对比项 传统滚镀 半导体滚镀 对象 小型金属零件(螺丝、纽扣等) 晶圆、芯片、微型半导体元件 精度 微米级 纳米级(≤100nm) 洁净度 普通工业环境 无尘室(Class100~1000) 工艺控制 电流/时间粗调 实时闭环控制(电流、流量、温度) 镀液类型 酸性/碱性镀液 高纯度镀液(低杂质)
大尺寸晶圆兼容:适配12英寸(300mm)晶圆,向18英寸过渡。环保镀液:无物、低毒配方,减少废水处理压力。智能化集成:AI工艺优化:通过机器学习预测镀层缺陷。与CMP(化学机械抛光)、PVD设备联动,形成全自动金属化产线
半导体滚镀设备是封装与芯片制造的关键装备,通过精密旋转与镀液控制,实现纳米级金属镀层的均匀沉积。其技术在于洁净环境下的高精度工艺控制 过滤循环设备通过精密滤芯净化电解液,去除金属颗粒等杂质,保障镀液清洁与工艺稳定。湖北微型电镀设备
小型电镀设备是一种专为小规模生产、定制化需求或实验研发设计的紧凑型电镀装置。与传统大型电镀生产线相比,它体积小、操作灵活,兼具高效性与经济性,尤其适合中小企业、实验室、工作室或个性化产品加工场景:
1. 特点体积小巧:占地面积通常为2-5平方米,可轻松适配车间角落或实验室环境。
模块化设计:支持快速更换镀槽、电源和过滤系统,兼容镀金、镀银、镀镍、镀锌等多种工艺。
操作简便:采用一键式参数设置(如电流、时间、温度),无需复杂培训即可上手。
低能耗运行:小容量槽液设计减少化学试剂消耗,搭配节能电源,降低综合成本。
2. 典型应用场景小批量生产:如首饰加工、手表配件、工艺品等个性化订单的镀层处理。
研发测试:新材料(如钛合金、塑料电镀)的工艺验证,或镀液配方优化实验。
维修翻新:汽车零部件、电子元器件的局部修复电镀,避免大规模返工。
教育领域:高校或职业院校用于电镀原理教学与实操培训。
3. 优势低成本投入 湖北高精密电镀设备模块化电镀设备支持槽体自由组合,可快速切换挂镀、滚镀模式,灵活适配多品种小批量生产需求。
挂镀工艺:晶圆固定在挂具上,浸入电镀液,通过精细控制电流、电压及溶液成分,在表面沉积均匀金属层。
电镀槽:耐腐蚀材质,配备温控、循环过滤系统,维持镀液均匀性
挂具与阳极:钛或铂金阳极,挂具设计适配晶圆尺寸,确保电场分布均匀
自动化传输:机械臂自动上下料,减少人工污染风险
控制系统:PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数
高均匀性:通过脉冲电镀或水平电镀技术(如ECP),减少边缘效应,实现亚微米级镀层均匀性
低缺陷率:镀液杂质控制(<0.1ppm)与膜厚在线监测,降低孔洞、结节等缺陷
高产能:支持多晶圆并行处理
铜互连:在逻辑芯片中沉积多层铜导线,替代传统铝工艺以降低电阻
TSV填充:为3D封装提供垂直导电通道,实现芯片堆叠
凸块电镀:在晶圆表面形成锡、铜柱凸块,用于Flip-Chip键合
RDL(重布线层):沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局
半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术,解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题,是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率
一、设备概述:
适用于电镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、镀铜、镀镉等有色金属;镀金、镀银等贵重金属的精密电镀。
降低孔隙率,晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
改善结合力,使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
改善覆盖能力和分散能力,高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,挂镀生产线设备,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷,对于获得一个给定特性镀层的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。
降低镀层的内应力,改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层,减少添加剂。
有利于获得成份稳定的合金镀层。
改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。
改进镀层的机械物理性能,如提高密度,降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性,而且可以控制镀层硬度。 连续镀生产线的导电辊镀覆耐磨碳钨涂层,降低钢带传输摩擦,避免划伤与镀层缺陷。
硫酸雾等酸性废气选酸雾净化塔;低浓度有机废气用活性炭吸附装置,中高浓度则考虑催化燃烧装置;有颗粒物选布袋或静电除尘器,混合废气需组合设备。
各设备处理率有别,处理量匹配电镀规模,大生产线选大风量设备,小厂选小风量的。
涵盖能耗、耗材及维护费,能耗低、耗材更换便宜、维护简单的设备更优。场地有限选紧凑设备,处理易燃易爆废气的要防爆。操作管理上,选自动化程度高的。
贵金属电镀设备配备高精度电源与净化系统,严格控制金、银镀层纯度,满足珠宝及电子芯片的高要求。湖北高精密电镀设备
工件篮设备用于篮镀工艺,网孔大小根据工件尺寸定制,兼顾电解液流通性与防止小件掉落。湖北微型电镀设备
是为电阻、电容等微型电子元件设计的自动化电镀装置,通过三滚筒协同作业与全流程智能控制,实现高效、高精度镀层加工。要点:
三滚筒系统:
三个滚筒可同步处理不同工艺或元件(如电阻镀锡、电容镀银),或联动提升产能。滚筒采用PP/PVC等耐腐蚀材质,内部防碰撞分区设计,减少微小元件(如贴片电阻0201)的损伤风险
全自动控制:
集成PLC/工业电脑系统,自动完成上料、电镀、清洗、烘干流程。通过传感器实时监控镀液温度、pH值及电流密度,动态调节参数
电镀优化:
多级过滤与温控装置确保镀液稳定性;多点阴极导电技术适配电阻引脚、电容电极的复杂接触需求
高效灵活:三滚筒并行作业,产能较单筒提升50%以上,可同时处理多规格元件或多镀种
镀层高一致性:滚筒匀速旋转结合智能调控,确保微小元件表面镀层均匀
低损耗率:防摩擦结构+精细转速控制,元件破损率低于0.1%
典型场景:
电阻类:金属膜电阻端头镀锡、高精度电阻镀金
电容类:铝电解电容电极镀铜、MLCC电容镀镍抗氧化
关键注意:
按元件尺寸匹配滚筒孔径,防止漏料
定期检测镀液金属离子浓度,避免杂质影响镀层导电性
维护自动传输系统,减少卡料风险。 湖北微型电镀设备