北京双光子聚合增材制造无掩膜激光直写

此举将于2019年底举行，将有助于推动微型3D打印领域的更多创新。Hermatschweiler补充说：“通过这个创新中心能够与KIT靠的更近，卡尔斯鲁厄不断为Nanoscribe等公司提供创新和成功发展的理想环境。”ORNL的科学家们使用Nanoscribe的增材制造系统来构建世界上特别小的指尖陀螺，该迷你玩具的宽度只为100微米（与人类头发的宽度相当）。除了用于无线技术，Nanoscribe的3D打印技术还可用于制造高精度的光学微透镜，衍射光学元件，用于生物打印的纳米级支架等等。增材制造技术具有高的坚固性，稳定性，耐用性。北京双光子聚合增材制造无掩膜激光直写

3D打印公司Nanoscribe早期是德国卡尔斯鲁厄理工学院的分支机构，自此成为全球市场的高精度，微型3D打印技术和微光解决方案的提供商。德国3D打印公司Nanoscribe正在使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机来制造包括标准折射微光学，自由光学元件，衍射光学元件和多透镜系统在内的微光学形状。德国增材制造公司表示，“将3D打印技术与用户友好的软件和创新材料相结合，导致可重复的精益流程”，使客户能够“克服当前的技术障碍”。Nanoscribe使用其PhotonicProfessionalGT3D打印机，近期展示了如何使用双光子聚合工艺生产各种微光学形状。北京双光子聚合增材制造无掩膜激光直写Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司带您一起了解增材制造与传统制造对比的区别。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特别高分辨率的3D无掩模光刻技术，用于快速，特别高精度的微纳加工，可以轻松3D微纳光学制作。可以搭配不同的基板，包括玻璃，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以实现芯片和光纤上直接打印。我们的3D微纳加工技术可以满足您对于制作亚微米分辨率和毫米级尺寸的复杂微机械元件的要求。3D设计的多功能性对于制作复杂且响应迅速的高精度微型机械，传感器和执行器是至关重要的。基于双光子聚合原理的激光直写技术，可适用于您的任何新颖创意的快速原型制作；也适合科学家和工程师们在无需额外成本增加的前提下，实现不同参数的创新3D结构的制作。

增材制造技术能够简化光学器件的制造流程，缩短交货期并降低材料消耗。更重要的是，增材制造技术能够实现功能集成的优化设计方案，尤其在卫星光学系统制造领域，增材制造技术能够满足用户对轻型光学系统不断增长的需求，并实现下一代高附加值光学器件的制造。通过增材制造技术开发的下一代光学仪器中，将越来越多采用紧凑的功能集成设计，如集成隔热，冷却通道，局限的机械和热接口，以及将光学功能作为设备自身结构的一部分。紧凑集成化设计减少了组件装配过程中出现问题的风险，同时开辟了制造冷却光学系统，有源光学系统或自由曲面的新方式。陶瓷增材制造技术的净成形能力，还能够提高准确性，改善集成/结合过程的质量。在成就高附加值零件方面，3D打印的应用还包括很多，除了打印极度复杂的结构、打印混合材料，3D打印因为技术种类繁多也带来了高附加值零件的创新空间，例如3D打印感应器、3D打印多层电路、3D打印电池等等想要了解增材制造和传统减材制造的区别，请咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。Nanoscribe在中国的子公司纳糯三维科技（上海）有限公司为您简述增材制造技术的应用。广东MEMS增材制造PPGT2

3D打印技术正在改变制造业。北京双光子聚合增材制造无掩膜激光直写

Nanoscribe设备专注于纳米，微米和中等尺寸的增材制造。早期的PhotonicProfessionalGT3D打印机设计用于使用双光子聚合生产纳米和微结构塑料组件和模具。在该过程中，激光固化部分液态光敏材料，逐层固化。使用双光子聚合，分辨率可低至200纳米或高达几毫米。另一方面，GT2现在可以在短时间内在高达100×100mm2的打印区域上生产具有亚微米细节的物体，通常为160纳米至毫米范围。此外，使用GT2，用户可以选择针对其应用定制的多组物镜，基板，材料和自动化流程。北京双光子聚合增材制造无掩膜激光直写