推荐的，所述制备装置主体的两端紧密贴合有防烫隔膜。推荐的，所述高效搅拌装置是由内部顶部中间部位的旋转摇匀转盘，内部顶部两侧的震荡弹簧件，震荡弹簧件顶端的运转电机组，运转电机组顶端的控制面板，内部中间部位的致密防腐杆和致密防腐杆内部内侧的搅动孔共同组合而成。推荐的，所述注入量精确调配装置是由盐酸装罐内部一侧的嵌入引流口，嵌入引流口一端的负压引流器，负压引流器一端的注入量控制容器，注入量控制容器内部内侧的注入量观察刻度线和注入量控制容器一侧的限流销共同组合而成。与现有技术相比，本种实用新型的有益效果是:1.通过设置高效搅拌装置，该装置通过运转电机组驱动旋转摇匀转盘，使旋转摇匀转盘带动高效搅...

经除雾组件3除雾后的气体会夹带着泡沫，泡沫中还是含有铜元素，为进一步提高回收效率，需对气体和泡沫进行分离，泡沫与丝网碰撞时会吸附在丝网的细丝表面，细丝表面上泡沫不断累积和泡沫的重力沉降，使泡沫形成较大的液滴沿细丝流至两根丝的交点，当液滴累积至其自身产生的重力超过气体的上升力和液体表面张力合力时，液滴就从细丝上分离下落，气体在通过丝网除沫后，基本上不含泡沫。在一个实施例中，如图1所示，所述分离器设有液位计7、液位开关9、液相气相温度传感器6和压力传感器8。蒸汽从加热器11到分离器会因分离器内压力小而发生闪蒸，产生二次蒸汽，使气液分离的效率更高，所以要维持分离器内的压力不变，通过观察液位计...

可以维持合适的蚀刻速度且提高sin/sio2选择比。(b)硅烷系偶联剂本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶联剂作为防蚀剂可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化时使用。上述硅烷系偶联剂推荐使上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量之后乘以，更推荐满足。上述硅烷系偶联剂推荐按照蚀刻液组合物的蚀刻程度(etchingamount，e/a)满足以上以下的范围的浓度来添加。上述硅烷系偶联剂推荐为选自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、双(三...

内部顶部两侧的震荡弹簧件14，震荡弹簧件14顶端的运转电机组13，运转电机组13顶端的控制面板15，内部中间部位的致密防腐杆16和致密防腐杆16内部内侧的搅动孔17共同组合而成，由于盐酸硝酸具有较强的腐蚀性，常规的搅拌装置容易被腐蚀，影响蚀刻液的质量，用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌，成本过高，且混合的效果不好，通过设置高效搅拌装置2，该装置通过运转电机组13驱动旋转摇匀转盘12，使旋转摇匀转盘12带动高效搅拌装置2进行旋转摇匀，同时设置的震荡弹簧件14可通过驱动对高效搅拌装置2进行震荡摇匀，高效搅拌装置2内部的蚀刻液通过内置的致密防腐杆16，致密防腐杆16内部的搅动孔17能够使蚀刻...

可以维持合适的蚀刻速度且提高sin/sio2选择比。(b)硅烷系偶联剂本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶联剂作为防蚀剂可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸氧化时使用。上述硅烷系偶联剂推荐使上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量之后乘以，更推荐满足。上述硅烷系偶联剂推荐按照蚀刻液组合物的蚀刻程度(etchingamount，e/a)满足以上以下的范围的浓度来添加。上述硅烷系偶联剂推荐为选自由原硅酸四乙酯(tetraethylorthosilicate)、双(三...

该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12，以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13，其主要特征在于：该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121。该***挡板11与该第二挡板12呈正交设置，且该第二挡板12与该第三挡板13呈正交设置，以使该***挡板11、该第二挡板12与该第三挡板13围设成一凹槽的态样，在一实施例中，该***挡板11、该第二挡板12与该第三挡板13可以为一体成形，其中该第二挡板12的长度h介于10cm至15cm之间，而该等开设于该第二挡板12上的宣泄孔121可呈千鸟排列或矩阵排列等其中的一种排列的态样，且该宣...

