-
河南纳米压印原理
发布时间：2025.02.07
EVG®7200LA大面积SmartNIL®UV纳米压印光刻系统用于大面积无人能比的共形纳米压印光刻。EVG7200大面积UV纳米压印系统使用EVG专有且经过量证明的SmartNIL技术，将纳米压印光...
-
TS-140/LP隔振台美元价
发布时间：2025.02.07
LFS-2传感器测量两个轴的水平加速度，直至频率为约0.2Hz传感器直接放置在地板上，并用于前馈回路中与标准AVI/LP系统结合使用，可在非常低的情况下提高隔振效果频率。LFS-2可以改装为现有的AV...
-
隔振器隔振台实际价格
发布时间：2025.02.06
AVI200-SAVI200-S的基本配置包括两个单个承载模块和一个控制单元，蕞大可以负载400公斤。通过增加隔离模块的数量，可以轻松承受更高的负载。为了使AVI200-M适应用户特定的应用，可以按特...
-
高灵敏度的实验设备隔振台当地价格
发布时间：2025.02.05
AVI主动隔震台AVI应用于扫描电镜1、如有可能，拆下扫描电镜柱的侧板。2、使用扫描电镜找平脚将立柱抬离地面至少6“。如有必要，在水平尺下放置木块以增加高度。3、拆下主销后倾角和主销后倾角螺栓（如有必...
-
德国隔振台超快激光系统防震台应用
发布时间：2025.01.27
传感器位置传感器可以移动到任何期望的位置。它可能位于负载下方或外部，但必须位于支持AVI元素的同一表面上。制作后连接时，传感器与AVI单元的方向必须保持不变。支撑面的刚性支撑表面的刚性很重要。水平传感...
-
福建隔振台联系电话
发布时间：2025.01.26
水平X轴方向上的振动传递衰减，在承重时10hz的频率以上时，蕞大可以达到-40dB的衰减。隔振效率可以达到99%以上的效果。10Hz以上的频率正常情况下是30dB到40dB的衰减。水平Y轴方向上的振动...
-
Nano X-2000轮廓仪竞争力怎么样
发布时间：2025.01.25
NanoX-80003D轮廓测量主要技术参数3D测量主要技术指标（1）：测量模式：PSI+VSI+CSIZ轴测量范围：大行程PZT扫描（300um标配/500um选配）10mm精密电机拓展扫描CCD相...
-
浙江光刻机优惠价格
发布时间：2025.01.24
EVG光刻机简介：EVG在1985年发明了世界上弟一个底部对准系统，可以在顶部和双面光刻，对准晶圆键合和纳米压印光刻技术方面开创并建立了行业标准。EVG通过不断开发掩模对准器来为这些领域做出贡献，以增...
-
陕西美元报价键合机
发布时间：2025.01.24
引线键合主要用于几乎所有类型的半导体中，这是因为其成本效率高且易于应用。在ZUI佳环境中，每秒ZUI多可以创建10个键。该方法因所用每种金属的元素性质不同而略有不同。通常使用的两种引线键合是球形键合和...
-
海南纳米压印用途是什么
发布时间：2025.01.23
EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVG's专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业...
-
安徽纳米压印服务为先
发布时间：2025.01.22
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人可比的吞吐量，并具有显着的拥有成...
-
低温光刻机功率器件应用
发布时间：2025.01.21
EVG的光刻机技术：EVG在光刻技术上的关键能力在于其掩模对准器的高产能，接触和接近曝光功能以及其光刻胶处理系统的内部处理的相关知识。EVG的所有光刻设备平台均支持300毫米的晶圆，可以完全集成到其H...
-
欧洲轮廓仪推荐型号
发布时间：2025.01.21
2）共聚焦显微镜方法共聚焦显微镜包括LED光源、旋转多真孔盘、带有压电驱动器的物镜和CCD相机。LED光源通过多真孔盘（MPD）和物镜聚焦到样品表面上，从而反射光。反射光通过MPD的真孔减小到聚焦的部...
-
步进重复纳米压印微流控应用
发布时间：2025.01.21
面板厂为补偿较低的开口率，多运用在背光模块搭载较多LED的技术，但此作法的缺点是用电量较高。若运用NIL制程，可确保适当的开口率，降低用电量。利用一般曝光设备也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光设备...
-
授权膜厚仪镀膜行业
发布时间：2025.01.21
（光刻胶）polyerlayers（高分子聚合物层）polymide（聚酰亚胺）polysilicon（多晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基底实例：对于厚度测量，大多数情况下所要求的只...
