辽宁纳米压印代理价格

HERCULES ® NIL特征：

全自动UV-NIL压印和低力剥离

**多300毫米的基材

完全模块化的平台，具有多达八个可交换过程模块（压印和预处理）

200毫米/ 300毫米桥接工具能力

全区域烙印覆盖

批量生产**小40 nm或更小的结构

支持各种结构尺寸和形状，包括3D

适用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取决于过程和模板

HERCULES ® NIL技术数据：

晶圆直径（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取决于模板和工艺）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i线）> 400 mW /cm²

对准：≤±3微米

自动分离：支持的

前处理：提供所有预处理模块

迷你环境和气候控制：可选的

工作印章制作：支持的

SmartNIL集成了多次使用的软标记处理功能，因此还可以实现****的吞吐量。辽宁纳米压印代理价格

UV纳米压印光刻

EV Group提供完整的UV纳米压印光刻（UV-NIL）产品线，包括不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。除了柔软的UV-NIL，EVG还提供其专有的SmartNIL技术以及多种用途的聚合物印模技术。高 效，强大的SmartNIL工艺可提供高图案保真度，高度均匀的图案层和**少的残留层，并具有易于扩展的晶圆尺寸和产量。EVG的SmartNI技术达到了纳米压印的长期预期，即纳米压印是一种用于大规模生产微米和纳米级结构的高性能，低成本和具有批量生产能力的技术。

辽宁纳米压印代理价格SmartNIL的主要技术是可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

EVG ® 520 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的热压印和纳米压印应用

自动化压花工艺

EVG专有的**对准工艺，用于光学对准的压印和压印

气动压花选项

软件控制的流程执行

EVG ® 520 HE技术数据

加热器尺寸：150毫米，200毫米

比较大基板尺寸：150毫米，200毫米

**小基板尺寸：单芯片，100毫米

比较大接触力：10、20、60、100 kN

比较高温度：标准：350°C；可选：550°C

粘合卡盘系统/对准系统

150毫米加热器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

200毫米加热器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

真空：

标准：0.1毫巴

可选：0.00001 mbar

    ”EV集团的技术研发与IP主管MarkusWimplinger说，“通过与供应链的关键企业的合作，例如DELO，我们能够进一步提高效率，作为与工艺和设备**们一同研究并建立关键的新生产线制造步骤的中心。”“EVG和DELO分别是晶圆级光学仪器与NIL设备与光学材料的技术与市场**企业。双方在将技术与工艺流程应用于大规模生产方面有可靠的经验,”DELO的董事总经理RobertSaller说道。“通过合作，我们将提供自己独特的技术，将晶圆级工艺技术应用于光学器件和光电器件制造中，EVG也成为我们***产品开发的理想合作伙伴。这种合作还将使我们以应用**和前列合作伙伴的身份为客户服务。"晶圆级光学元件的应用解决方案EVG的晶圆级光学器件解决方案为移动式消费电子产品提供多种新型的光学传感设备。主要的例子是：3D感应，飞行时间，结构光，生物特征身份认证，面部识别,虹膜扫描，光学指纹，频谱检测，环境感应与红外线成像。其它应用领域包括汽车照明，光地毯，平视显示器，车内感应，激光雷达，内窥镜照相机医学成像，眼科设备与手术机器人。EVG的晶圆级光学仪器解决方案得到公司的NILPhotonics解决方案支援中心的支持。DELO创新的多功能材料几乎可以在世界上每部手机上找到。EVG提供不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

纳米压印设备哪个好？预墨印章用于将材料以明显的图案转移到基材上。该技术用于表面化学的局部修饰或捕获分子在生物传感器制造中的精确放置。

纳米压印设备可以进行热压花、加压加热、印章、聚合物、基板、附加冲压成型脱模。

将聚合物片或旋涂聚合物加热到其玻璃化转变温度以上，从而将材料转变为粘性状态。然后以足够的力将压模压入聚合物中。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。我们愿意与您共同进步。

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT是具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统。辽宁纳米压印代理价格

EVG紫外光纳米压印系统还有：EVG®7200LA，HERCULES®NIL，EVG®770，IQAligner®等。辽宁纳米压印代理价格

曲面基底上的纳米结构在许多领域都有着重要应用，例如仿生学、柔性电子学和光学器件等。传统的纳米压印技术通常采用刚性模板，可以实现亚10nm的分辨率，但是模板不能弯折，无法在曲面基底上压印制备纳米结构。而采用弹性模板的软压印技术可以在无外界提供压力下与曲面保形接触，实现结构在非平面基底上的压印复制，但是由于弹性模板的杨氏模量较低，所以压印结构的分辨率和精度都受到限制。基于目前纳米压印的发展现状，结合传统的纳米压印技术和软压印技术，中国科学院光电技术研究所团队发展了一种基于紫外光固化巯基-烯材料的亚100nm分辨率的复合软压印模板的制备方法，该模板包含刚性结构层和弹性基底层。（来自网络，侵权请联系我们进行删除，谢谢！） 辽宁纳米压印代理价格