技术实现要素：本实用新型所解决的技术问题即在于提供一种挡液板结构与以之制备的蚀刻设备，尤其是指一种适用于湿式蚀刻机的挡液排液功能且增加其透气性以降低产品损耗的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备，主要借由具有复数个宣泄孔的挡液板结构搭配风刀装置的硬体设计，有效使风刀装置吹出的气体得以经由宣泄孔宣泄，并利用水滴的表面张力现象防止水滴由宣泄孔落下造成基板显影不均等异常现象，确实达到保有原始挡液板的挡液效果，以及增加透气性以破除真空以减少因真空吸板导致的基板刮伤或破片风险等主要优势。本实用新型所采用的技术手段如下所述。为了达到上述的实施目的，本实用新型提出一种挡液板结构，适用于一湿式蚀刻机，挡液板...

也不能在回收结束后对装置内部进行清理的问题。为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种废铜蚀刻液的回收处理装置，包括装置主体，所述装置主体内部中间位置固定安装有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中间位置固定安装有承载板，所述承载板上端表面放置有电解池，所述电解池内部中间位置设置有隔膜，所述装置主体上端表面靠近右侧安装有进液漏斗，所述进液漏斗上设置有过滤网，所述装置主体内部靠近顶端设置有进液管，所述进液管左端连接有伸缩管，所述伸缩管下端安装有喷头，所述装置主体上端表面靠近左侧固定安装有液压缸，所述液压缸下端安装有伸缩杆，所述伸缩杆下端固定安装有圆环块，所述圆环块与喷头之间固定连接有连接杆，...

ITO显影剂也称为造影剂或对比剂，是一种X光无法穿透的药剂，用于让体内组织在X光检查时能看得更清楚。例如消化道摄影时，医师会让患者喝下一杯显影剂溶液（大多含钡），然后用各种角度照相，就能让胃肠道看得很清楚。如果显影只是在光强较大的地方产生游离银，而对底片不做进一步处理，则把它一拿出暗室，未显影的卤化银就会立刻曝光。此后，几乎任何还原剂都将使底片完全形成灰雾。为了克服这个问题，必须找到一种适当的物质以除去未还原的卤化银。黑白照相中较常用的定影液是硫代硫酸钠溶液。其中的硫代硫酸根离子（S2O32-）与银离子形成可溶于水的稳定配合物，因而达到“固定”底片的目的。ITO显影液的市场需求会随着电子行业的...

使硝酸钾储罐21和其它储罐的内部形成一个密闭的空间，避免环境外部的杂质进入储罐内，有效的提高了装置使用的密封性；紧接着，将磷酸与醋酸在个搅拌仓23中充分搅拌混合均匀，然后在第二个搅拌仓23中与硝酸充分搅拌混合均匀后，再进入配料罐中混合，将阴离子表面活性剂和聚氧乙烯型非离子表面活性剂在第三个搅拌仓23混合后再进入第四个搅拌仓23中，与氯化钾、硝酸钾、去离子水一起在第四个搅拌仓23中混合均匀，然后过滤后封装，先检查过滤板26进行更换或安装，过滤部件9的内部两侧嵌入连接有过滤板26，常规的生产方法是将蚀刻液中的各组份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差，蚀刻液杂质含量多，过滤板26能将蚀刻...

为本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔排列示意图，以及其三较佳实施例的宣泄孔排列示意图，在本实用新型其二较佳实施例中，开设于该第二挡板12上的宣泄孔121亦呈千鸟排列的直通孔态样，且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离，例如：图4中所示的w1，其中w1大于图3的w或图5的w2，其中w2大于w，而该宣泄孔121的一孔径a0亦小于3mm，以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象，若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时，则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面，但仍旧可以提供空气宣泄的管道，以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。此外，请参阅图6与图7所示...

本发明涉及回收处理技术领域，具体为一种废铜蚀刻液的回收处理装置。背景技术：废铜蚀刻液含有可回收的金属，所以需要进行回收处理，目前通用的做法是，使用化学方法回收废液内的铜，或提炼成硫酸铜产品，工艺落后，铜回收不彻底，处理的经济效益不明显，有二次污染污染物排放，一旦处理不当往外排放，势必对水体生态系统造成大的冲击。市场上的废铜蚀刻液的回收处理装置只能简单的对蚀刻液进行回收处理，不能对蚀刻液进行循环电解，使得剩余蚀刻液中的铜离子转化不充分，而且蚀刻液导入到电解池中会对电解池造成冲击，进而影响电解池的使用寿命，并且在回收处理中会产生有害气体而影响空气环境，也不能在回收结束后对装置内部进行清理，...

