微弧氧化电镀设备厂家直销

全自动磷化线工作流程

1.前处理：晶圆清洗、去氧化层、活化表面。

2.装载：将晶圆固定于旋转载具，浸入镀液。

3.电镀：

施加电流，金属离子在晶圆表面还原沉积。

旋转载具确保镀液流动均匀，消除厚度差异。

4.后处理：镀层退火、清洗、干燥。

技术特点

1.高均匀性：

旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象，镀层均匀性达±5%以内。

2.精密控制：电流密度精度：±1 mA/cm²；温度波动：±0.5℃。

3.洁净度保障：设备内建HEPA过滤系统，满足Class 1000以下洁净环境。

4.高效生产：支持多片晶圆同时处理（如6片/批次），UPH（每小时产量）可达50~100片。

应用场景

1.先进封装：2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。

2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金属化（镀银、镀镍）。

3.传感器与MEMS：微结构表面镀金，提升电气性能与可靠性。 过滤循环设备通过精密滤芯净化电解液，去除金属颗粒等杂质，保障镀液清洁与工艺稳定。微弧氧化电镀设备厂家直销

电镀自动线是通过自动化设备实现连续生产的电镀系统，主要类型及特点如下：

主流自动线类型

1.龙门式自动线

结构：多工位龙门机械手驱动，PLC控制

特点：精度高（±0.1mm），适用于精密件（如汽车部件、电子接插件）

产能：单线日处理量可达5000-10000件

2.环形垂直升降线

结构：环形轨道+升降机，连续循环作业

特点：节拍快（20-40秒/挂），适合中小型工件（如五金件、卫浴配件）

优势：占地小，能耗低（节电30%以上）

3.滚镀自动线

结构：六角滚筒+变频驱动，批量处理小型零件（螺丝、纽扣）

参数：滚筒转速3-10rpm，装载量50-200kg/批

镀层均匀性：±15%，效率达8㎡/h

4.连续电镀线

类型：带材/线材电镀（如PCB铜箔、铜线）

技术：张力控制+多槽串联，速度可达10-30m/min

精度：镀层厚度偏差＜5%

5.机器人电镀线

配置：六轴机器人+视觉定位

系统应用：复杂曲面工件（汽车轮毂、航空部件）

优势：柔性生产，支持多品种切换

应用领域

汽车：镀锌螺栓、轮毂镀铬

电子：PCB微孔镀铜、连接器镀金

五金：卫浴配件镀镍、锁具镀锌 广东深圳超硬镀层电镀设备挂具设计作为电镀设备附件，采用导电性能优异的铜合金或不锈钢，减少接触电阻以保障电流均匀传导。

龙门式自动线通过龙门机械手（横跨电镀槽上方的移动框架）和悬挂系统，将工件按预设程序在不同工艺槽（如除油、电镀、水洗等）间自动转移，全程由PLC（可编程逻辑控制器）控制，实现无人化连续生产。

组成

1.龙门机械

手采用伺服电机驱动，双立柱+横梁结构，负载能力可达200-1000kg行程精度：±0.1mm（机型可达±0.05mm）移动速度：水平0.5-2m/s，升降0.2-0.5m/s

2.轨道系统

精密导轨+齿轮齿条传动，支持多工位并行作业防腐蚀设计（不锈钢或镀层保护），适应酸碱环境

3.挂具系统

定制化夹具，适配不同工件形状（如支架、吊篮）导电触点采用银/铜复合材料，接触电阻＜0.05Ω

4.控制系统

PLC+触摸屏（HMI），预设上百种工艺配方实时监控电流、温度、pH值，数据存储追溯

半导体滚镀设备

是一种于半导体制造中金属化工艺的精密设备，主要用于在半导体晶圆、芯片或微型元件表面沉积均匀的金属镀层。其在于通过可控的电化学或化学镀工艺，实现高精度、高一致性的金属覆盖，满足集成电路封装、先进封装及微机电系统等领域的特定需求

