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企业商机 - 苏州爱特维电子科技有限公司
  • 在医疗设备制造领域,等离子去胶机的应用满足了医疗设备对表面清洁度和生物相容性的严格要求。医疗设备如手术器械、植入式医疗器械等,在制造过程中会使用光刻胶、粘结胶等胶层,这些胶层若去除不彻底,不但会影响设...

  • 数据存储与追溯功能是工业等离子去钻污机实现生产质量管控的重要方式。在现代化 PCB 生产中,产品质量追溯是确保产品可靠性和应对质量问题的关键环节,需要记录每块 PCB 的生产过程参数。该设备配备的数据...

  • 等离子去钻污机的工作气体选择需根据具体处理需求进行科学配比,不同气体组合会产生不同特性的等离子体,进而影响去钻污效果。除了常用的氩气、氮气、氧气外,有时还会加入氢气、氦气等气体。氢气的加入可增强等离子...

  • 等离子除胶的主要技术基于等离子体的高活性特性。通过射频发生器或微波源电离工艺气体(如氧气、氩气),产生包含离子、电子和活性自由基的等离子体。这些活性成分与光刻胶中的有机物发生氧化反应,将其分解为挥发性...

  • 避免孔壁过度蚀刻是工业等离子去钻污机保障 PCB 孔壁质量的重要能力。过度蚀刻是指在去除钻污的过程中,孔壁基材被过度侵蚀,导致孔径变大、孔壁出现凹陷或裂纹,严重影响 PCB 的电气性能和机械强度。传统...

  • 在 PCB 多层板制造过程中,工业等离子去钻污机的应用至关重要。多层板钻孔时,钻头高速旋转与基板摩擦会产生高温,导致孔壁周围的树脂融化并残留,形成钻污,同时钻孔过程中可能产生的粉尘也会附着在孔壁。若这...

  • 在工业生产中,等离子除胶设备凭借独特的物理化学作用成为有效除胶利器。它通过电离气体产生等离子体,这些高能粒子能快速撞击物体表面的胶层。等离子体中的活性成分会打破胶层分子间的化学键,使顽固胶渍分解为小分...

  • 随着工业技术的不断进步,等离子除胶设备也在持续技术创新,未来发展趋势呈现多方向突破。在技术创新方面,设备正朝着更高精度的方向发展,通过引入激光定位和 AI 视觉识别技术,实现对微小胶渍的准确定位和去除...

  • 随着半导体技术向先进制程方向发展,对等离子去胶机的性能提出了更高的要求。在 7nm 及以下先进制程的芯片制造中,芯片的特征尺寸越来越小,光刻胶的厚度也越来越薄,传统的等离子去胶机在处理过程中容易出现胶...

  • 等离子去胶机的腔体材料选择对工艺稳定性和设备寿命至关重要。反应腔体是等离子去胶机的重要部件,长期暴露在高能等离子体和腐蚀性气体中,容易出现磨损、腐蚀等问题,影响工艺稳定性和设备寿命。目前,主流的腔体材...

  • 等离子除胶设备在半导体制造中扮演着关键角色,其应用贯穿晶圆加工全流程。在光刻工艺后,设备可快速去除残留的光刻胶层,为后续离子注入、刻蚀等步骤提供洁净表面揭。对于高剂量离子注入后的晶圆,传统湿法清洗易导...

  • 等离子除胶的主要技术基于等离子体的高活性特性。通过射频发生器或微波源电离工艺气体(如氧气、氩气),产生包含离子、电子和活性自由基的等离子体。这些活性成分与光刻胶中的有机物发生氧化反应,将其分解为挥发性...

  • 销售等离子去胶机保养 发布时间:2025.10.30

    维护与操作规范对等离子去胶机的稳定运行至关重要。日常维护包括定期清洁真空腔体、检查电极磨损情况以及更换气体过滤器,避免等离子体污染或功率衰减,确保设备长期高效运行。操作时需根据材料特性预设气体比例、功...

  • 先进的真空系统是工业等离子去钻污机实现高效钻污去除的重要保障。等离子体的产生和作用需要在特定的真空环境中进行,真空度的稳定性直接影响等离子体的密度和活性,进而决定钻污去除效果。该设备采用两级真空系统,...

  • 等离子除胶设备在纳米材料制备领域的应用展现了其对原子级表面调控的独特能力。在石墨烯转移工艺中,该技术可彻底去除聚合物支撑膜上的残留物,同时通过表面活化处理避免碳层褶皱,确保材料电学性能的完整性。对于碳...

