12、伸缩杆;13、圆环块;14、连接杆;15、回流管;16、增压泵;17、一号排液管;18、一号电磁阀;19、抽气泵;20、排气管;21、集气箱;22、二号排液管;23、二号电磁阀;24、倾斜板;25、活动板;26、蓄水箱;27、进水管;28、抽水管;29、三号电磁阀;30、控制面板。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。请参阅图1-5,本发明提供一种技术方案:一种废铜蚀刻液的回收处理装置,包括装置主体1,装置主体1内部中间位置固定安装有分隔板2,分隔板2左端表面靠近中间位置固定安装有承载板3,承载板3上端表面放置有电解池4,电解池4内部中间位置设置有隔膜5,装置主体1上端表面靠近右侧安装有进液漏斗6,进液漏斗6上设置有过滤网7,装置主体1内部靠近顶端设置有进液管8,进液管8左端连接有伸缩管9,伸缩管9下端安装有喷头10,装置主体1上端表面靠近左侧固定安装有液压缸11,液压缸11下端安装有伸缩杆12。蚀刻液,适用于多种材料,蚀刻效果好。ITO蚀刻液蚀刻液价格
技术实现要素:本实用新型的目的在于提供高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,以解决上述背景技术中提出密封性差,连接安装步骤繁琐的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:高蚀刻速率无残留酸性铝蚀刻液生产装置,包括装置主体、支撑腿、电源线和单片机,所述装置主体的底端固定连接有支撑腿,所述装置主体的后面一侧底部固定连接有电源线,所述装置主体的一侧中间部位固定连接有控制器,所述装置主体的内部底端一侧固定连接有单片机,所述装置主体的顶部一端固定连接有去离子水储罐,所述装置主体的顶部一侧固定连接有磷酸储罐,所述磷酸储罐的底部固定连接有搅拌仓,所述搅拌仓的内部顶部固定连接有搅拌电机,所述搅拌仓的另一侧顶部固定连接有醋酸储罐,所述装置主体的顶部中间一侧固定连接有硝酸储罐,所述装置主体的顶部中间另一侧固定连接有阴离子表面活性剂储罐,所述阴离子表面活性剂储罐的另一侧固定连接有聚氧乙烯型非离子表面活性剂储罐,所述装置主体的顶部另一侧固定连接有氯化钾储罐,所述装置主体的顶部另一端固定连接有硝酸钾储罐,所述装置主体的内部中间部位固定连接有连接构件。ITO蚀刻液蚀刻液价格苏州有哪些公司可以做蚀刻液。
提高反应体系的稳定性。当体系中加入过氧化氢后有助于提高过氧化氢的稳定性,避免由于过氧化氢分解而引发的,提高生产的安全性。具体实施方式下面结合实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。一种酸性铜蚀刻液的生产工艺,所述工艺包括以下步骤:第一步:将纯水进行低温处理,使纯水温度≤10℃在纯水罐中备用;纯水罐中设有通过电路控制的电磁阀,当纯水温度高于10℃时,电磁阀无法打开。第二步:配制和准备原料,将亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸分别投入对应的原料罐中,经过过滤器循环过滤,备用;将hno3、四甲基氢氧化铵、h2o2分别投入对应的原料罐,备用。亚氨基二乙酸、氢氟酸和乙醇酸需要稀释后使用,hno3、四甲基氢氧化铵、h2o2无需调配可直接用于制备蚀刻液。第三步:根据混酸配制表算出各个原料的添加量,按照纯水→亚氨基二乙酸→氢氟酸→hno3→四甲基氢氧化铵→乙醇酸的顺序依次将原料加入调配罐,将上述混料充分搅拌,搅拌时间为3~5h。第四步:在第三步的混料中再添加h2o2,继续搅拌混匀,搅拌时间为3~5h,用磁力泵将混合液通过过滤器循环过滤。
负的值表示厚度减小。上述蚀刻液组合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜为特征,上述氧化物膜推荐包含sio2,上述氮化物膜推荐包含sin。上述蚀刻液组合物用于3dnand闪存制造工序,能够使上述氮化物膜去除工序中发生的副反应氧化物的残留和氧化物膜损伤不良问题**少化。本发明的蚀刻液组合物包含如上选择的添加剂,在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻氮化物膜时,能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良(参照图2)以及氮化物膜虽被完全去除但也造成氧化物膜损伤(damage)的工序不良(参照图3)的发生**少化。因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良在添加剂的防蚀能力强于适宜水平时发生,氧化物膜不良在添加剂的防蚀能力弱于适宜水平时发生。以下,对于本发明的蚀刻液组合物中所包含的磷酸、作为添加剂的硅烷(silane)系偶联剂以及进行更详细的说明。(a)磷酸本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述磷酸(phosphoricacid)作为主氧化剂可以在使氮化物膜氧化时使用。相对于组合物总重量,上述磷酸的含量为50~95重量%,推荐为80~90重量%。在上述磷酸的含量处于上述含量范围内的情况下。BOE蚀刻液的生产厂家。
该宣泄孔121的上孔径a1与下孔径a2亦不相等,且该上孔径a1小于该下孔径a2,或该宣泄孔121由该第二挡板12的下表面122朝向上表面123的方向渐缩,以维持毛细现象而避免该药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题。当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图10与图11所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的显影不均现象,亦可达到避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;为了必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,故该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12上表面的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图12所示)。另请参阅图13所示,为本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法的步骤流程图,其中本实用新型蚀刻设备的蚀刻方法主要包括有下列步骤。哪家的蚀刻液比较好用点?ITO蚀刻液蚀刻液价格
哪家的蚀刻液配方比较好?ITO蚀刻液蚀刻液价格
如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔的孔径小于3毫米(millimeter,mm)。如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔为千鸟排列或矩阵排列等其中的一种排列方式。如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔为直通孔或斜锥孔等其中的一种态样或两者的混合。如上所述的挡液板结构,其中宣泄孔具有一***壁面,以及一第二壁面,且第二挡板具有一下表面,当宣泄孔为斜锥孔态样时,***壁面与下表面的***夹角不同于第二壁面与下表面的第二夹角。如上所述的挡液板结构,其中当宣泄孔为斜锥孔态样时,宣泄孔的上孔径与下孔径不相等。如上所述的挡液板结构,其中当宣泄孔为斜锥孔态样时,宣泄孔的上孔径小于下孔径。如上所述的挡液板结构,其中当宣泄孔为斜锥孔态样时,宣泄孔由第二挡板的下表面朝向上表面的方向渐缩。此外,为了达到上述的实施目的,本实用新型另提出一种蚀刻设备,设置于一湿式蚀刻机的一槽体内,蚀刻设备至少包括有一如上所述的挡液板结构、一基板、一输送装置,以及一风刀装置;基板设置于挡液板结构的下方;输送装置设置于基板的下方,输送装置包括有至少一滚轮,其中滚轮与基板接触以运行基板;风刀装置设置于挡液板结构的一端部,风刀装置包括有一设置于基板上方的***风刀。ITO蚀刻液蚀刻液价格