适用于对通风量要求较大但阻力较小的场合,如电镀车间内的局部抽风或简单的废气收集系统。
它具有安装方便、不占用室内空间的优点,
适用于一些对室内空间布局要求较高的电镀企业。
这种风机采用特殊的防爆结构和材料,能够有效防止在运行过程中产生的电火花等引发炸掉事故,确保安全生产。
滚镀机的工作原理
将小工件装入带孔的滚筒(聚氯乙烯或不锈钢材质),滚筒浸入电解液后缓慢旋转(5~15 转 / 分钟),通过滚筒壁的孔洞使电解液流通,同时工件在滚筒内翻滚,确保镀层均匀附着。
优势:
高效率:单次可处理数千件小工件,产能远超挂镀(适合单件或少量)。
低成本:减少人工挂卸成本,滚筒导电杆统一通电,能耗相对较低。
均匀性:工件在滚筒内动态接触电解液,避免屏蔽效应(挂镀中工件相互遮挡导致镀层不均)。
与生产线其他环节的配合
前处理:需先通过除油、酸洗去除工件表面油污和氧化皮,否则影响镀层结合力(滚镀机不具备前处理功能,依赖生产线前段设备)。
后处理:滚镀完成后,工件随滚筒吊出,进入水洗槽、钝化槽或封闭槽(如镀锌后的蓝白钝化),终干燥(生产线后段设备完成)。
自动化控制:滚镀机的转速、电镀时间、电流电压等参数由生产线 PLC 系统统一控制,与传输装置(如行车)联动,实现 “上料→前处理→滚镀→后处理→下料” 全流程自动化。 在线监测设备搭载 AI 算法,实时分析镀层缺陷(如麻点、漏镀),自动调整电流参数提升良品率。

挂镀工艺:晶圆固定在挂具上,浸入电镀液,通过精细控制电流、电压及溶液成分,在表面沉积均匀金属层。
电镀槽:耐腐蚀材质,配备温控、循环过滤系统,维持镀液均匀性
挂具与阳极:钛或铂金阳极,挂具设计适配晶圆尺寸,确保电场分布均匀
自动化传输:机械臂自动上下料,减少人工污染风险
控制系统:PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数
高均匀性:通过脉冲电镀或水平电镀技术(如ECP),减少边缘效应,实现亚微米级镀层均匀性
低缺陷率:镀液杂质控制(<0.1ppm)与膜厚在线监测,降低孔洞、结节等缺陷
高产能:支持多晶圆并行处理
铜互连:在逻辑芯片中沉积多层铜导线,替代传统铝工艺以降低电阻
TSV填充:为3D封装提供垂直导电通道,实现芯片堆叠
凸块电镀:在晶圆表面形成锡、铜柱凸块,用于Flip-Chip键合
RDL(重布线层):沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局
半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术,解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题,是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 工件篮设备用于篮镀工艺,网孔大小根据工件尺寸定制,兼顾电解液流通性与防止小件掉落。湖南手动电镀设备
电镀槽体的防腐内衬采用聚四氟乙烯(PTFE),耐受强酸碱与高温,延长设备使用寿命 30% 以上。实验型电镀设备定做价格
案例1:MLCC端电极电镀
流程:陶瓷烧结→端面研磨→溅射镍层→电镀铜/锡层→激光切割分粒。
设备:溅射镀膜机+滚镀线,确保端电极导电性与焊接性。
案例2:薄膜电阻调阻后电镀
流程:氧化铝基板→溅射镍铬电阻膜→激光调阻→电镀镍/锡保护层。
作用:电镀层防止调阻后的敏感膜层氧化,并提升端面焊接性能。
案例3:功率电感引脚镀锡
流程:磁芯绕线→引脚焊接→电镀纯锡→热风整平。
目标:降低接触电阻,适应大电流场景。 实验型电镀设备定做价格