铜蚀刻液适用于印制版铜的蚀刻,蚀刻速度快。蚀刻速度达4~5um/min。废液回收简单,用于印制板,线路板。本剂也可用于铜工艺品等的蚀刻。蚀刻后的板面平整而光亮。铜蚀刻液的反应速度快、使用温度低、溶...
推荐的,所述制备装置主体的两端紧密贴合有防烫隔膜。推荐的,所述高效搅拌装置是由内部顶部中间部位的旋转摇匀转盘,内部顶部两侧的震荡弹簧件,震荡弹簧件顶端的运转电机组,运转电机组顶端的控制面板,内...
本实用涉及电子化学品生产设备技术领域,具体为高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置。背景技术:近年来,人们对半导体装置、液晶显示器的需求量不断增加的同时,对于这些装置所具有的配线、电极等的微小化...
据权利要求1至3中任一项所述的蚀刻液,其特征在于,进一步含有α-羟基羧酸和/ 或α-羟基羧酸的盐。 根据权利要求4所述的蚀刻液,其特征在于,所述α-羟基羧酸为选自由酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸...
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led...
免责声明本网页所展示的有关【RO清洗剂/纳尔科清洗剂/OSM711清洗剂_清洁剂/清洗剂_深圳市华昊水处理技术有限公司】的信息/图片/参数等由智慧环卫网的会员【深圳市华昊水处理技术有限公司】提...