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杭州自动化异质结电池

来源: 发布时间:2024年01月22日

异质结电池生产流程与常规晶硅工艺的区别。常规晶硅工艺:1、清洗制绒。通过腐蚀去除表面损伤层,并且在表面进行制绒,以形成绒面结构达到陷光效果,减少反射损失;2、扩散制结。通过热扩散等方法在硅片上形成不同导电类型的扩散层,以形成p-n结;3、刻蚀去边。去除扩散后硅片周边的边缘结;4、去磷硅玻璃。扩散过程中,在硅片表面会形成一层含磷的氧化硅,称为磷硅玻璃(PSG),需要用氢氟酸腐蚀去掉;5、镀减反射膜。为进行一步提高对光的吸收,在硅片表面覆盖一层减反射膜。常用PECVD进行SiNx薄膜沉积,同时起到钝化的作用;6、栅线电极。在电池正面用丝网印刷进行栅线电极制作,在背面印刷背场(BSF)和背电极,并且进行干燥和烧结;7、电池测试及分选。零界高效异质结电池整线设备,可延伸至钙钛矿叠层及IBC等技术。杭州自动化异质结电池

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异质结电池HJT是HeterojunctionTechnology的缩写,是一种N型单晶双面电池,具有工艺简单、发电量高、度电成本低的优势。异质结太阳能电池使用晶体硅片进行载流子传输和吸收,并使用非晶/或微晶薄硅层进行钝化和结的形成。顶部电极由透明导电氧化物(TCO)层和金属网格组成。异质结硅太阳能电池已经吸引了很多人的注意,因为它们可以达到很高的转换效率,可达26.3%,由隆基团队对HJT极限效率进行更新为28.5%,同时使用低温度加工,通常整个过程低于200℃。低加工温度允许处理厚度小于100微米的硅晶圆,同时保持高产量。深圳高效硅异质结无银光伏异质结结合了晶体硅和薄膜太阳能电池的优点,能在低成本下实现高效率。

光伏异质结中的光电转换效率受到多种因素的影响,其中主要的因素包括以下几点:1.材料的选择:光伏异质结中的材料种类和质量对光电转换效率有着至关重要的影响。通常情况下,选择具有较高吸收系数和较低缺陷密度的材料可以提高光电转换效率。2.光照强度:光伏异质结的光照强度越高,其光电转换效率也会越高。因此,在实际应用中,需要根据光伏电池的使用环境和光照条件进行合理的设计和安装。3.温度:温度对光伏异质结的光电转换效率也有着显着的影响。一般来说,光伏电池的温度越低,其光电转换效率也会越高。4.结构设计:光伏异质结的结构设计也会对其光电转换效率产生影响。例如,通过优化电极结构和光伏电池的厚度等参数,可以提高光伏电池的光电转换效率。5.光伏电池的制备工艺:光伏电池的制备工艺也会对其光电转换效率产生影响。例如,采用高质量的制备工艺可以减少杂质和缺陷的存在,从而提高光伏电池的光电转换效率。

异质结(Heterojunction with Intrinsic Thin-layer,HJT)电池为对称的双面结构,主要由 N 型单晶硅片衬底、正面和背面的本征/掺杂非晶硅薄膜层(包括 N 型非晶硅薄膜 n-a-Si:H、本征非晶硅薄膜 i-a-Si:H 和 P 型非晶硅薄膜 p-a-Si:H)、双面的透明导电氧化薄膜(TCO) 层和金属电极构成。其中,本征非晶硅层起到表面钝化作用,P型掺杂非晶硅层为发射层,N 型掺杂非晶硅层起到背场作用。HJT是有潜力优势的技术,在将来HJT电池与钙钛矿技术进行复合叠层,突破转换效率30%成为可能。异质结电池能够充分利用太阳能资源,为人类创造更多的清洁能源和经济效益。

高效异质结电池生产流程中使用的设备,PECVD 1.等离子化学气相沉积(PlasmaEnhancedCVD,PECVD)是指利用辉光放电的物理作用来化学气相沉积反应的CVD技术;2.异质结非晶硅薄膜沉积是采用RPECVD技术,射频等离子体增强化学气相沉积(RFPlasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,RPECVD),是PECVD的另外一种技术。它是利用射频能量使反应气体等离子化。优点:低温成膜(300-350℃),对基片影响小,避免了高温带来的膜层晶粒粗大;l低压下形成薄膜厚度及成分较均匀、膜层致密、内应力小,不易产生裂纹;l扩大CVD应用范围,特别是在不同基片上制备金属薄膜、非晶态无机薄膜等,薄膜的附着力大于普通CVD。光伏异质结技术不断进步,已成为太阳能产业的重要发展方向。四川光伏异质结装备

异质结电池提升了太阳能电池的转换效率、良率和产能,并极大降低了生产成本。杭州自动化异质结电池

高效异质结电池整线装备,物理的气相沉积,PVD优点沉积速度快、基材温升低;所获得的薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好;溅射工艺可重复性好,精确控制厚度;膜层粒子的散射能力强,绕镀性好;不同的金属、合金、氧化物能够进行混合,同时溅射于基材上;缺点:常规平面磁控溅射技术靶材利用率不高,一般低于40%;在辉光放电中进行,金属离化率较低。反应等离子体沉,RPD优点:对衬底的轰击损伤小;镀层附着性能好,膜层不易脱落;源材料利用率高,沉积速率高;易于化合物膜层的形成,增加活性;镀膜所使用的基体材料和膜材范围广。缺点:薄膜中的缺陷密度较高,薄膜与基片的过渡区较宽,应用中受到限制(特别是电子器件和IC);薄膜中含有气体量较高。杭州自动化异质结电池