高精密仪器纳米压印轮廓测量应用

HERCULES®NIL：完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸（分辨率取决于过程和模板）

■结合了预处理（清洁/涂布/烘烤/冷却）和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离，可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力

EVG®770：连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造，直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配，压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制

EVG先进的多用户概念可以适应从初学者到专家级别的所有需求，因此使其成为大学和研发应用程序的理想选择。高精密仪器纳米压印轮廓测量应用

    首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层，然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上，弹性薄膜压印在巯基-烯层上，与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物，不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后，弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起，获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性，刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此，利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板，经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》（JournalofNanoscienceandNanotechnology）。（来自网络。芯片纳米压印质保期多久岱美仪器代理的SmartNIL是一项关键的启用技术，可用于显示器，生物技术和光子应用中的许多新创新。

EVG610特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形误差补偿机制

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和光刻工艺之间的转换

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG610附加功能：

键对准

红外对准

纳米压印光刻 

µ接触印刷

EVG610技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：比较大150毫米的碎片

柔软的UV-NIL：比较大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：柔软的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

自动分离：不支持

工作印章制作：外部

EVG ® 720自动SmartNIL

® UV纳米压印光刻系统

自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL ®技术

EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知识，能够大规模制造微米和纳米级结构。具有SmartNIL技术的EVG720系统能够在大面积上印刷小至40 nm *的纳米结构，具有****的吞吐量，非常适合批量生产下一代微流控和光子器件，例如衍射光学元件（ DOEs）。

*分辨率取决于过程和模板

如果需要详细的信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。也可以访问官网，获得更多信息。 EVG ® 6200 NT是SmartNIL UV紫外光纳米压印光刻系统。

纳米压印应用三：连续性UV纳米压印

EVG770是用于步进重复纳米压印光刻的通用平台，可用于有效地进行母版制作或对基板上的复杂结构进行直接图案化。这种方法允许从比较大50 mm x 50 mm的小模具到比较大300 mm基板尺寸的大面积均匀复制模板。与钻石车削或直接写入方法相结合，分步重复刻印通常用于高 效地制造晶圆级光学器件制造或EVG的SmartNIL工艺所需的母版。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

纳米压印设备可用来进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。半导体设备纳米压印研发可以用吗

EVG提供不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。高精密仪器纳米压印轮廓测量应用

EVG ® 6200 NT特征：

顶部和底部对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持***的UV-LED技术

**小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念（无限数量的用户帐户和程序，可分配的访问权限，不同的用户界面语言）

敏捷处理和转换工具

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG ® 6200 NT附加功能：

键对准

红外对准

智能NIL ®

µ接触印刷技术数据

晶圆直径（基板尺寸）

标准光刻：75至200 mm

柔软的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：软UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外线LED光源

对准：软NIL：≤±0.5 µm；SmartNIL ®：≤±3微米

自动分离：柔紫外线NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔软的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

高精密仪器纳米压印轮廓测量应用