  • 航空航天领域对零部件的性能和可靠性要求极高,等离子除胶设备在该领域的应用也十分普遍。航空航天零部件多采用高精度的材料制造,在加工和装配过程中,表面可能会残留各类胶渍,如粘结剂残留、保护膜残留胶等。这些...

  • 等离子去胶机与传统的去胶方法相比,有着诸多明显的差异。传统的去胶方法主要包括化学溶剂浸泡和高温烘烤。化学溶剂浸泡法使用各种有机溶剂来溶解光刻胶,但这种方法存在一些缺点。有机溶剂具有挥发性和毒性,对操作...

  • 等离子除胶设备是现代制造业中高效去除物体表面胶层的关键设备,其主要原理是利用等离子体的高能特性与胶层发生物理和化学作用。设备通过产生包含大量活性粒子的等离子体,这些粒子高速运动撞击胶层表面,既能破坏胶...

  • 在工业生产环境中,设备运行噪音会影响操作人员舒适度和车间环境,等离子除胶设备在设计时充分考虑了噪音控制。设备的等离子体发生装置采用静音结构设计,通过优化电极排布和气体流道,减少气体电离过程中产生的噪音...

  • 等离子除胶设备是工业表面处理领域的主要装备,通过电离气体产生高活性等离子体,实现光刻胶、树脂残留物的有效去除。其工作原理包含物理轰击与化学反应双重机制:高能离子破坏材料表面分子键,同时氧自由基将有机物...

  • 湖南自制等离子去胶机除胶 发布时间:2025.10.29

    等离子去胶机的重心在于“等离子体”。等离子体被认为是物质的第四态,是当气体被施加足够的能量时,部分气体分子被电离而产生的由离子、电子和中性粒子组成的混合体。这种状态下的物质具有极高的化学活性,能够与材...

  • 随着能源问题的日益突出,等离子去胶机的节能设计变得越来越重要。一种节能设计方法是优化等离子体的产生方式。例如,采用更高效的射频电源和等离子体激发技术,可以减少能源的消耗。合理设计反应腔室的结构也可以实...

  • 在半导体芯片封装的关键工序中,等离子除胶设备正扮演着不可或缺的 “清洁卫士” 角色。当芯片完成光刻、蚀刻等步骤后,表面残留的光刻胶若未彻底去除,会直接影响后续键合、封装的精度,甚至导致电路短路等致命缺...

  • 销售等离子除胶设备 发布时间:2025.10.29

    等离子除胶设备主要由射频/微波发生器、反应腔室、真空系统及控制系统构成。射频发生器产生高频电场电离气体,形成等离子体;反应腔室采用石英或金属材质,配备紫外观测窗以实时监控工艺过程。真空系统维持稳定气压...

  • 福建进口等离子去胶机清洗 发布时间:2025.10.29

    等离子去胶机的远程等离子体技术为敏感材料的去胶提供了安全解决方案。部分工件(如含硫系玻璃的红外光学元件)对等离子体中的高能离子较为敏感,直接暴露在等离子体中会导致表面成分改变,影响光学性能。远程等离子...

  • 先进的等离子发生技术是工业等离子去钻污机实现高效去钻污的重要支撑。等离子发生装置是设备产生等离子体的关键部件,其技术水平直接决定了等离子体的质量(如密度、活性、均匀性)。目前,该设备主要采用射频(RF...

  • 连续化生产能力是工业等离子去钻污机融入现代 PCB 生产线的重要前提。现代 PCB 生产采用流水线作业模式,各设备之间需实现无缝衔接,任何一个环节的中断都可能影响整条生产线的效率。等离子去钻污机可通过...

  • 等离子除胶设备的低温处理特性,使其在热敏性材料除胶领域具有不可替代的优势。许多工业材料如塑料、橡胶、部分复合材料等,对高温较为敏感,传统高温除胶工艺易导致材料变形、老化或性能下降。而等离子除胶设备可在...

  • 等离子去钻污机的日常维护与保养直接影响设备的使用寿命与运行稳定性。在维护过程中,首先需定期清洁真空腔体内部,去除腔体壁附着的残留污染物,避免污染物累积影响等离子体的活性与均匀性,清洁时需使用清洁剂与软...

  • 福建直销等离子去钻污机 发布时间:2025.10.29

    等离子去钻污机作为现代工业精密清洗的重要设备,其工作原理基于等离子体的物理与化学协同作用。通过射频电源将惰性气体(如氩气)或活性气体(如氧气)电离,形成高能电子、离子和自由基组成的等离子体。这些活性粒...

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