与传统滚镀不同，半导体滚镀更注重工艺洁净度、镀层精度及与半导体材料的兼容性。

二、功能

1.金属互连：在晶圆上形成铜导线。

2.凸块制备：沉积锡、铜、金等材料，用于芯片与基板的电气连接。

3.阻挡层/种子层镀覆：镀钛、钽等材料，防止金属扩散并增强附着力。

三、设备组成

1.电镀槽：

材质：耐腐蚀材料，避免污染镀液

镀液循环系统：维持镀液成分均匀，过滤颗粒杂质

2.旋转载具：

晶圆固定装置：真空吸附或机械夹持，确保晶圆平稳旋转

转速控制：通过伺服电机调节转速，优化镀层均匀性

3.阳极系统：

可溶性/不溶性阳极：铜、铂等材料，依镀层需求选择

阳极位置调节：控制电场分布，减少边缘效应

4.供液与喷淋系统：

多点喷淋头：均匀分配镀液至晶圆表面，避免气泡滞留

流量控制：精确调节镀液流速，匹配不同工艺需求

5.控制系统：

PLC/工控机：集成温度、pH值、电流密度等参数监测与反馈。

配方管理：存储不同镀层的工艺参数 温控设备集成加热管与冷水机，准确调节镀液温度（如镀硬铬需 50-60℃），确保电化学反映在好的区间进行。

电感双桶式滚镀设备

是专为电感类电子元件（如线圈、磁芯、电感器等）设计的电镀加工设备，其特点是采用双滚筒结构，结合滚镀工艺，以实现小型电感元件的高效、均匀镀层处理。

1. 结构与原理

双滚筒设计：两个滚筒可同时或交替运行，一桶装卸时另一桶持续工作，减少停机时间，提升产能。

滚筒优化：采用绝缘耐腐蚀材质（如PP），开孔设计促进镀液流通，防缠绕结构适配电感元件的细小特性。

滚镀工艺：元件在滚筒内翻滚，通过电流作用均匀沉积镀层（如镍、锡、银），双桶可调控转速、电流等参数。

2. 优势

高效连续生产：双桶交替作业支持大规模电镀，尤其适合贴片电感（SMD）、磁环等小件批量处理。

镀层均匀稳定：滚筒旋转避免元件堆积死角，结合阴极导电设计，确保复杂形状表面镀覆一致性。

低损伤高适配：柔和翻滚减少碰撞损耗，可适配防腐、可焊、导电等多种镀层工艺需求。

3. 应用与要点

典型场景：贴片电感、绕线电感、磁芯等镀镍（抗氧化）、镀锡（焊接）或镀银（高导）处理。

关键注意：需匹配元件尺寸选择滚筒孔径，定期维护镀液成分及导电触点，避免漏料或镀层缺陷。 镀镍设备配套活性炭吸附装置，定期去除镀液中有机杂质，防止细孔、麻点等镀层缺陷。微弧氧化电镀设备厂家直销

挂镀导电装置采用磷铜合金挂具，表面镀硬铬增强导电性，减少接触电阻导致的镀层不均问题。微弧氧化电镀设备厂家直销

半导体挂镀设备

1.基本原理与结构

挂镀工艺：晶圆固定在挂具上，浸入电镀液，通过精细控制电流、电压及溶液成分，在表面沉积均匀金属层。

组件：

电镀槽：耐腐蚀材质，配备温控、循环过滤系统，维持镀液均匀性

挂具与阳极：钛或铂金阳极，挂具设计适配晶圆尺寸，确保电场分布均匀

自动化传输：机械臂自动上下料，减少人工污染风险

控制系统：PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数

2. 关键技术优势

高均匀性：通过脉冲电镀或水平电镀技术（如ECP），减少边缘效应，实现亚微米级镀层均匀性

低缺陷率：镀液杂质控制（＜0.1ppm）与膜厚在线监测，降低孔洞、结节等缺陷

高产能：支持多晶圆并行处理

3. 典型应用场景

芯片制造：

铜互连：在逻辑芯片中沉积多层铜导线，替代传统铝工艺以降低电阻

TSV填充：为3D封装提供垂直导电通道，实现芯片堆叠

先进封装：

凸块电镀：在晶圆表面形成锡、铜柱凸块，用于Flip-Chip键合

RDL（重布线层）：沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局

总结

半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术，解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题，是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 微弧氧化电镀设备厂家直销