晶圆轮廓仪干涉测量应用

轮廓仪对所测样品的尺寸有何要求？答：轮廓仪对载物台xy行程为140*110mm（可扩展），Z向测量范围蕞大可达10mm，但由于白光干涉仪单次测量区域比较小（以10X镜头为例，在1mm左右），因而在测量大尺寸的样品时，全检的方式需要进行拼接测量，检测效率会比较低，建议寻找样品表面的特征位置或抽取若干区域进行抽点检测，以单点或多点反映整个面的粗糙度参数；4.测量的蕞小尺寸是否可以达到12mm，或者能够测到更小的尺寸？如果需要了解更多，请访问官网。每个共焦图像是通过样品的形貌的水平切片，在不同的焦点高度捕获图像产生这样的图像的堆叠。晶圆轮廓仪干涉测量应用

表面三维微观形貌测量的意义在于，在生产中表面三维微观形貌对工程零件的许多技术性能的评家具有蕞直接的影响，而且表面三维评定参数由于能更权面，更真实的反应零件表面的特征及衡量表面的质量而越来越受到重视，因此表面三维微观形貌的测量就越显重要。通过兑三维形貌的测量可以比较权面的评定表面质量的优劣，进而确认加工方法的好坏以及设计要求的合理性，这样就可以反过来通过知道加工，优化加工工艺以及加工出高质量的表面，确保零件使用功能的实现。表面三位微观形貌的此类昂方法非常丰富，通常可分为接触时和非接触时两种，其中以非接触式测量方法为主。晶圆轮廓仪干涉测量应用但是在共焦图像中，通过多珍孔盘的操作滤除模糊细节（未聚焦），只有来自聚焦平面的光到达CCD相机。

轮廓仪产品概述：NanoX-2000/3000系列3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量（PSI）、白光垂直扫描干涉测量（VSI）和单色光垂直扫描干涉测量（CSI）等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性（稳定性）定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。想要了解更多的信息，请联系我们岱美仪器。

轮廓仪的和新团队夏勇博士，江苏省双创人才15年ADE，KAL-Tencor半导体检测设备公司研发、项目管理经验SuperSightInc.CEO/共同创始人，太阳能在线检测设备唐寿鸿博士，国家千人****25年ADE，KAL-Tencor半导体检测设备公司研发经验KLA-Tencor资申研发总监，世界即图像处理、算法**许衡博士，软件系统研发10年硅谷世界500强研发经验（BDMedicalInstrument）光学测量、软件系统岱美仪器与**组为您提供轮廓仪的技术支持，为您排忧解难。共焦显微镜通过压电驱动器和物镜的精确垂直位移来实现。

轮廓仪的自动拼接功能：条件：被测区域明显大于视场的区域，使用自动图片拼接。需要点击自动拼接，轮廓仪会把移动路径上的拍图自动拼接起来。软件会自适应计算路径上移动的偏差，自动消除移动中偏差，减小误差。但是误差是一定存在的。白光轮廓仪的典型应用：对各种产品，不见和材料表面的平面度，粗糙度，波温度，面型轮廓，表面缺陷，磨损情况，腐蚀情况，孔隙间隙，台阶高度，完全变形情况，加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。轮廓仪对载物台xy行程为140*110mm（可扩展），Z向测量范围ZUI大可达10mm。晶圆轮廓仪干涉测量应用

晶圆的IC制造过程可简单看作是将光罩上的电路图通过UV刻蚀到镀膜和感光层后的硅晶圆上这一过程。晶圆轮廓仪干涉测量应用

NanoX-系列轮廓仪代表性客户•集成电路相关产业–集成电路先进封装和材料：华天科技，通富微电子，江苏纳佩斯半导体，华润安盛等•MEMS相关产业–中科院苏州纳米所，中科电子46所，华东光电集成器件等•高效太阳能电池相关产业–常州亿晶光电，中国台湾速位科技、山东衡力新能源等•微电子、FPD、PCB等产业–三星电机、京东方、深圳夏瑞科技等具备Globalalignment&Unitalignment自动聚焦范围：±0.3mmXY运动速度**快如果有什么问题，请联系我们晶圆轮廓仪干涉测量应用

岱美仪器技术服务（上海）有限公司是以提供半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪内的多项综合服务，为消费者多方位提供半导体工艺设备，半导体测量设备，光刻机 键合机，膜厚测量仪，岱美中国是我国仪器仪表技术的研究和标准制定的重要参与者和贡献者。公司主要提供磁记录、半导体、光通讯生产及测试仪器的批发、进出口、佣金代理（拍卖除外）及其相关配套服务，国际贸易、转口贸易，商务信息咨询服务 等领域内的业务，产品满意，服务可高，能够满足多方位人群或公司的需要。产品已销往多个国家和地区，被国内外众多企业和客户所认可。