如前文所述，必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题，因此，该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小，例如：孔径a0小于3mm，即可因毛细现象的作用，亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4，而达到防止位于该第二挡板12的该上表面123的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图9所示)。再者，请再参阅图10至图12所示，为本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图、其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图，以及宣泄孔的表面张力局部放大图，其中该宣...

推荐的，所述制备装置主体的两端紧密贴合有防烫隔膜。推荐的，所述高效搅拌装置是由内部顶部中间部位的旋转摇匀转盘，内部顶部两侧的震荡弹簧件，震荡弹簧件顶端的运转电机组，运转电机组顶端的控制面板，内部中间部位的致密防腐杆和致密防腐杆内部内侧的搅动孔共同组合而成。推荐的，所述注入量精确调配装置是由盐酸装罐内部一侧的嵌入引流口，嵌入引流口一端的负压引流器，负压引流器一端的注入量控制容器，注入量控制容器内部内侧的注入量观察刻度线和注入量控制容器一侧的限流销共同组合而成。与现有技术相比，本种实用新型的有益效果是:1.通过设置高效搅拌装置，该装置通过运转电机组驱动旋转摇匀转盘，使旋转摇匀转盘带动高效搅...

ITO显影剂也称为造影剂或对比剂，是一种X光无法穿透的药剂，用于让体内组织在X光检查时能看得更清楚。例如消化道摄影时，医师会让患者喝下一杯显影剂溶液（大多含钡），然后用各种角度照相，就能让胃肠道看得很清楚。如果显影只是在光强较大的地方产生游离银，而对底片不做进一步处理，则把它一拿出暗室，未显影的卤化银就会立刻曝光。此后，几乎任何还原剂都将使底片完全形成灰雾。为了克服这个问题，必须找到一种适当的物质以除去未还原的卤化银。黑白照相中较常用的定影液是硫代硫酸钠溶液。其中的硫代硫酸根离子（S2O32-）与银离子形成可溶于水的稳定配合物，因而达到“固定”底片的目的。ITO显影液的市场需求会随着电子行业的...

以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部，该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的***风刀41，以及一设置于该基板20下方的第二风刀42，其中该***风刀41与该第二风刀42分别吹出一气体43至该基板20，以将该基板20上的一药液51带往与相反于该基板20的行进方向，以使该基板20上该药液51减少，其中该气体43远离该***风刀41与该第二风刀42的方向分别与该基板20的法线方向夹设有一第三夹角θ3，且该第三夹角θ3介于20度至35度之间。此外，请一并参阅图8与图9所示，为本实用新型蚀...

对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。实施例一，请参阅图1-4，本实用新型提供技术方案：高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置，包括装置主体1、支撑腿2、电源线3和单片机4，装置主体1的底端固定连接有支撑腿2，装置主体1的后面一侧底部固定连接有电源线3，装置主体1的一侧中间部位固定连接有控制器5，装置主体1的内部底端一侧固定连接有单片机4，装置主体1的顶部一端固定连接有去离子水储罐14，装...

图7：本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构运作局部放大图。图8：本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图9：本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图10：本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图11：本实用新型蚀刻设备其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图12：本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图13：本实用新型蚀刻方法的步骤流程图。图号说明：传统挡液板结构a挡液板结构b风刀c气体本实用新型1蚀刻设备10挡液板结构11***挡板12第二挡板121宣泄孔1211**...

所述装置主体的内部底部中间部位固定连接有常闭式密封电磁阀，所述连接构件的内侧固定连接有过滤部件，所述装置主体的内部底端另一侧固定连接有收集仓，所述收集仓的另一侧底部固定连接有密封阀门，所述过滤部件的顶端两侧活动连接有滑动盖，所述过滤部件的内部中间两侧固定连接有收缩弹簧管，所述连接构件的内侧两端嵌入连接有螺纹管，所述连接构件的内部中间两侧活动连接有活动轴，所述连接构件的内侧中间两侧嵌入连接有密封软胶层。推荐的，所述硝酸钾储罐的顶部嵌入连接有密封环。推荐的，所述连接构件的两侧嵌入连接有海绵层。推荐的，所述支撑腿的底端嵌入连接有防滑纹。推荐的，所述过滤部件的内部两侧嵌入连接有过滤板。推荐的，...