-
连续纳米压印出厂价
发布时间：2025.01.20
EVG®720自动SmartNIL®UV纳米压印光刻系统自动全视野的UV纳米压印溶液达150毫米，设有EVGs专有SmartNIL®技术EVG720系统利用EVG的创新SmartNIL技术和材料专业知...
-
天津官方光刻机
发布时间：2025.01.20
EVG的光刻机技术：EVG在光刻技术上的关键能力在于其掩模对准器的高产能，接触和接近曝光功能以及其光刻胶处理系统的内部处理的相关知识。EVG的所有光刻设备平台均支持300毫米的晶圆，可以完全集成到其H...
-
薄膜测试仪膜厚仪联系电话
发布时间：2025.01.20
非晶态多晶硅硅元素以非晶和晶体两种形式存在,在两级之间是部分结晶硅。部分结晶硅又被叫做多晶硅。非晶硅和多晶硅的光学常数(n和k)对不同沉积条件是独特的，必须有精确的厚度测量。测量厚度时还必须考虑粗糙度...
-
PSI轮廓仪质量怎么样
发布时间：2025.01.19
我们的轮廓仪有什么优势呢世界先进水平的产品技术合理的产品价格24小时到现场的本地化售后服务无偿产品技术培训和应用技术支持个性化的应用软件服务支持合理的保质期后产品服务更佳的产品性价比和更优解决方案非接...
-
膜厚仪质量怎么样
发布时间：2025.01.19
生物医疗设备涂层应用生物医疗器械应用中的涂层生物医疗器械的制造和准备方面会用到许多类型的涂层。有些涂层是为了保护设备免受腐蚀，而其他的则是为了预防组织损伤、敢染或者是排异反应。药物传输涂层也变得日益普...
-
半导体设备纳米压印保修期多久
发布时间：2025.01.19
纳米压印光刻设备-处理结果：新应用程序的开发通常与设备功能的提高紧密相关。EVG的NIL解决方案能够产生具有纳米分辨率的多种不同尺寸和形状的图案，并在显示器，生物技术和光子应用中实现了许多新的创新。H...
-
广西光刻机现场服务
发布时间：2025.01.18
EVG®150特征：晶圆尺寸可达300毫米多达6个过程模块可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载可用的模块包括旋转涂层，喷涂，NanoCoat™，显影，烘烤...
-
衬底纳米压印研发生产
发布时间：2025.01.18
该公司的高科技粘合剂以功能与可靠性闻名于世。根据客户的专门需求，公司对这些聚合物作出调整，使其具备其它特征。它们极其适合工业环境，在较短的生产周期时间内粘合各种微小的元件。此外，DELO紫外线LED固...
-
氮化镓光刻机研发生产
发布时间：2025.01.18
HERCULES光刻轨道系统特征：生产平台以蕞小的占地面积结合了EVG精密对准和光刻胶处理系统的所有优势；多功能平台支持各种形状，尺寸，高度变形的模具晶片甚至托盘的全自动处理；高达52,000cP的涂...
-
集成电路轮廓仪当地价格
发布时间：2025.01.17
NanoX-80003D轮廓测量主要技术参数3D测量主要技术指标（1）：测量模式：PSI+VSI+CSIZ轴测量范围：大行程PZT扫描（300um标配/500um选配）10mm精密电机拓展扫描CCD相...
-
半导体纳米压印样机试用
发布时间：2025.01.17
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人可比的吞吐量，并具有显着的拥有成...
-
晶圆片纳米压印应用
发布时间：2025.01.17
EVGROUP®|产品/纳米压印光刻解决方案纳米压印光刻的介绍：EVGroup是纳米压印光刻（NIL）的市场领仙设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实...
-
晶圆片纳米压印原理
发布时间：2025.01.16
SmartNIL是行业领仙的NIL技术，可对小于40nm*的极小特征进行图案化，并可以对各种结构尺寸和形状进行图案化。SmartNIL与多用途软戳技术相结合，可实现无人能比的吞吐量，并具有显着的拥有成...
-
玻璃厚度膜厚仪研发生产
发布时间：2025.01.16
接触探头测量弯曲和难测的表面CP-1-1.3测量平面或球形样品，结实耐用的不锈钢单线圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射，对1.5mm厚的基板可抑制96%。钢制单线圈外加PVC涂层，蕞大可测厚度...
-
LED光刻机现场服务
发布时间：2025.01.16
此外，EVG光刻机不断关注未来的市场趋势-例如光学3D传感和光子学-并为这些应用开发新的方案和调整现有的解决方案，以满足客户不断变化的需求。我们用持续的技术和市场地位证明了这一点，包括EVG在使用各种...