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等离子去胶机在PCB板制造中的线路去胶与表面活化应用PCB板线路制造中，等离子去胶机替代传统化学脱胶，避免了基材腐蚀。等离子去胶机...
终点检测是设备的关键功能，通过实时监测刻蚀过程中的信号（如光学发射光谱、激光干涉信号），判断刻蚀是否达到目标深度或完全去除目标材料...
在芯片制造的缺陷修复环节，等离子刻蚀机可对微小缺陷（如多余的材料凸起）进行精细刻蚀去除。通过缩小刻蚀区域、降低粒子能量，实现对缺陷...
等离子去胶机设备**结构——真空腔体的设计要点真空腔体作为反应容器，设计需兼顾密封性、耐腐蚀性与易维护性。材质选用304或316L...
在半导体芯片制造中，等离子去胶机是贯穿“光刻-蚀刻-封装”全流程的关键设备，主要应用于两个**环节。一是光刻后去胶，去除晶圆边缘及...
南通晟辉微电子科技有限公司，位于南通苏锡通产业园区未来岛园区12号厂房，面积1755平米。是由上海交大刘鹏博士创办，团队主要人员在等离子和半导体领域有10年以上的工作经验。公司注重研发，拥有专业的研发团队和先进的研发实验室，已经和国内多家高校和科研院所建立了战略合作。南通晟辉定位于等离子技术的深度研发、产品形成梯次系列化，服务于电子信息产和新材料行业的微纳加工工艺，为客户提供全套的等离子系统方案。
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