山东微纳米增材制造无掩膜激光直写

增材制造技术是指基于离散-堆积原理，由零件三维数据驱动直接制造零件的科学技术体系。基于不同的分类原则和理解方式，增材制造技术还有快速原型、快速成形、快速制造、3D打印等多种称谓，其内涵仍在不断深化，外延也不断扩展，这里所说的“增材制造”与“快速成形”、“快速制造”意义相同。工业化的LSF-V大型激光立体成形装备所谓数字化增材制造技术就是一种三维实体快速自由成形制造新技术，它综合了计算机的图形处理、数字化信息和控制、激光技术、机电技术和材料技术等多项高技术的优势，学者们对其有多种描述。西北工业大学凝固技术国家重点实验室的黄卫东教授称这种新技术为“数字化增材制造”，中国机械工程学会宋天虎秘书长称其为“增量化制造”，其实它就是不久前引起社会***关注的“三维打印”技术的一种。西方媒体把这种实体自由成形制造技术誉为将带来“第三次工业**”的新技术。激光增材制造将推动制造业向数字化、智能化方向发展。山东微纳米增材制造无掩膜激光直写

借助Nanoscribe的3D微纳加工技术，您可以实现亚细胞结构的三维成像，适用于细胞研究和芯片实验室应用（lab-on-a-chip）。我们的客户成功使用Nanoscribe双光子无掩模光刻系统制作了3D细胞支架来研究细胞生长、迁移和干细胞分化。此外，3D微纳加工技术还可以应用在微创手术的生物医学仪器，包括植入物，微针和微孔膜等制作。Nanoscribe的无掩模光刻系统在三维微纳制造领域是一个不折不扣的多面手，由于其出色的通用性、与材料的普适性和便于操作的软件工具，在科学和工业项目中备受青睐。这种可快速打印的微结构在科研、手板定制、模具制造和小批量生产中具有广阔的应用前景。也就是说山东微纳米增材制造无掩膜激光直写增材制造技术具有高的坚固性，稳定性.

随着各行各业的发展及科技的进步，人们可以用3D打印创建在人体内传导药物的载体，可以用3D打印来建造房子。人们还可以用3D打印创作出精美的珠宝首饰和设计，甚至可以用这项技术做出巨大的艺术雕塑。Nanoscribe 公司专注于微观3D打印技术，通过该用户可以得到尺寸微小的高质量产品。全新推出的Quantum X平台新型超高速无掩模光刻技术主要是基于Nanoscribe双光子灰度光刻技术（2GL®）。该技术将灰度光刻的***性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合，使其同时具备高速打印，完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了**复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。

Nanoscribe 将在未来进一步扩大产品组合实现多样化，以满足不用客户群的需求。Nanoscribe作为一家纳米，微米和中尺度高精度结构增材制造专家，一直致力于开发和生产3D 微纳加工系统和无掩模光刻系统，以及自研发的打印材料和特定应用不同解决方案。Nanoscribe成立于 2007 年，是卡尔斯鲁厄理工学院 (KIT) 的衍生公司。在全球前列大学和创新科技企业的中，有超过2,500 多名用户在使用我们突破性的 3D 微纳加工技术和定制应用解决方案。 Nanoscribe 凭借其过硬的技术背景和市场敏锐度奠定了其市场的主导地位，并以高标准来要求自己以满足客户的需求增材制造轮在性能方面也表现出色。

   全新GlassPrintingExplorerSet是Nanoscribe公司推出的头一个用于熔融石英玻璃微纳结构3D微纳加工的商用高精度增材制造工艺和材料。新型光刻胶GP-Silica是GlassPrintingExplorerSet的中心内容，也是世界上只有的一款用于熔融石英玻璃微纳加工的光刻胶。这种打印材料因其高光透性，出色的热稳性，机械性能和化学稳定性脱颖而出。这为探索生命科学，微流控，微纳光学，材料工程和其他微纳技术领域的新应用开辟了更多可能性。TheGlassPrintingExplorerSet拓宽了注重耐高温特性，化学和机械稳定性以及光透性的高精度3D微纳加工应用。双光子聚合技术（2PP）的高精度结合熔融石英玻璃的出色玻璃性能，推动者生命科学，微流控，微纳光学及其他领域新应用的发展和探索。“尽管所需的后期热处理要求很高，GP-Silica在我们研究制造复杂的微流体系统方面具有巨大的潜力。”瑞士弗里堡大学工程与建筑学院助理教授兼图像打印系主任NicolasMuller博士总结道。借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。3D打印技术可用于制造复杂的工具和模具。山东微纳米增材制造无掩膜激光直写

增材制造技术可以提高生产效率和降低成本。山东微纳米增材制造无掩膜激光直写

   Nanoscribe是一家德国双光子增材制造系统制造商，它推出了一种新型机器QuantumX.新的系统使用双光子光刻技术制造纳米尺寸的折射和衍射微光学元件，其尺寸可小至200微米。根据Nanoscribe的联合创始人兼CSOMichaelThiel博士的说法，“Beer's定律对当今的无掩模光刻设备施加了强大的限制。QuantumX采用双光子灰度光刻技术，克服了这些限制，提供了前所未有的设计自由度和易用性。我们的客户正在微加工的**前沿工作。“Nanoscribe成立于卡尔斯鲁厄理工学院，现在在上海设有子公司，在美国设有办事处。该公司在德国历史特别悠久，规模比较大的光学系统制造商之一蔡司财务的支持。纳米标记系统基于双光子吸收，这是一种分子被激发到更高能态的过程。山东微纳米增材制造无掩膜激光直写