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定制化电镀设备产业

来源: 发布时间:2025年09月22日

电镀废气处理抽风设备分类:

按工作原理及结构分类:

离心风机:风压高、风量较大,适用于需要克服较大阻力

轴流风机:具有风量大、风压低的特点。适合在对通风量需求大、阻力较小的环境

屋顶风机:安装于电镀车间屋顶,可直接将车间内废气排至室外。其优点是不占室内空间,安装简便

防爆风机:针对电镀废气含易燃易爆气体(如有机溶剂挥发气)的情况设计,采用特殊防爆结构与材料,防止运行中产生电火花引发炸掉,保障生产安全

按材质及防腐特性分类

玻璃钢风机:处理电镀过程中产生的强腐蚀性酸碱废气,且质量较轻、强度较高、使用寿命长

不锈钢风机:用于对耐腐蚀有一定要求且废气中颗粒物磨损性较强的电镀废气抽取

防腐涂层或特殊防腐工艺处理的普通金属风机:抽风设备搭配集气罩、通风管道等部件,组成完整的抽风系统,将电镀废气高效收集并输送至后续处理设备,如酸雾净化塔、活性炭吸附装置等。

电镀废气处理抽风设备的组成:

自动线线外连接抽风系统

PP抽风管连接,抽风连接口采用方形变通连接室外抽风系统

可根据不同种类废气和不同排放量以及现场情形适当设计制,并负责安装调试,抽风效果好

适用于氧化、电镀、涂装、印刷等行业多种碱性、有毒气体抽排(退挂、除锈等)


废水处理设备分类收集含铬、镍等废水,经化学沉淀、离子交换处理,确保重金属达标排放。定制化电镀设备产业

定制化电镀设备产业,电镀设备

半导体滚镀设备

是一种于半导体制造中金属化工艺的精密设备,主要用于在半导体晶圆、芯片或微型元件表面沉积均匀的金属镀层。其在于通过可控的电化学或化学镀工艺,实现高精度、高一致性的金属覆盖,满足集成电路封装、先进封装及微机电系统等领域的特定需求

与传统滚镀不同,半导体滚镀更注重工艺洁净度、镀层精度及与半导体材料的兼容性。

二、功能

1.金属互连:在晶圆上形成铜导线。

2.凸块制备:沉积锡、铜、金等材料,用于芯片与基板的电气连接。

3.阻挡层/种子层镀覆:镀钛、钽等材料,防止金属扩散并增强附着力。

三、设备组成

1.电镀槽:

材质:耐腐蚀材料,避免污染镀液

镀液循环系统:维持镀液成分均匀,过滤颗粒杂质

2.旋转载具:

晶圆固定装置:真空吸附或机械夹持,确保晶圆平稳旋转

转速控制:通过伺服电机调节转速,优化镀层均匀性

3.阳极系统:

可溶性/不溶性阳极:铜、铂等材料,依镀层需求选择

阳极位置调节:控制电场分布,减少边缘效应

4.供液与喷淋系统:

多点喷淋头:均匀分配镀液至晶圆表面,避免气泡滞留

流量控制:精确调节镀液流速,匹配不同工艺需求

5.控制系统:

PLC/工控机:集成温度、pH值、电流密度等参数监测与反馈。

配方管理:存储不同镀层的工艺参数 经济型电镀设备运输价喷淋式电镀设备利用高压喷头将电解液均匀喷洒在工件表面,加速离子交换,提高电镀效率,形状复杂的工件。

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阳极氧化线是专门用于金属表面阳极氧化处理的成套生产线,通过电化学方法在金属(如铝、铝合金、镁合金、钛合金等)表面生成一层致密、多孔的氧化膜(如Al₂O₃),以提升工件的耐腐蚀性、耐磨性、绝缘性或装饰性。它是氧化生产线中常用的类型,在于利用外加电源使金属作为阳极发生氧化反应,形成与基体结合牢固的氧化膜层。

阳极氧化线的原理(电化学氧化)原理:

将金属工件(如铝)作为阳极,浸入电解液(如硫酸、草酸、铬酸溶液)中,接通直流电源后,阳极发生氧化反应:

阳极(金属):2Al+3H2O→Al2O3+6H++6e−(以铝为例)

阴极(惰性电极,如铅板、不锈钢):6H++6e−→3H2↑

反应生成的氧化膜(Al₂O₃)紧密附着在金属表面,初始膜层多孔,可通过后续处理(如染色、封孔)赋予更多功能。

膜层特性:多孔结构(孔径约10~20nm),膜厚可控(从几微米到200μm以上),硬度高(HV300~500),绝缘性优异(电阻率达10⁹~10¹²Ω・cm)。

志成达研发的真空机,在电镀设备中的作用?

