作为微纳加工和3D打印领域的带领者,Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域,诸如力学超材料,微纳机器人,再生医学工程,微光学等创新领域的研究和发展,并提供优化制程方案。2017年在上海成立的中国子公司纳糯三维科技(上海)有限公司更是加强了全球销售活动,并完善了亚太地区客户服务范围。此次推出的中文版官网在视觉效果上更清晰,结构分类上更明确。首页导航栏包括了产品信息,产品应用数据库,公司资讯和技术支持几大专栏。比较大化满足用户对信息的了解和需求。Nanoscribe中国子公司总经理崔博士表示:“中文网站的发布是件值得令人高兴的事情,我们希望新的中文网站能让我们的中国客户无需顾虑语言障碍,更全方面深入得了解我们的产品以及在科研和工业方面的应用。”三维加工能力:这种技术可以实现三维加工,能够制造出具有复杂形状的纳米结构。湖北高精度双光子聚合微纳光刻

双光子聚合激光直写技术在生物医学领域也有着广泛的应用前景。通过控制激光束的强度和聚焦点的位置,我们可以在生物材料中实现微创伤害,实现精确的细胞操作。这为组织工程等领域的研究提供了新的工具和方法,有望推动医学科学的进一步发展。双光子聚合激光直写技术的发展离不开科研人员的不懈努力和创新精神。他们通过不断优化激光系统、改进材料性能,使得这项技术在实际应用中更加稳定和可靠。同时,企业的支持也为双光子聚合激光直写技术的发展提供了坚实的基础。展望未来,双光子聚合激光直写技术将继续推动科技的发展。我们有理由相信,随着技术的不断成熟和应用的不断拓展,双光子聚合激光直写技术将在更多领域展现出其无限的潜力,为人类创造更美好的未来。湖北高精度双光子聚合微纳光刻Nanoscribe中国分公司-纳糯三维邀您一起探讨国内在双光子聚合技术领域的未来发展。

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系统制作的高精度器件图登上了刚发布的商业微纳制造杂志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介绍了高精度3D打印,并重点讲解了先进的打印材料是如何让双光子聚合技术应用锦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系统把双光子聚合技术融入强大了3D打印工作流程,实现了各种不同的打印方案。双光子聚合技术用于3D微纳结构的增材制造,可以通过激光直写而避免使用昂贵的掩模版和复杂的光刻步骤来创建3D和2.5D微结构制作。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能,以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性
双光子聚合3D打印技术是一项未来制造业的创新科技。它以其高精度、高效率和多材料打印的特点,正在改变着传统制造业的面貌。双光子聚合3D打印技术利用激光束将光敏树脂材料逐层固化,从而实现三维物体的打印。与传统的3D打印技术相比,双光子聚合3D打印技术具有更高的分辨率和更快的打印速度。它可以打印出更加精细、复杂的结构,满足各种领域的需求。双光子聚合3D打印技术的应用领域非常多。在医疗领域,它可以用于打印人体模型,帮助医生进行手术模拟和培训。在航空航天领域,它可以用于打印轻量化零部件,提高飞机的燃油效率。在汽车制造领域,它可以用于打印汽车零部件,加快汽车的研发和生产速度。在建筑领域,它可以用于打印建筑模型,提高设计效率和减少成本。光互联设备制造,该技术能加工微纳光耦合结构,减少光信号损耗。

科学家们基于Nanoscribe的双光子聚合技术(2PP),发明了GRIN光学微纳制造工艺。这种新的制造技术实现了简单一步操作即可同时控制几何形状和折射率来打印自由曲面光学元件。凭借这种全新的制造工艺,科学家们完成了令人印象深刻的展示制作,打印了世界上特别小的可聚焦可见光的龙勃透镜(15µm直径)。相似于人类眼睛晶状体的梯度,这种球面晶状体的折射率向中心逐渐增加,使其具有独特的聚光特性。Nanoscribe的PhotonicProfessional打印系统可用于将不同折射率的龙勃透镜和其他自由形状的光学组件打印于微孔支架材料上(例如孔状硅材及二氧化硅)。突出特点是不再像常规的双光子聚合(2PP)那样在基体表面进行直写,而是在孔型支架内。对准双光子光刻凭借独特优势,推动微纳制造向更精细尺度发展。湖北高精度双光子聚合微纳光刻
先进封装的微型化需求下,此技术可制备超小尺寸连接结构,节省封装空间。湖北高精度双光子聚合微纳光刻
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性,可以实现微机械元件的制作,例如用光敏聚合物,纳米颗粒复合物,或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人,并可以选择添加金属涂层。此外,微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上,甚至可以直接打印于微机电系统(MEMS)。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件(DOE),并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻,刻蚀和对准工艺,衍射光学元件(DOE)的传统制造耗时长且成本高。湖北高精度双光子聚合微纳光刻