面对高温高湿等恶劣生产环境,中清航科对晶圆切割设备进行了特殊环境适应性改造。设备电气系统采用三防设计(防潮湿、防霉菌、防盐雾),机械结构采用耐腐蚀材料,可在温度30-40℃、湿度60-85%的环境下稳...
面对高温高湿等恶劣生产环境,中清航科对晶圆切割设备进行了特殊环境适应性改造。设备电气系统采用三防设计(防潮湿、防霉菌、防盐雾),机械结构采用耐腐蚀材料,可在温度30-40℃、湿度60-85%的环境下稳...
中清航科兆声波清洗技术结合纳米气泡喷淋,去除切割道深槽内的微颗粒。流体仿真设计使清洗液均匀覆盖15:1深宽比结构,残留物
在晶圆切割的质量检测方面,中清航科引入了三维形貌检测技术。通过高分辨率confocal显微镜对切割面进行三维扫描,生成精确的表面粗糙度与轮廓数据,粗糙度测量精度可达0.1nm,为工艺优化提供量化依据。...
流片周期的长短直接影响产品的市场竞争力,中清航科通过流程优化与资源调度,打造出行业的快速流片能力。针对成熟制程,建立“绿色通道”服务,将传统10-12周的流片周期缩短至6-8周,其中掩膜版制作环节通过...
半导体晶圆的制造过程制造过程始于一个大型单晶硅的生产(晶锭),制造方法包括直拉法与区熔法,这两种方法都涉及从高纯度硅熔池中控制硅晶体的生长。一旦晶锭生产出来,就需要用精密金刚石锯将其切成薄片状晶圆。随...
针对航天电子需求,中清航科在屏蔽室内完成切割(防宇宙射线干扰)。采用低介电刀具材料,避免静电放电损伤,芯片单粒子翻转率降至10⁻⁹errors/bit-day。中清航科提供IATF16949认证切割参...
半导体制造对洁净度要求严苛,晶圆切割环节的微尘污染可能导致芯片失效。中清航科的切割设备采用全封闭防尘结构与高效HEPA过滤系统,工作区域洁净度达到Class1标准,同时配备激光诱导等离子体除尘装置,实...