低噪声罗茨真空泵工作原理

在半导体行业中，罗茨真空泵是芯片制造和封装测试环节的关键设备。该环节对真空度、稳定性和洁净度要求极高，罗茨泵无油污染的特点可避免芯片被油蒸汽污染，稳定的抽速能保证工艺环境真空度恒定，通常需搭配高真空前级泵组成机组，用于薄膜沉积、离子注入等**工序。化工行业中，罗茨泵广泛应用于物料输送、混合及干燥过程。针对化工生产中的腐蚀性气体，可采用耐腐蚀材质制造的泵体，其大抽速特性能快速建立反应所需的真空环境，缩短反应周期。在真空蒸馏工艺中，它能有效降低物料沸点，避免热敏性物质分解，提升产品质量和收率。真空冶金中，罗茨泵用于冶炼、脱气、轧制工艺，抽除金属熔炼产生的杂质气体，提升材料纯度。低噪声罗茨真空泵工作原理

罗茨真空泵是一种旋转式变容真空泵，**工作部件为泵腔内一对 “8” 字形转子。这两个转子相互垂直安装在平行轴上，由传动比为 1 的齿轮驱动，做反向同步旋转运动。转子间、转子与泵壳内壁间保持 0.1~0.8 毫米的微小间隙，既不接触又能实现高转速运行。当转子转动时，进气口侧形成封闭空间吸入气体，随转子旋转推送至排气口，因排气侧压强大，部分气体返冲后被排出，完成抽气循环。其工作过程可按转子旋转角度拆解：0° 时，下转子封入定量气体；45° 时该封闭空间与排气口相通，高压气体返冲；90° 时，封入气体与返冲气体一同排出，同时上转子完成吸气；135° 时上转子封闭空间与排气口相通，重复排气过程，主轴旋转一周共排出四倍封入体积的气体。这种无内压缩的工作方式决定其压缩比低，中高真空应用需搭配前级泵。
河北低噪声罗茨真空泵罗茨泵压缩比较低，对氢气等轻质气体抽气效果差，需配合其他真空泵使用以提升对特殊气体的抽除能力。

碳化硅单晶生长对真空环境的极限压力与稳定性要求严苛，罗茨真空泵通过与涡轮分子泵联用满足工艺需求。在单晶炉升温阶段，其先将炉内压力从大气压快速降至 10³Pa，抽除炉腔残留空气与水分；随着温度升至 2000℃以上，罗茨真空泵接力抽气，配合液氮冷阱将压力进一步降至 10⁻⁶Pa，为碳化硅晶体生长提供超高真空环境。其 6000rpm 以上的高转速转子能快速抽除晶体生长过程中释放的硅蒸汽与杂质气体，减少单晶缺陷；动态压力调节能力可应对生长过程中的突发气体释放，抽速波动率＜5%，保障晶体尺寸均匀性与电学性能。该设备还具备耐腐蚀涂层，能耐受碳化硅生长环境中的微量腐蚀性气体，延长使用寿命。

生物医药冻干工艺中，罗茨真空泵承担关键的水分抽取任务。在药品冷冻干燥过程中，它需与冻干机配套使用，将腔室压力降至 1-10 Pa，使药品中的冰晶体直接升华。其稳定的抽速能确保升华速率均匀，避免药品出现萎缩、分层等问题，保障药效稳定性。用于该领域的罗茨泵需通过 GMP 认证，腔体表面经过抛光处理，便于清洁消毒，防止交叉污染。在半导体刻蚀工艺中，罗茨真空泵负责抽取反应腔体中的腐蚀性气体与副产品。为应对严苛工况，泵体腔体采用哈氏合金等耐腐蚀材质，密封件选用全氟橡胶，能抵抗氟基、氯基等腐蚀性气体侵蚀。其高抽速特性可及时排出反应产物，防止沉积物堵塞腔体，保证刻蚀图案的精度与均匀性，对 7 纳米及以下制程的芯片制造至关重要。罗茨真空泵运行平稳，保障真空工艺持续稳定。

罗茨真空泵具有抽速大、效率高、对被抽气体中的灰尘和水蒸汽不敏感等特点，在100-1帕压力范围内有较大抽气速率，能迅速排除突然放出的气体。它常被串联在扩散泵与油封式机械真空泵之间，作为机械增压泵使用，以提高中间压力范围的抽气量。在工业领域，罗茨真空泵广泛应用于真空冶金中的真空浇铸、真空熔炼、真空脱气等工艺，以及化工、食品、医药行业的真空蒸馏、真空浓缩和真空干燥等过程。在电子行业，它用于半导体制造工艺，如薄膜沉积、光刻、蚀刻等环节，确保反应室的真空度，保证工艺的精确控制。此外，罗茨真空泵还在环保领域用于处理工业废气，通过抽真空有效去除有害气体，保护环境。罗茨真空泵转速可达 3450~4100 转 / 分，转子表面线速度接近气体分子热运动速度。水冷式罗茨真空泵批发

芯片封装用智能罗茨真空泵组，提升良率缩短周期。低噪声罗茨真空泵工作原理

真空电弧自耗炉铸锭需在稳定低压环境中控制凝固组织，罗茨真空泵的精细控压能力至关重要。在发电机轴用合金钢锭铸锭中，其可将结晶器内真空度维持在 0.1Pa 左右，抽除凝固过程中释放的气体，减少钢锭疏松与偏析缺陷；配合感应搅拌系统，能促进铸锭结晶均匀致密，提升力学性能。对于大直径钛锭铸锭，罗茨真空泵的高抽速特性可在铸锭生长过程中实时抽除熔体释放的内应力气体，配合水冷结晶器实现定向凝固，使铸锭内部质量达到 ASME 1320 中 7 级标准。其还支持惰性气体保护铸锭，在抽真空后充入氩气防止铸锭表面氧化，保障铸锭表面光洁度与尺寸精度。低噪声罗茨真空泵工作原理

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