铝板面蚀刻用：酸、碱都行。（铝板是两性材料，既能与酸反应，又能与碱反应，所以腐蚀液有的用碱性材料腐蚀，有的用酸性材料腐蚀，一般情况下，以酸性材料腐蚀的为多，碱性材料可以洗白。下好料的铝板用枣木碳研磨，去掉油腻、划痕，磨出哑光表面。然后用丝网版印上纹样，油墨型号为80-39、80-59、80-49等。这种耐腐蚀油墨细腻，印出的纹样质量高。印完纹样后放进电炉内烘干，然后用即时贴封住后面，用胶带封边，进入腐蚀工艺。铝板的腐蚀液配方如下：三氯化铁50%硫酸铜50%水适量，波美度15～20°之间，铝板腐蚀时应平放，在腐蚀的过程中纹样上溢出赭红色的滓渣，应随时用毛刷去掉，铝面上冒出大量泡泡，滓渣随泡泡浮起...

避免连接构件11的两侧与操作人员的手接触的时候，会因操作人员的手沾湿出现手滑的情况，有效的保证了装置内部构件的连接工作能正常的进行。推荐的，支撑腿2的底端嵌入连接有防滑纹6，在制备蚀刻液的时候，需要将装置固定的特定的位置，通过支撑腿2将装置主体1进行支撑固定，在支撑腿2与固定位置的接触面接触时，防滑纹6能增大支撑腿2的底端与固定接触面的摩擦力，使装置主体1能有足够的抓地力固定在固定位置上，有效的提高了装置固定的防滑性。推荐的，过滤部件9的内部两侧嵌入连接有过滤板26，常规的生产方法是将蚀刻液中的各组份在同一容器中一起混合，其分散混合性能差，蚀刻液杂质含量多，过滤板26能将蚀刻液内部的杂...

所述液体入口1处设有减压阀12，所述蒸汽出口5处设有真空泵13、除雾组件3及除沫组件4，所述除雾组件3用于过滤分离器中闪蒸的蒸汽中的含铜液体，所述除沫组件4用于将经除雾组件3除雾的气体进行除沫。含铜蚀刻液在加热器11中进行加热，达到闪蒸要求的温度，输送至分离器，通过减压阀12减压，真空泵13对分离器内抽气，使分离器内处于低压状态，含铜蚀刻液在分离器内发生闪蒸，闪蒸产生大量蒸汽，蒸汽中携带着大小不等的液滴，大液滴中含有铜，通过除雾组件3和除沫组件4对蒸汽进行分离过滤，也可以防止大液滴从蒸汽出口5飞出，减少产品损失。在一个实施例中，如图1所示，所述除雾组件3为设有多个平行且曲折的通道的折流...

本发明涉及铜蚀刻液技术领域，具体涉及一种酸性铜蚀刻液的生产工艺。背景技术：高精细芯片和显示集成电路主要采用铜制程，其光刻工艺中形成铜膜层结构所需用的铜刻蚀液中主要的为过氧化氢系铜刻蚀液。过氧化氢系铜蚀刻液较其他铜刻蚀液体系(如三氯化铁体系，过硫酸铵体系)具有不引人其他金属离子在铜层表面或线路体系中，产物亲和、友好、环境污染少，刻蚀效率高且使用寿命较长的特点。大部分过氧化氢系铜刻蚀液包括参与氧化的过氧化氢组分、参与溶解的无机酸/有机酸组分，以及部分铜缓蚀剂等各类添加三个部分。由于铜蚀刻液中各物质的反应为放热反应，体系中又含有过氧化氢在制备铜蚀刻液的生产过程中需要保证生产安全。技术实现要素...

将装置主体1内部的蚀刻液进行清洗，具有很好的清理作用。工作原理：对于这类的回收处理装置，首先将蚀刻液倒入进液漏斗6并由过滤网7过滤到进液管8中，之后蚀刻液流入到承载板3上的电解池4中时，启动液压缸11带动伸缩杆12向上移动，从而通过圆环块13配合连接杆14和伸缩管9带动喷头10向上移动，进而将蚀刻液缓慢的由喷头10喷入到电解池4中，避免蚀刻液对电解池4造成冲击而影响其使用寿命，具有保护电解池4的功能，之后金属铜在隔膜5左侧析出；其次在蚀刻液初次电解后，通过控制面板30启动增压泵16并打开一号电磁阀18，将蚀刻液通过回流管15抽入到一号排液管17中，并由进液管8导入到伸缩管9中，直至蚀刻...

