在上述硅烷系偶联剂的含量处于上述含量范围内的情况下,能够调节添加剂本身凝胶化,且获得合适的sio2防蚀和sin蚀刻性能。(c)水本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述水可以为用于半导体工序的去离子水,推荐...
以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部,该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的***风刀41,以...
在上述硅烷系偶联剂的含量处于上述含量范围内的情况下,能够调节添加剂本身凝胶化,且获得合适的sio2防蚀和sin蚀刻性能。(c)水本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述水可以为用于半导体工序的去离子水,推荐...
可以维持合适的蚀刻速度且提高sin/sio2选择比。(b)硅烷系偶联剂本发明的蚀刻液组合物中所包含的上述硅烷(silane)系偶联剂作为防蚀剂可以在防止包含氧化物膜和氮化物膜的膜中的氧化物膜被上述磷酸...
更推荐满足。参照图4,在添加剂(硅烷系偶联剂)的aeff处于,能够使因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良**少化,在硅烷系偶联剂的aeff处于,能够使氧化物膜损伤不良**少。因此,...
图7:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构运作局部放大图。图8:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图9:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大...
所述有机硫化合物具有作为还原剂及络合剂(chelate)的效果。作为所述硫酮系化合物,例如可举出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N,N-三烷基硫脲、N,N,N,N-四烷...
所述有机硫化合物具有作为还原剂及络合剂(chelate)的效果。作为所述硫酮系化合物,例如可举出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N,N-三烷基硫脲、N,N,N,N-四烷...
所述液位计连接有液相气相温度传感器和压力传感器。在其中一个实施例中,所述分离器的侧壁上设有多个视镜。在其中一个实施例中,所述液位计安装于所述分离器的外表面。在其中一个实施例中,所述液位开关为控制阀,设...