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企业商机 - 江苏三责新材料科技股份有限公司
  • 低膨胀系数半导体碳化硅卧式晶舟是专为半导体晶圆热处理过程设计的高性能载具,其突出的功能特性是极低的热膨胀系数,这一特性确保了快速升降温过程中晶舟的尺寸稳定性,有效防止热应力对晶圆的影响。晶舟采用一体化...

  • 凭借其优异的耐高温性能和化学稳定性,高纯度高温窑具锟棒已成为陶瓷制造的必备设备。其设计理念融合了材料科学和热工学的前沿成果,这种锟棒采用高纯度碳化硅材料,通过挤出成型和高温烧结工艺制成,具有优异的高温...

  • 制备高质量反应烧结碳化硅陶瓷是一项高度依赖精密控制的多步骤系统工程,其关键在于对原料特性、成型工艺及烧结条件的严格把控。选用粒度分布适宜的碳化硅粉体作为原料,并加入碳源及其他添加剂,再通过注浆或等静压...

  • 反应烧结碳化硅因其低热膨胀系数而成为精密光学和半导体制造领域的理想材料。实际生产中,材料密度通常在3.05-3.15g/cm³范围内波动,常见偏差约±0.05g/cm³,这种微小变化会影响热膨胀系数、...

  • 高温氧化环境对材料提出了严峻挑战,传统金属材料在此类环境中往往难以长期使用。抗氧化反应烧结碳化硅应运而生,为这一难题提供了创新解决方案。这种先进陶瓷材料通过精密控制的反应烧结工艺制备而成,在微观结构上...

  • 反应烧结碳化硅舟托是光伏行业重要的关键部件,其特别的材料特性和精湛的制造工艺赋予了它良好的性能。这种舟托采用高纯度碳化硅粉体为原料,通过精密的配方设计和先进的反应烧结技术制成。其优点在于良好的耐高温性...

  • 在选择反应烧结碳化硅供应商时,需要从多个维度进行综合评估。质量稳定的反应烧结碳化硅应具有高硬度、良好的耐温性和化学稳定性。具体到数据上,抗弯强度应不低于280MPa,使用温度应达到1350℃,同时还要...

  • PVD工艺对载盘材料提出了严格要求,碳化硅陶瓷的高弹性模量特性使其在PVD载盘应用中表现良好。这种材料在受力时变形微小,能够较好地维持几何精度,确保晶圆在沉积过程中保持平整,从而提高薄膜的均匀性和质量...

  • 在半导体高温工艺中,材料的抗氧化性能直接关系到产品质量和设备寿命。碳化硅凭借其良好的抗氧化特性,成为这一领域的常用材料。在高达1300℃的氧化环境中,碳化硅表面会形成一层致密的二氧化硅保护膜,有效阻止...

  • 半导体制造过程中,热管理是贯穿始终且具有挑战性的技术环节。高导热系数的碳化硅陶瓷部件为这一问题提供了有效解决方案。碳化硅的热导率高于常见的陶瓷材料。这种良好的导热性能使碳化硅陶瓷在半导体热管理中具有重...

  • 无压烧结碳化硅的密度这个看似简单的数值,实际上是一个复杂工艺过程的体现。通过精心设计的制备工艺,这种先进陶瓷材料能够实现接近理论密度的高致密度,通常在3.10-3.18g/cm³范围内。达到如此高的密...

  • 反应烧结碳化硅的气孔率是一个关键技术参数,直接影响材料的多项性能指标。质量较高的产品通常将气孔率控制在2%以下,这得益于特别的制备工艺。成型阶段通过精确控制粉体粒度分布和压制参数,减少初始气孔。高温烧...

  • 在半导体制造过程中,设备部件的耐磨性直接影响着生产效率和产品质量。耐磨半导体碳化硅材料凭借其独特的物理和化学性质,成为解决这一问题的关键。碳化硅的高硬度(莫氏硬度9.5)和强度使其具备良好的耐磨性能,...

  • 高温环境下的高效散热一直是工程难题,高导热无压烧结碳化硅盘为此提供了创新解决方案,这种新型陶瓷材料融合了碳化硅的优异性能和无压烧结工艺的独特优势,开辟了热管理新思路。传统金属散热材料在高温下易变形氧化...

  • 抗氧化耐高温窑具是现代陶瓷烧成工艺中不可或缺的承载与隔离部件,它们的主要优势在于良好的抗氧化性能和高温稳定性,能在严苛窑炉环境中长期稳定工作。典型产品包括棚板、匣钵、吊烧棒等,通常由高纯度碳化硅或氮化...

