上海氦气超高纯气体半导体制造

上海弥正依托专业的气体配比技术，为半导体、光伏、医疗等行业提供定制化混合气调配服务，精细满足不同工艺的个性化需求。混合气配比涵盖二元、三元及多元组合，可根据客户要求精细调控各组分浓度，浓度范围从 1ppm 至 50%，配比精度达 ±1%，其中关键组分浓度控制精度可达 ±0.1ppm。采用先进的静态混合与动态配比相结合的技术，确保混合气各组分均匀分布，无分层、无沉淀现象，稳定性达 99.9%，有效期长达 12 个月。支持多种气体组合定制：半导体行业的蚀刻混合气（如三氟化氮 + 氩气）、光伏行业的掺杂混合气（如磷烷 + 氮气）、医疗行业的麻醉混合气（如氧气 + 笑气）等，所有混合气均根据应用场景选择适配的包装方式与输送系统。配备专业的混合气配方研发团队，可根据客户工艺升级需求快速调整配方，提供小批量试产与批量供应服务。某精密制造企业应用定制化混合气后，生产效率提升 20%，工艺合格率提高 15%，产品一致性明显改善，成为客户工艺优化的重心支撑。超高纯气体采用不锈钢气瓶储存，防止运输过程中二次污染。上海氦气超高纯气体半导体制造

上海弥正超高纯氪气（5N 级纯度），专为等离子体显示面板（PDP）、照明灯具制造设计，以 “高纯度 + 高发光效率” 提升产品性能。通过多级精馏与吸附提纯工艺，将杂质含量控制在 1ppb 以下，其中氖、氙等杂质含量≤0.2ppb，确保发光性能稳定。在 PDP 显示面板中，作为放电单元填充气体，能提升面板发光亮度与色彩还原度，延长面板使用寿命；在照明领域，用于氪气灯填充，提升灯光色温稳定性与发光效率，节能效果明显。采用小型高压气瓶包装，配备精密流量控制阀门，支持准确供气，气体使用效率提升 30%。某显示设备企业应用后，PDP 面板发光亮度提升 15%，色彩还原度接近 100%；某照明企业使用后，氪气灯使用寿命延长 2 倍，能耗降低 20%，完全满足显示与照明产业的性能升级需求。浙江乙烯超高纯气体超高纯气体输送管道需钝化处理，避免内壁杂质影响气体纯度。

上海弥正超高纯气体产品多面符合欧盟 RoHS 2.0 指令要求，为电子电器产品达到环保标准提供关键材料保障，助力客户产品顺利进入全球市场。公司对生产超高纯气体的原料、辅料及包装材料进行严格筛选与检测，确保铅、汞、镉、六价铬等 RoHS 限制物质的含量均低于指令限值（如铅≤1000ppm），并建立了完整的供应商合规档案与物料追溯体系。所有产品均通过第三方机构的 RoHS 检测，出具合格的检测报告，可应客户要求提供，用于产品的 RoHS 符合性声明。在半导体与电子元件制造中，使用该合规气体能有效避免产品因材料环保问题被市场拒入，提升产品的环保竞争力。某消费电子企业使用其 RoHS 合规超高纯气体生产的智能手机零部件，顺利通过欧盟 RoHS 认证，产品在欧洲市场的销量同比增长 22%，品牌环保形象得到明显提升。

上海弥正超高纯三氟化氮（5N 级纯度），是半导体等离子体刻蚀工艺的关键清洗气体，以 “高纯度 + 低污染” 助力芯片制程精细化。采用低温吸附与精馏提纯工艺，将杂质含量控制在 1ppb 以内，其中金属杂质与颗粒物杂质均≤0.1ppb，能准确匹配 7nm 及以下先进制程的刻蚀需求。其强氧化性可高效去除晶圆表面的硅化物、金属氧化物等残留沉积物，且反应产物易挥发，无需额外复杂清洗步骤，有效提升刻蚀工艺效率。配备特用环保处理系统，气体使用后可通过回收装置实现 67% 的再利用率，降低环境排放与使用成本，符合亚洲芯片代工厂的生态合规要求。某半导体代工厂应用后，晶圆刻蚀残留率从 0.8% 降至 0.05%，刻蚀工艺效率提升 15%，单晶圆制造成本降低 3%，同时满足 SEMI 国际半导体产业协会的环保与纯度标准，成为先进制程刻蚀工艺的推荐清洗气体。超高纯氮气（纯度≥99.999%）用作半导体制造保护气，防止芯片加工时氧化。