步骤一s1：设置一挡液板结构10，其中该挡液板结构10设置有复数个宣泄孔121；该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12，以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13，其中该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121，该复数个宣泄孔121呈千鸟排列的直通孔态样，且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离，其中该宣泄孔121的孔径a0比较好小于3mm，以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象，若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时，则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面122，但仍旧可以提供空气宣泄的管道，以借由该宣泄孔1...

更推荐满足。参照图4，在添加剂(硅烷系偶联剂)的aeff处于，能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良**少化，在硅烷系偶联剂的aeff处于，能够使氧化物膜损伤不良**少。因此，在利用上述范围所重叠范围(规格(spec)满足区间)即aeff为2以上，能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良以及氧化物膜损伤不良**少化。在上述添加剂的aeff值处于上述范围内的情况下，上述添加剂可以具有适宜水平的防蚀能力，由此，即使没有消耗费用和时间的实际的实验过程，也能够选择具有目标防蚀能力的硅烷系偶联剂等添加剂。本发明的上述硅烷系偶联剂等添加剂推荐按照保护对...

蚀刻液也可含有α-羟基羧酸和/或其盐。α-羟基羧酸及其盐具有作为钛的络合剂的效果，可抑制蚀刻液中产生钛的沉淀。作为所述α-羟基羧酸，例如可举出酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羟基羧酸和/或其盐的浓度并无特别限制，从络合效果及溶解性的观点来看，推荐为％至5重量％，更推荐为％至2重量％。另外，蚀刻液也可含有亚硫酸及/或其盐。亚硫酸及其盐具有作为还原剂的效果，可提高钛的蚀刻速度。亚硫酸和/或其盐的浓度并无特别限制，从还原性及臭气的观点来看，推荐为％至％，更推荐为％至％。蚀刻液中除了上述的成分以外，也能以不妨碍本发明效果的程度添加其他成分。作为其他成分，例如可举出表面活性剂、成分稳...

也不能在回收结束后对装置内部进行清理的问题。为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种废铜蚀刻液的回收处理装置，包括装置主体，所述装置主体内部中间位置固定安装有分隔板，所述分隔板左端表面靠近中间位置固定安装有承载板，所述承载板上端表面放置有电解池，所述电解池内部中间位置设置有隔膜，所述装置主体上端表面靠近右侧安装有进液漏斗，所述进液漏斗上设置有过滤网，所述装置主体内部靠近顶端设置有进液管，所述进液管左端连接有伸缩管，所述伸缩管下端安装有喷头，所述装置主体上端表面靠近左侧固定安装有液压缸，所述液压缸下端安装有伸缩杆，所述伸缩杆下端固定安装有圆环块，所述圆环块与喷头之间固定连接有连接杆，...

所述液位计连接有液相气相温度传感器和压力传感器。在其中一个实施例中，所述分离器的侧壁上设有多个视镜。在其中一个实施例中，所述液位计安装于所述分离器的外表面。在其中一个实施例中，所述液位开关为控制阀，设置于所述滤液出口处。在其中一个实施例中，所述加热器为盘管式加热器。在其中一个实施例中，所述分离器底部为锥体形状。上述，利用加热器对含铜蚀刻液进行加热，使其达到闪蒸要求的温度，将加热好的含铜蚀刻液输送至分离器，经过减压阀及真空泵减压，含铜蚀刻液在分离器内发生闪蒸，产生大量蒸汽，蒸汽中携带着大小不等的液滴，通过除雾组件和除沫组件可以防止大液滴从蒸汽出口飞出，减小产品损失。附图说明图1是本实施例...

如前文所述，必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题，因此，该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小，例如：孔径a0小于3mm，即可因毛细现象的作用，亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4，而达到防止位于该第二挡板12的该上表面123的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图9所示)。再者，请再参阅图10至图12所示，为本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图、其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图，以及宣泄孔的表面张力局部放大图，其中该宣...