浙江隐藏式气体管道设计注意事项

高纯气体管路的设计要点：1.对高纯气体纯度要求不同的用气设备，宜采用分等级高纯气体输送系统；也可采用同等级输送系统，但是在纯度要求高的用气设备邻近处设末端气体提纯装置。2.为了检测高纯气体的纯度和杂质含量，输送系统除了设置必要的连续检测仪器，如衡量水含量或者氧杂质含量等分析仪外，还应设置定期取样用的检测采样口，以便按规定时间进行采样，分析高纯气体中各种杂质的含量。3.在亚微米级的集成电路生产中，要求供应10－9级的高纯气体，为了确保末端用气工艺设备处的气体纯度，使气体中的杂质含量（包括尘粒）控制在规定的数值内，一般在设备前设置末端纯化装置，或末端高精度气体过滤器。气瓶应放在主体建筑物之外的气瓶存放间。浙江隐藏式气体管道设计注意事项

阀门的选用。高纯气体对系统所用阀门的严密性有十分严格的要求，目前国内洁净厂房的高纯气体管道的阀门基本都采用SS304或SS316L不锈钢材质，阀门型式有隔膜阀、波纹管阀和球阀。波纹管阀的严密性比球阀好，在气体流过阀门时没有与外环境接触的填料，所以没有渗漏现象：隔膜阀除了严密性与波纹管阀相当以外，还具有阀体死体积小，易吹除且污染少，所以适用于对气体纯度和生产工艺要求极严格或者危险性大的气体。为确保输送至用气设备的气体质量，高纯气体管道与用气设备之间应用不锈钢金属软管连接，不宜采用非金属软管。绍兴气体管道设计厂商氢气、氧气管道应有导除静电的接地装置。

日本把微电子生产中所采用的气体，按其不同的品位，具体分为下列几个不同的档次：1.超高纯气体，气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。2.高纯气体，气体中杂质总含量控制在5ppm以下，水份含量控制在3 ppm以内。3.洁净气体，气体中杂质总含量控制在10 ppm以下,对水份含量未作严格规定。 上述规定，都未涉及洁净度。我们知道集成电路的生产，几乎都是在洁净环境中进行，是防止尘埃粒子污染微电子产品所必需的。所以，对洁净的生产环境绝不允许采用不洁净的气体来破坏，必须使气体的洁净度与洁净环境保持一致，根据相关资料以及近些年公司相关工程的经验进行了一些归纳。

气体管道敷设要求：1、输送干燥气体的管道宜水平安装，输送潮湿气体的管道应有不小于0.3%的坡度，坡向冷凝液体收集器。2、氧气管道与其它气体管道可同架敷设，其间距不得小于0.25m，氧气管道应处于除氢气管道外的其它气体管道之上。3、氢气管道与其它可燃气体管道平行敷设时，其间距不应小于0.50m;交叉敷设时，其间距不应小于0.25m。分层敷设时，氢气管道应位于上方。4、室内氢气管道不应敷设在地沟内或直接埋地，不得穿过不使用氢气的房间。5、气体管道不得和电缆、导电线路同架敷设。 压力管道拐弯应力集中区应有安全加固，设计合适的拐弯半径，弯曲部位不能有皱折及扭曲。

气体管道敷设要求 ：1、输送干燥气体的管道宜水平安装，输送潮湿气体的管道应有不小于0.3%的坡度，坡向冷凝液体收集器。2、氧气管道与其它气体管道可同架敷设，其间距不得小于0.25m，氧气管道应处于除氢气管道外的其它气体管道之上。3、氢气管道与其它可燃气体管道平行敷设时，其间距不应小于0.50m;交叉敷设时，其间距不应小于0.25m。分层敷设时，氢气管道应位于上方。4、室内氢气管道不应敷设在地沟内或直接埋地，不得穿过不使用氢气的房间。5、气体管道不得和电缆、导电线路同架敷设。 可采用同等级输送系统，但是在纯度要求高的用气设备临近处设末端气体提纯装置。绍兴气体管道设计厂商

气瓶间内设立一次调压面板，其中二托一面板带吹扫铜镀铬面板4套。浙江隐藏式气体管道设计注意事项

输送的起点和终点状况，输送的起点情况将决定气力输送的供料方式，起点处的物料可能有两种情况：一种是处于静止状况，如料斗、仓库或车船内的物料，另一种是处于运动状态，如由其他输送线或加工设备中卸出的物料。起点处于静态的物料必须依靠气流的作用力起动加速，而本来已具有一定运动速度的物料则可能减少起点压损和所需的功率。如果气力输送系统用来接运由其他输送机械或加工设备送来的物料，在设计时必须使气输送的输送量留有足够的安全系数，当前面设备的输送量发生波动而瞬时增大时不致于发生堵塞。如果前面的设备是间歇工作的，则要在气力输送系统的前部设置缓冲料斗。气力输送终点的状况关系到输送管道的布置，卸料点可能是一个，也可能有好几个，必须了解所有的位置。包括它的平面布置和高度位置。浙江隐藏式气体管道设计注意事项