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企业商机 - 苏州爱特维电子科技有限公司
  • 工业等离子去钻污机处理腔室采用的耐腐蚀材料,有效提升了设备的耐用性。在设备运行过程中,处理腔室内会产生等离子体和反应后的气体物质,部分物质可能具有一定的腐蚀性,长期使用会对腔室壁造成腐蚀,影响腔室的密...

  • 等离子除胶设备的操作便捷性得益于高度自动化设计。现代机型集成PLC控制系统与触摸屏界面,用户明显需预设功率(50-300W可调)、压力(1-10Pa)及气体流量(0-200sccm)等参数,即可实现全...

  • 温控模块在等离子去钻污机中起到保障设备稳定运行与基板质量的重要作用。等离子体在与钻污反应过程中会释放热量,若腔内温度过高,可能导致 PCB 基板变形、树脂软化,甚至影响基板的电气性能;因此,温控模块需...

  • 数据存储与追溯功能是工业等离子去钻污机实现生产质量管控的重要方式。在现代化 PCB 生产中,产品质量追溯是确保产品可靠性和应对质量问题的关键环节,需要记录每块 PCB 的生产过程参数。该设备配备的数据...

  • 等离子去钻污机的适用性普遍覆盖多种工业场景,尤其在精密制造领域表现突出。在电子行业,它不仅能去除PCB钻孔中的树脂残留和铜屑,还能活化孔壁以提升镀层附着力,普遍应用于5G通信设备、汽车电子等高可靠性产...

  • 等离子除胶设备具有良好的兼容性,能适应不同材质、不同形状工件的除胶需求。无论是金属、塑料、玻璃、陶瓷等常见工业材质,还是复合材料、特殊高分子材料等,等离子除胶设备都能通过调整除胶参数(如工作气体、等离...

  • 智能等离子去钻污机保养 发布时间:2025.11.26

    操作便捷性是工业等离子去钻污机在实际应用中广受青睐的重要原因。设备的操作界面采用人性化设计,多以触摸屏为主,将重要操作功能(如参数设置、启动 / 停止、故障查询等)以图标或文字形式清晰呈现,操作人员无...

  • 湖南等离子去钻污机租赁 发布时间:2025.11.26

    等离子去钻污机作为现代工业精密清洗的重要设备,其工作原理基于等离子体的物理与化学协同作用。通过射频电源将惰性气体(如氩气)或活性气体(如氧气)电离,形成高能电子、离子和自由基组成的等离子体。这些活性粒...

  • 等离子去钻污机的日常维护与保养直接影响设备的使用寿命与运行稳定性。在维护过程中,首先需定期清洁真空腔体内部,去除腔体壁附着的残留污染物,避免污染物累积影响等离子体的活性与均匀性,清洁时需使用清洁剂与软...

  • 等离子去钻污机的等离子体能量控制精度是保证处理效果一致性。设备通过高频电源的功率调节模块,可将输出功率控制在范围内,根据 PCB 板的厚度、孔径大小与钻污程度调整功率参数,避免功率过高导致孔壁过度蚀刻...

  • 等离子去钻污机的等离子体能量控制精度是保证处理效果一致性。设备通过高频电源的功率调节模块,可将输出功率控制在范围内,根据 PCB 板的厚度、孔径大小与钻污程度调整功率参数,避免功率过高导致孔壁过度蚀刻...

  • 从工作原理来看,等离子去钻污机的主要系统由等离子发生装置、真空腔体、气体控制系统与温控模块四部分构成。设备启动后,真空腔体首先抽取内部空气至设定真空度,随后气体控制系统按工艺配比通入反应气体,高频电源...

  • 等离子去胶机在处理含金属镀层的工件时,可通过工艺调整避免金属层腐蚀。许多工件表面会预先制备金属镀层(如铜、铝、金等),用于实现导电、散热等功能,若去胶工艺不当,等离子体中的活性粒子可能对金属镀层造成腐...

  • 符合国家环保政策要求是工业等离子去钻污机在市场竞争中脱颖而出的重要优势。近年来,国家出台了一系列严格的环保政策,对工业生产中的污染物排放提出了明确要求,对不符合环保标准的设备和生产工艺进行限制和淘汰。...

  • 等离子除胶设备在环保与可持续发展领域的应用彰显了其绿色制造技术的重要价值。该技术通过干式处理完全替代传统溶剂清洗,从源头消除VOCs(挥发性有机物)排放和化学废液处理难题,符合全球环保法规的严苛要求。...

