碳化硅纳米压印推荐厂家

HERCULES®NIL：完全集成的纳米压印光刻解决方案，可实现300 mm的大批量生产

■批量生产低至40 nm的结构或更小尺寸（分辨率取决于过程和模板）

■结合了预处理（清洁/涂布/烘烤/冷却）和SmartNIL®技术

■全自动压印和受控的低力分离，可很大程度地重复使用工作印章

■具备工作印章制造能力

EVG®770：连续重复的纳米压印光刻技术，可进行有效的母版制作

■用于晶圆级光学器件的微透镜的高 效母模制造，直至SmartNIL®的纳米结构

■不同类型的母版的简单实现

■可变的光刻胶分配模式

■分配，压印和脱模过程中的实时图像

■用于压印和脱模的原位力控制

EVG的EVG ® 620 NT是智能NIL ® UV纳米压印光刻系统。碳化硅纳米压印推荐厂家

    具体说来就是，MOSFET能够有效地产生电流流动，因为标准的半导体制造技术旺旺不能精确控制住掺杂的水平（硅中掺杂以带来或正或负的电荷），以确保跨各组件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一层二氧化硅（SiO2）衬底上，然后沉积一层金属或多晶硅制成的。然而这种方法可以不精确且难以完全掌控，掺杂有时会泄到别的不需要的地方，那样就创造出了所谓的“短沟道效应”区域，并导致性能下降。一个典型MOSFET不同层级的剖面图。不过威斯康星大学麦迪逊分校已经同全美多个合作伙伴携手（包括密歇根大学、德克萨斯大学、以及加州大学伯克利分校等），开发出了能够降低掺杂剂泄露以提升半导体品质的新技术。研究人员通过电子束光刻工艺在表面上形成定制形状和塑形，从而带来更加“物理可控”的生产过程。（来自网络。碳化硅纳米压印推荐厂家 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法。

纳米压印光刻（NIL） -SmartNIL ®

用于大批量生产的大面积软UV纳米压印光刻工艺

介绍：

EVG是纳米压印光刻（NIL）的市场**设备供应商。EVG开拓了这种非常规光刻技术多年，掌握了NIL并已在不断增长的基板尺寸上实现了批量生产。EVG的专有SmartNIL技术通过多年的研究，开发和现场经验进行了优化，以解决常规光刻无法满足的纳米图案要求。SmartNIL可以提供低至40 nm或更小的出色的共形烙印结果。

如果要获得详细信息，请联系我们岱美仪器技术服务有限公司或者访问官网。

纳米压印应用二：面板尺寸的大面积纳米压印

EVG专有的且经过大量证明的SmartNIL技术的***进展，已使纳米图案能够在面板尺寸比较大为Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上实现。对于不能减小尺寸的显示器，线栅偏振器，生物技术和光子元件等应用，至关重要的是通过增加图案面积来提高基板利用率。 NIL已被证明是能够在大面积上制造纳米图案的**经济、高 效的方法，因为它不受光学系统的限制，并且可以为**小的结构提供比较好的图案保真度。岱美作为EVG在中国区的代理商，欢迎各位联系我们，探讨纳米压印光刻的相关知识。

EVG提供不同的***积压印系统，大面积压印机，微透镜成型设备以及用于高 效母版制作的分步重复系统。

    其中包括家用电器、医药、电子、光学、生命科学、汽车和航空业。肖特在全球34个国家和地区设有生产基地和销售办事处。公司目前拥有员工超过15500名，2017/2018财年的销售额为。总部位于德国美因茨的母公司SCHOTTAG由卡尔蔡司基金会（CarlZeissFoundation）全资拥有。卡尔蔡司基金会是德国历史**悠久的私立基金会之一，同时也是德国规模比较大的科学促进基金会之一。作为一家基金公司，肖特对其员工，社会和环境负有特殊责任。关于EV集团（EVG）EV集团（EVG）是为半导体、微机电系统（MEMS）、化合物半导体、功率器件和纳米技术器件制造提供设备与工艺解决方案的**供应商。其主要产品包括：晶圆键合、薄晶圆处理、光刻/纳米压印（NIL）与计量设备，以及涂胶机、清洗机和检测系统。EV集团成立于1980年，可为遍及全球的众多客户和合作伙伴网络提供各类服务与支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup标识是EVGroup的注册商标,SCHOTTRealView™是SCHOTT的注册商标。（来自网络。**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度，这对于实现衍射光学元件（DOE）至关重要。碳化硅纳米压印推荐厂家

EVG620 NT是以其灵活性和可靠性而闻名的，因为它以**小的占位面积提供了***的掩模对准技术。碳化硅纳米压印推荐厂家

纳米压印光刻（NIL）技术

EVG是纳米压印光刻（NIL）设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL，并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺，可用于生物MEMS，微流体，电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。

其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含：

EVG®610

EVG®620NT

EVG®6200NT

EVG®720

EVG®7200

EVG®7200LA

HERCULES®NIL

EVG®770

IQAligner®

热压纳米压抑系统型号包含：

EVG®510HE

EVG®520HE

详细的参数，请联系我们岱美有限公司。

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