与本产品配套使用的真空泵可选择螺杆式真空泵,其具有高真空度的特点,极限真空度能满足设备对基本压力从5×10⁻¹⁰至5×10⁻¹¹mbar的要求,且采用干式运行方式,不会产生油污染,不会对设备内的高真空环境造成影响,确保设备的正常运行和薄膜的高质量生长。气体源可选用高精度的质量流量控制器,它能精确控制气体的流量,满足设备在薄膜沉积过程中对不同气体流量的需求。例如,在生长半导体材料时,需要精确控制各种气体的比例,以保证薄膜的成分和性能符合要求。磁力传输杆使用后,需清洁表面,避免杂质影响真空环境。异质结构元素外延系统进口 产品还具备较广阔的适用性,适用于III/V、II/VI族元素以及其他异质结构...
真空度抽不上去或抽速缓慢是常见的故障之一。排查应遵循由外到内、由简到繁的原则。首先,检查前级干式机械泵的出口压力是否正常,以确认其工作能力。其次,检查所有真空阀门(尤其是粗抽阀和高真空阀)的开启状态是否正确。然后,考虑进行氦质谱检漏,重点检查近期动过的法兰密封面、电极引入端和观察窗。如果无漏气,则问题可能源于腔体内部放气,比如更换靶材或样品后腔体暴露大气时间过长,内壁吸附了大量水汽,需要延长烘烤和抽气时间。也有可能是分子泵性能下降,需要专业检修。设备适用于超导材料与拓扑绝缘体研究。红外激光器外延系统靶盘多腔室系统的协同工作基于先进的设计和控制原理。以一个包含生长室、预处理室和分析室的三腔室系统...