上海弥正针对不同芯片制程需求，提供电子级超高纯气体定制服务，从纯度等级、杂质控制到供应方式均实现准确适配。可根据客户工艺要求，定制 5N-9N 级不同纯度的气体产品，其中 7N 级以上超高纯气体金属杂质含量可控制在 0.001ppb 以下，完全满足 7nm 及以下先进制程的严苛要求。针对特定工艺环节，准确控制目标杂质含量，如光刻工艺用气体可将碳氢化合物杂质控制在 0.05ppb 以下，避免影响光刻精度；掺杂工艺用气体可准确调控掺杂元素浓度，确保芯片电性能稳定。提供 “瓶装 + 管道” 双供应模式，小批量生产采用高压气瓶供应，大批量连续生产采用管道输送，输送系统可与客户生产设备无缝对接。配备专业技术团队，提供工艺适配咨询、气体使用培训与设备调试服务，帮助客户优化气体使用方案。某先进制程芯片企业应用定制化气体后，芯片制程良率提升 3.5%，工艺调整周期缩短 40%，成为客户工艺升级的重心合作伙伴。超高纯氖气纯度≥99.999%，用于霓虹灯填充与低温制冷领域。江苏二氧化硫超高纯气体芯片制造

超高纯锗烷纯度达 99.99%，用于红外光学薄膜与半导体制造。上海氦气超高纯气体半导体制造

上海弥正针对碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等第三代半导体制造，打造专属超高纯气体解决方案，以 “适配宽禁带特性 + 准确工艺控制” 助力功率器件与射频器件量产。方案涵盖超高纯氨气、硅烷、氢气、氩气等重心气体，其中用于 GaN 外延生长的超高纯氨气纯度达 7N 级，金属杂质含量≤0.01ppb；用于 SiC 刻蚀的超高纯氟化物气体纯度达 6N 级，确保材料刻蚀的准确度与表面质量。第三代半导体材料具有耐高温、耐高压、高频的特性，对气体纯度与杂质控制要求远高于传统硅基半导体，该方案通过准确控制氧、碳、金属等杂质含量，有效减少外延层缺陷，提升器件的击穿电压与可靠性。提供外延生长、离子注入、刻蚀、退火等全工艺环节的气体组合，并配备工艺适配团队，协助客户优化气体流量、压力等工艺参数。某专注于 SiC 功率器件的企业应用该方案后，外延片的缺陷密度从 10³cm⁻² 降至 10²cm⁻² 以下，器件的击穿电压提升 20%，成功实现车规级 SiC MOSFET 的稳定量产。上海氦气超高纯气体半导体制造

上海弥正气体有限公司是一家有着先进的发展理念，先进的管理经验，在发展过程中不断完善自己，要求自己，不断创新，时刻准备着迎接更多挑战的活力公司，在上海市等地区的电工电气中汇聚了大量的人脉以及**，在业界也收获了很多良好的评价，这些都源自于自身的努力和大家共同进步的结果，这些评价对我们而言是比较好的前进动力，也促使我们在以后的道路上保持奋发图强、一往无前的进取创新精神，努力把公司发展战略推向一个新高度，在全体员工共同努力之下，全力拼搏将共同上海弥正气体供应和您一起携手走向更好的未来，创造更有价值的产品，我们将以更好的状态，更认真的态度，更饱满的精力去创造，去拼搏，去努力，让我们一起更好更快的成长！