微泰半导体闸阀的特点,首先介绍一下起三重保护的保护环机能,采用铝质材料减少重量,并提高保护环的内部粗糙度,防止工程副产物堆积黏附。提升保护环内部流速设计,保护环逐步收窄,提升流速,防止粉尘黏附。采用三元系O型圈,保证保护环驱动稳定(保证30万次驱动)。微泰半导体闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,三重防护闸阀应用于• Evaporation(蒸发)等设备。HV闸阀法兰闸阀
真空闸阀的选择需要考虑以下几个关键因素:1.应用环境:确定真空闸阀将用于何种真空环境,例如实验室、工业生产或特殊应用等。2.真空度要求:根据应用需求选择合适的真空度范围,确保闸阀能够满足工作环境的真空度要求。3.材料:选择闸阀的材料应考虑耐腐蚀性、耐温性以及与介质的兼容性。4.尺寸和接口:根据系统管道的尺寸和接口类型选择合适的闸阀尺寸和连接方式。5.流量要求:根据系统流量需求选择合适的闸阀,确保其能够满足最大流量要求。6.控制方式:选择手动、气动或电动等控制方式,以适应不同的操作需求。7.品牌和质量:选择信誉良好、质量可靠的制造商,确保闸阀的性能和寿命。8.维护和售后服务:考虑制造商提供的维护支持和售后服务,以确保长期使用中的问题能够得到及时解决。综合以上因素,选择适合您具体需求的真空闸阀。Diffusion闸阀Global Foundries高压闸阀按阀杆螺纹的位置分外螺纹式、内螺纹式、法兰、焊接等。按介质的流向分,有直通式、直流式和角式。
微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀,步进电机插板阀Stepper Motor Gate Valve,-产品范围:2.5“~10”-压力控制-使用步进电机Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,用步进电机/控制器操作阀门-通过步进电机/控制器精确控制阀门的压力-根据产品的不同,控制器可以安装在客户需要的地方,微泰,步进电机插板阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。微泰步进电机插板阀Stepper Motor Gate Valve有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。
闸阀又称插板阀是一种管道控制设备,主要用于截断或接通介质流。其主要应用于以下场合:1.物料输送系统中的管道切换2.粉尘、颗粒状物料的输送管道3.化工行业的腐蚀性介质管道4.矿山、冶金行业的物料输送5.水处理系统的介质隔离6.燃气、空气等气体的管道控制7.环保设备的尾气处理系统8.燃料供应系统的介质切换9.纺织、制药等行业中的特殊介质管道10.建筑工地、船舶等移动设备的管道系统控制。插板阀是一种用于控制流体管道中流量和压力的阀门,通过插入或拔出阀门上的插板来开启或关闭管道。它广泛应用于工业、建筑、化工等领域。真空闸阀的密封装置确保关闭时的高真空完整性,防止泄漏并维持腔室内的真空压力。
微泰,铝闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。期特点是*不论什么工艺的设备都可以使用*由半永久性陶瓷球和弹簧组成*应用:隔离泵。铝闸阀规格如下:驱动方式:手动、法兰尺寸:1.5英寸~ 10英寸、阀体:AL6061 (Anodizing)、机械装置:AL6061 (Anodizing)、阀门:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、响应时间≤ 3 sec、驱动器:气缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ℓ/sec、压力范围:< 1×10-10 mbar ℓ/sec、开始时的压差:≤ 30 mbar、初次维护前可用次数100,000次、阀体温度≤ 120 °执行机构温度≤ 60 °C、安装位置:任意、操作压力(N2):4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。可替代VAT阀门。闸阀启闭时较省力。是与截止阀相比而言,因为无论是开或闭,闸板运动方向均与介质流动方向相垂直。专门用闸阀HV GATE VALVE
真空闸阀由一个滑动门或板组成,可以移动以阻止或允许通过真空阀体,从而有效地将腔室与外部环境隔离。HV闸阀法兰闸阀
微泰,多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀应用于• Evaporation(蒸发)• Sputtering(溅射)• Diamond growth by MW-PACVD(通过MW-PACVD生长金刚石)• PECV• PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷对卷)• Coating(涂层)• Etch(蚀刻)• Diffusion(扩散)•CVD(化学气相沉积)等设备上。可替代VAT闸阀。微泰多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀其特点是•操作模式:本地和远程•紧急情况:自动关闭•慢速泵送功能。多位闸阀,多位置闸阀,多定位闸阀规格如下:材料:阀体 STS304, 机制 STS304、法兰尺寸(内径) 4英寸~10英寸、闸门密封 FKM(VITON)、开/关振动 无振动、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、闸门压差 ≤1.4 bar、分子流动电导(ISO100)1891 l/s、阀座 1X10-10 mbarㆍL/秒、泄漏率阀体 1X10-10 mbarㆍL/Sec、压力范围 1X10-10mbar 至 1.4 bar、闸门上任一方向的压差≤1.4 bar、安装位置:任意。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩,上海安宇泰环保科技有限公司。 HV闸阀法兰闸阀