纳米压印光刻(NIL)技术
EVG是纳米压印光刻(NIL)设备和集成工艺的市场**供应商。EVG从19年前的研究方法中率先并掌握了NIL,并实现了从2英寸化合物半导体晶圆到300 mm晶圆甚至大面积面板的各种尺寸基板的批量生产。NIL是产生纳米尺度分辨率图案的**有前途且相当有成本效益的工艺,可用于生物MEMS,微流体,电子学以及**近各种衍射光学元件的各种商业应用。
其中EVG紫外光纳米压印系统型号包含:
EVG®610
EVG®620NT
EVG®6200NT
EVG®720
EVG®7200
EVG®7200LA
HERCULES®NIL
EVG®770
IQAligner®
热压纳米压抑系统型号包含:
EVG®510HE
EVG®520HE
详细的参数,请联系我们岱美有限公司。
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA是自动化的全场域纳米压印解决方案,适用于第3代基材。台积电纳米压印一级代理

EV Group的一系列高精度热压花系统基于该公司市场**的晶圆键合技术。出色的压力和温度控制以及大面积上的均匀性可实现高精度的压印。热压印是一种经济高 效且灵活的制造技术,具有非常高的复制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。该系统非常适合将复杂的微结构和纳米结构以及高长宽比的特征压印到各种聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和开发
NILPhotonics能力中心是经过验证的创新孵化器。
欢迎各位客户来样制作,验证EVG的纳米压印设备的性能。
中芯国际纳米压印研发生产**小外形尺寸和大体积创新型光子结构提供了更多的自由度,这对于实现衍射光学元件(DOE)至关重要。

首先准备一块柔性薄膜作为弹性基底层,然后将巯基-烯预聚物旋涂在具有表面结构的母板上,弹性薄膜压印在巯基-烯层上,与材料均匀接触。巯基-烯材料可以在自然环境中固化通过“点击反应”形成交联聚合物,不受氧气和水的阻聚作用。顺利分离开母板后,弹性薄膜与固化后的巯基-烯层紧密连接在一起,获得双层结构的复合柔性模板。由于良好的材料特性,刚性巯基-烯结构层可以实现较高的分辨率。因此,利用该方法可以制备高 分辨的复合柔性模板,经过表面防粘处理后可以作为软压印模板使用。该研究利用新方法制备了以PDMS和PET为弹性基底的亚100nm线宽的光栅结构复合软压印模板。相关研究成果发表于《纳米科技与纳米技术杂志》(JournalofNanoscienceandNanotechnology)。(来自网络。
UV纳米压印光刻系统
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT:具有紫外线纳米压印功能的通用掩模对准系统
■高精度对准台
■自动楔形误差补偿机制
■电动和程序控制的曝光间隙
■支持***的UV-LED技术
■**小化系统占地面积和设施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA:自动化的全场纳米压印解决方案,适用于第3代基材
■体积验证的压印技术,具有出色的复制保真度
■专有的SmartNIL®技术和多用途聚合物印章技术
■集成式压印,UV固化,脱模和工作印模制作
■盒带间自动处理以及半自动研发模式
■适用于所有市售压印材料的开放平台
EVG ® 7200是自动SmartNIL ® UV纳米压印光刻系统。

IQ Aligner UV-NIL 自动化紫外线纳米压印光刻系统
应用:用于晶圆级透镜成型和堆叠的高精度UV压印系统
IQ Aligner UV-NIL系统允许使用直径从150 mm至300 mm的压模和晶片进行微成型和纳米压印工艺,非常适合高度平行地制造聚合物微透镜。该系统从从晶圆尺寸的主图章复制的软性图章开始,提供了混合和整体式微透镜成型工艺,可以轻松地将其与工作图章和微透镜材料的各种材料组合相适应。此外,EV Group提供合格的微透镜成型工艺,包括所有相关的材料专业知识。EV Group专有的卡盘设计可为高产量大面积印刷提供均匀的接触力。配置包括从压印基材上释放印章的释放机制。
岱美作为EVG在中国区的代理商,欢迎各位联系我们,探讨纳米压印光刻的相关知识。浙江晶片纳米压印
EVG ® 720是自动SmartNIL ® UV紫外光纳米压印光刻系统。台积电纳米压印一级代理
EVG ® 520 HE热压印系统
特色:经通用生产验证的热压印系统,可满足比较高要求
EVG520 HE半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。EVG的这种经过生产验证的系统可以接受直径比较大为200 mm的基板,并且与标准的半导体制造技术兼容。热压印系统配置有通用压花腔室以及高真空和高接触力功能,并管理适用于热压印的整个聚合物范围。结合高纵横比压印和多种脱压选项,提供了许多用于高质量图案转印和纳米分辨率的工艺。
如果需要详细的信息,请联系我们岱美仪器技术服务有限公司。 台积电纳米压印一级代理