晶圆切割是半导体封装的中心环节,传统刀片切割通过金刚石砂轮实现材料分离。中清航科研发的超薄刀片(厚度15-20μm)结合主动冷却系统,将切割道宽度压缩至30μm以内,崩边控制在5μm以下。我们的高刚性主轴技术可适配8/12英寸晶圆,切割速度提升40%,为LED、MEMS器件提供经济高效的解决方案。针对超薄晶圆(<50μm)易碎裂难题,中清航科激光隐形切割系统采用红外脉冲激光在晶圆内部形成改性层,通过扩张膜实现无应力分离。该技术消除机械切割导致的微裂纹,良率提升至99.3%,尤其适用于存储芯片、CIS等器件,助力客户降低材料损耗成本。晶圆切割粉尘控制选中清航科静电吸附系统,洁净度达标Class1。浙江砷化镓晶圆切割企业

为提升芯片产出量,中清航科通过刀片动态平衡控制+激光辅助定位,将切割道宽度从50μm压缩至15μm。导槽设计减少材料浪费,使12英寸晶圆有效芯片数增加18%,明显降低单颗芯片制造成本。切割产生的亚微米级粉尘是电路短路的元凶。中清航科集成静电吸附除尘装置,在切割点10mm范围内形成负压场,配合离子风刀清理残留颗粒,洁净度达Class1标准(>0.3μm颗粒<1个/立方英尺)。中清航科设备内置AOI(自动光学检测)模块,采用多光谱成像技术实时识别崩边、微裂纹等缺陷。AI算法在0.5秒内完成芯片级判定,不良品自动标记,避免后续封装资源浪费,每年可为客户节省品质成本超百万。南通碳化硅晶圆切割厂中清航科提供切割工艺认证服务,助客户通过车规级标准。

面对高温高湿等恶劣生产环境,中清航科对晶圆切割设备进行了特殊环境适应性改造。设备电气系统采用三防设计(防潮湿、防霉菌、防盐雾),机械结构采用耐腐蚀材料,可在温度30-40℃、湿度60-85%的环境下稳定运行,特别适用于热带地区半导体工厂及特殊工业场景。晶圆切割的刀具损耗是影响成本的重要因素,中清航科开发的刀具寿命预测系统,通过振动传感器与AI算法实时监测刀具磨损状态,提前2小时预警刀具更换需求,并自动推送比较好的更换时间窗口,避免因刀具突然失效导致的产品报废,使刀具消耗成本降低25%。
晶圆切割的工艺参数设置需要丰富的经验积累,中清航科开发的智能工艺推荐系统,基于千万级切割数据训练而成。只需输入晶圆材料、厚度、切割道宽等基本参数,系统就能自动生成比较好的切割方案,包括激光功率、切割速度、聚焦位置等关键参数,新手操作人员也能快速达到工程师的工艺水平,大幅降低技术门槛。半导体产业对设备的占地面积有着严格要求,中清航科采用紧凑型设计理念,将晶圆切割设备的占地面积控制在2平方米以内,较传统设备减少40%。在有限空间内,通过巧妙的结构布局实现全部功能集成,同时预留扩展接口,方便后续根据产能需求增加模块,满足不同规模生产车间的布局需求。中清航科切割工艺白皮书下载量超10万次,成行业参考标准。

随着Chiplet技术的兴起,晶圆切割需要更高的位置精度以保证后续的异构集成。中清航科开发的纳米级定位切割系统,采用气浮导轨与光栅尺闭环控制,定位精度达到±0.1μm,配合双频激光干涉仪进行实时校准,确保切割道位置与设计图纸的偏差不超过0.5μm,为Chiplet的高精度互联奠定基础。中清航科深谙半导体设备的定制化需求,可为客户提供从工艺验证到设备交付的全流程服务。其技术团队会深入了解客户的晶圆规格、材料特性与产能要求,定制专属切割方案,如针对特殊异形Die的切割路径优化、大尺寸晶圆的分片切割策略等,已成功为多家头部半导体企业完成定制化项目交付。晶圆切割后分选设备中清航科集成方案,效率达6000片/小时。江苏sic晶圆切割宽度
8小时连续切割验证:中清航科设备温度波动≤±0.5℃。浙江砷化镓晶圆切割企业
在碳化硅晶圆切割领域,由于材料硬度高达莫氏9级,传统切割方式面临效率低下的问题。中清航科创新采用超高压水射流与激光复合切割技术,利用水射流的冷却作用抑制激光切割产生的热影响区,同时借助激光的预热作用降低材料强度,使碳化硅晶圆的切割效率提升3倍,热影响区控制在10μm以内。晶圆切割设备的可靠性是大规模生产的基础保障。中清航科对中心部件进行严格的可靠性测试,其中激光振荡器经过10万小时连续运行验证,机械导轨的寿命测试达到200万次往复运动无故障。设备平均无故障时间(MTBF)突破1000小时,远超行业800小时的平均水平,为客户提供稳定可靠的生产保障。浙江砷化镓晶圆切割企业