  • 挤出无压烧结碳化硅产品凭借其独特的制造工艺和优异的性能,在多个领域展现出应用潜力。这类产品通常以超细碳化硅微粉为原料,配合B4C-C烧结助剂,经过精心设计的工艺流程制成。挤出成型赋予了产品独特的形状和...

  • 半导体行业对材料纯度的要求极其苛刻,而高纯度碳化硅正是满足这一需求的理想选择。碳化硅的高纯度特性体现在其极低的杂质含量和优异的化学稳定性上。通过先进的合成和纯化技术有效减少了半导体器件中的杂质污染。高...

  • 山东高纯度高温窑具系数 发布时间:2025.10.19

    高温窑具中的热辐射板,其热传递效率与温度分布均匀性,是影响整体热处理工艺效能和制品质量的主要因素之一。碳化硅凭借其独特属性,成为制造热辐射板的理想材料。碳化硅的高热导率确保热量能迅速均匀分布在整个板面...

  • 热交换领域的技术革新离不开高性能材料的支持,无压烧结碳化硅凭借其独特优势正在改变这一行业格局。模压无压固相烧结碳化硅陶瓷,这种材料采用超细碳化硅微粉和B4C-C烧结助剂,通过干压或等静压成型,在210...

  • 碳化硅外延片的抗氧化性能是其在半导体领域广受关注的关键因素之一,与传统硅材料相比,碳化硅在高温环境下表现出良好的抗氧化能力,这源于其表面会形成一层致密的二氧化硅保护膜。这层保护膜不仅阻止了进一步的氧化...

  • 在半导体制造的精密检测环节中,凸点吸盘为晶圆提供稳定支撑与精确定位,保障检测过程的平稳运行。面对各种腐蚀性气体和化学品的挑战,碳化硅陶瓷凭借良好的耐腐蚀性能,成为制作凸点吸盘的常用材料。这种材料能在酸...

  • 高弹性模量是碳化硅在半导体领域另一个受到关注的特性,在受力时碳化硅部件能够保持较高的刚度,几乎不会发生弹性变形。这一特性在精密加工领域尤为重要。试想一下,在半导体光刻过程中,如果承载晶圆的载盘发生微小...

  • 高纯反应烧结碳化硅陶瓷在半导体制造领域提供了创新的材料解决方案。面对半导体工艺日益苛刻的要求,传统材料往往难以满足高纯度、高稳定性和长寿命的需求,高纯碳化硅陶瓷正是针对这些挑战而开发的。在晶圆制造过程...

  • 若要充分发挥反应烧结碳化硅悬臂杆的各项性能,必须首先确保其在实际应用过程中得到规范、准确地操作执行。安装前请仔细检查悬臂杆表面是否有裂纹或缺陷,安装时使用专门用于安装的工具,避免直接接触悬臂杆表面。调...

  • 挤出反应烧结碳化硅陶瓷是一种特别的碳化硅材料,其制备工艺融合了挤出成型和反应烧结两大技术优点。该工艺的具体实现过程包括选用不同粒径的碳化硅粉体作为主要原料,加入适量的碳源、粘结剂和乳化剂等添加剂。这些...

  • 反应烧结碳化硅因其低热膨胀系数而成为精密光学和半导体制造领域的理想材料。实际生产中,材料密度通常在3.05-3.15g/cm³范围内波动,常见偏差约±0.05g/cm³,这种微小变化会影响热膨胀系数、...

  • 半导体行业对材料的导热性能要求极为苛刻,在高功率密度和高频应用中,热管理成为关键挑战。碳化硅凭借其优良的导热性能,正逐步成为半导体器件的理想选择材料。其导热系数是硅材料的3倍多。这一特性使碳化硅能迅速...

  • 反应烧结碳化硅以其出色的硬度著称,这一特性使其在众多高技术制造领域占据重要地位。深入了解其技术参数,有助于工程师和设计师更好地评估和应用这种先进材料。反应烧结碳化硅的维氏硬度一般在2500HV以上,部...

  • 耐强碱反应烧结碳化硅密度 发布时间:2025.10.17

    凝胶注模反应烧结碳化硅的制备过程涉及复杂的技术细节。这种方法无需传统的造粒步骤,而是直接将不同粒径的碳化硅微粉与炭源混合到特制的预混液中。预混液由单体、交联剂、水及多种功能助剂组成,每种成分的配比都经...

  • 工业应用中,反应烧结碳化硅横梁展现出特别优点,尤其在需要高耐温和高耐腐蚀性能的场景中。这种材料制成的横梁具有良好的抗弯强度,通常超过280MPa,是传统石英材料的三倍。这意味着在承受相同负载时,碳化硅...

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