  • 浙江国内等离子去胶机蚀刻 发布时间:2025.11.24

    等离子去胶机的重心在于“等离子体”。等离子体被认为是物质的第四态,是当气体被施加足够的能量时,部分气体分子被电离而产生的由离子、电子和中性粒子组成的混合体。这种状态下的物质具有极高的化学活性,能够与材...

  • 等离子去胶机的远程等离子体技术为敏感材料的去胶提供了安全解决方案。部分工件(如含硫系玻璃的红外光学元件)对等离子体中的高能离子较为敏感,直接暴露在等离子体中会导致表面成分改变,影响光学性能。远程等离子...

  • 湖南机械等离子去胶机租赁 发布时间:2025.11.24

    光学元件制造领域,等离子去胶机的应用解决了光学元件表面胶层去除难题,同时保护了光学元件的光学性能。光学元件如透镜、棱镜、反射镜等,在制造过程中需要进行光刻、镀膜等工艺,光刻胶的去除是关键工序之一。由于...

  • 等离子除胶设备在新能源电池制造领域的应用凸显了其对材料性能的准确调控能力。在锂离子电池极片生产中,该技术可彻底去除铜箔表面的有机涂层残留和金属杂质,同时通过表面活化处理增强电解液浸润性,提升离子传输效...

  • 河北等离子去胶机保养 发布时间:2025.11.24

    等离子去胶机的工艺重复性是工业量产中的关键考量因素。在大规模生产场景中,若不同批次工件的去胶效果存在差异,会导致产品良率波动,增加生产成本。为提升工艺重复性,现代等离子去胶机通常采用闭环控制技术,通过...

  • 山西自制等离子去钻污机 发布时间:2025.11.24

    操作安全规范是企业安全生产的重要保障。设备在运行过程中涉及高频高压、真空环境、气体使用等危险因素,因此操作人员必须经过专业培训,熟悉设备的工作原理和安全操作规程。在操作前,需检查设备的安全防护装置(如...

  • 半导体行业对生产环境和零部件洁净度的要求达到纳米级别,等离子除胶设备成为半导体制造流程中的关键设备。在半导体芯片制造过程中,晶圆表面会残留光刻胶、蚀刻残留物等胶状物质,这些物质若未彻底去除,会严重影响...

  • 在显示面板生产过程中,等离子去胶机同样发挥着不可或缺的作用。随着显示技术向高分辨率、柔性化方向发展,面板基板表面的胶层去除精度要求越来越高。等离子去胶机凭借其优异的工艺可控性,能够根据不同类型的胶层(...

  • 等离子除胶设备在半导体制造中扮演着关键角色,其应用贯穿晶圆加工全流程。在光刻工艺后,设备可快速去除残留的光刻胶层,为后续离子注入、刻蚀等步骤提供洁净表面揭。对于高剂量离子注入后的晶圆,传统湿法清洗易导...

  • 基于等离子体的杀菌特性,等离子除胶设备在医疗器械灭菌领域也实现了延伸应用。部分先进等离子除胶设备在完成除胶作业后,可通过切换工作气体(如引入氧气、氮气混合气体)和调整参数,利用等离子体中的活性氧、氮自...

  • 等离子去钻污机的真空腔体设计是确保工艺效果的关键因素之一。为保证腔内等离子体的均匀分布,腔体通常采用不锈钢材质(如 304 或 316L),内壁经过精密抛光处理,减少气体湍流与粒子吸附;腔体的形状多为...

  • 光伏组件边框多采用铝合金材质,在焊接工序前,边框表面易残留氧化膜、油污及胶层,这些污染物会影响焊接质量,导致边框与光伏组件的连接不牢固,在运输和安装过程中出现边框脱落。等离子除胶设备通过有效清洁与表面...

  • 在企业注重降本增效的背景下,等离子清洗机的能耗优化成为技术研发的重要方向。现代等离子清洗设备通过采用有效射频电源、智能功率调节系统,可根据处理工件的材质与污染程度,自动调整能耗输出,避免能源浪费。例如...

  • 上海直销等离子去胶机清洗 发布时间:2025.11.23

    等离子去胶机是半导体制造中的关键设备,通过高频电场电离气体产生等离子体,实现有效、准确的胶层去除。其主要优势在于干法工艺,避免了化学溶剂的使用,大幅减少环境污染。在晶圆加工中,该设备能彻底去除光刻胶残...

  • 适应不同孔径范围的 PCB 处理需求是工业等离子去钻污机的重要优势。PCB 的孔径大小因应用场景而异,从用于微型传感器的微小孔径,到用于功率器件的大孔径,覆盖范围极广。不同孔径的 PCB 对钻污去除的...

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