主要体现在某些特定的电镀工艺(如真空电镀或物相沉积)中,真空机为电镀过程提供必要的真空环境,从而提升镀层质量。以下是两者的具体关联及协同作用:

1. 真空环境在电镀中的作用

避免氧化与污染:真空环境可排除空气中的氧气、水蒸气和其他杂质,防止镀层氧化或污染,提高金属镀层的纯度。

增强附着力:在低压条件下,金属粒子动能更高,能更紧密地附着在基材表面,提升镀层的结合强度。

均匀性与致密性:真空环境减少气体分子干扰,使金属沉积更均匀,形成致密、无缺陷的镀层。

2. 主要应用工艺

真空电镀(物相沉积,PVD):工艺过程:通过真空机将腔室抽至低压(如10⁻³至10⁻⁶ Pa),利用溅射、蒸发或离子镀等技术,将金属材料气化并沉积到工件表面。典型应用:手表、首饰、手机外壳的金属镀层,以及工具、刀具的耐磨涂层。

化学气相沉积(CVD):工艺特点:在真空或低压环境中,通过化学反应在基材表面生成固态镀层(如金刚石涂层或氮化钛),常用于半导体或精密器件。

应用领域

电子工业:半导体元件、电路板的金属化镀层。

汽车与航天:发动机部件、涡轮叶片的耐高温涂层。

消费品:眼镜框、手机中框的装饰性镀膜。 滚镀后的离心甩干设备内置防滑衬垫,高速旋转时固定工件,避免碰撞损伤并加速脱水。

定制化电镀设备产业,电镀设备

电镀设备是通过电解反应在物体表面沉积金属层的装置,用于形成保护性或功能性涂层。

其系统包括:

1.电解电源:提供0-24V直流电,电流可达数千安培,适配不同镀种需求;

2.电解槽:耐腐蚀材质(如PP/PVDF),双层防漏设计,容积0.5-10m³;

3.电极系统:阳极采用可溶性金属或不溶性钛篮,阴极挂具定制设计,确保接触电阻<0.1Ω;

4.控制系统:精细温控(±1℃)、pH监测(±0.1)及镀层厚度管理。

设备分类:

挂镀线:精密件加工,厚度均匀性±5%;

滚镀系统:小件批量处理,效率3-8㎡/h;

连续电镀线:带材/线材高速生产,产能达30㎡/h;

选择性电镀:数控喷射,局部镀层精度±3%。

技术前沿:

脉冲电镀:纳米晶结构(晶粒<50nm),孔隙率降低60%;

复合电镀:添加纳米颗粒(SiC/Al₂O₃),硬度达HV1200;智能化:机器视觉定位(±0.1mm),大数据实时优化工艺。

环保与应用:闭路水循环(回用率>90%)及重金属回收技术;汽车(耐盐雾>720h)、PCB(微孔镀铜偏差<8%)、航空航天(耐温800℃)等领域广泛应用。设备正向高精度、低能耗、智能化发展,纳米电镀等新技术持续突破工艺极限。选型需结合基材特性、镀层需求及成本综合考量。 耐温设备针对高温电镀工艺(如黑色氧化处理),槽体采用耐高温 FRP 材质,耐受 100℃以上药液长期侵蚀。电镀设备周边产业

在线监测设备搭载 AI 算法,实时分析镀层缺陷(如麻点、漏镀),自动调整电流参数提升良品率。定制化电镀设备产业

全自动磷化线工作流程

1.前处理:晶圆清洗、去氧化层、活化表面。

2.装载:将晶圆固定于旋转载具,浸入镀液。

3.电镀:

施加电流,金属离子在晶圆表面还原沉积。

旋转载具确保镀液流动均匀,消除厚度差异。

4.后处理:镀层退火、清洗、干燥。

技术特点

1.高均匀性:

旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象,镀层均匀性达±5%以内。

2.精密控制:电流密度精度:±1 mA/cm²;温度波动:±0.5℃。

3.洁净度保障:设备内建HEPA过滤系统,满足Class 1000以下洁净环境。

4.高效生产:支持多片晶圆同时处理(如6片/批次),UPH(每小时产量)可达50~100片。

应用场景

1.先进封装:2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。

2.功率器件:IGBT、MOSFET背面金属化(镀银、镀镍)。

3.传感器与MEMS:微结构表面镀金,提升电气性能与可靠性。 定制化电镀设备产业