Plasma封装等离子清洗机,顾名思义,其主要在于利用等离子体(Plasma)这一高能态物质对材料表面进行深度清洁与改性。在真空环境下,通过高频电场激发工艺气体,使其电离形成等离子体。这些等离子体中的高能粒子、自由基等活性物质,能够迅速与材料表面的污染物发生反应,将其分解为挥发性物质并被真空泵抽走,从而实现表面的深度清洁。同时,等离子体还能与材料表面分子发生化学反应,引入新的官能团,实现表面改性。相比传统清洗方法,Plasma封装等离子清洗机具有无需化学溶剂、无废水排放、环保节能、处理速度快、效果明显等优势。使用大腔体真空等离子可高效、均匀进行表面活化处理,提高润湿性,从而提高粘接强度。辽宁大气等离子清洗机厂家供应
等离子清洗机(plasmacleaner)是高科技的一款表面处理设备,通过等离子体来达到表面处理的作用;获得清洗、活化、刻蚀、涂层等多方向的应用,解决各种行业的表面处理难题。1、等离子清洗机原理密闭的反应腔体(真空室、真空腔体)被真空泵不断抽气,从1个标准大气压下降到设定的压力值并维持真空度;通入氩、氢、氮气等工艺气体,启动等离子发生器,让反应腔体内电极之间产生高压交变电场,使得自由电子能量加速,去激发工艺气体分子形成等离子体,具有高反应活性或高能量的等离子体,会与有机污染物及微颗粒污染物反应、碰撞形成各种挥发性物质,这些挥发性物质伴随工艺气流由真空泵抽取出去,从而达到被处理对象表面清洁、活化等目的。辽宁低温等离子清洗机技术指导通常我们接触到得到等离子的方式有三种:高温(燃烧)、高压或者高频、高压源(等离子电源)下产生。
光刻胶的去除在IC制造工艺流程中占非常重要的地位,其成本约占IC制造工艺的20-30%,光刻胶去胶效果太弱影响生产效率,去胶效果太强容易造成基底损伤,影响整个产品的成品率。传统主流去胶方法采用湿法去胶,成本低效率高,但随着技术不断选代更新,越来越多IC制造商开始采用干法式去胶,干法式去胶工艺不同于传统的湿法式去胶工艺,它不需要浸泡化学溶剂,也不用烘干,去胶过程更容易控制,避免过多算上基底,提高产品成品率。干法式去胶又被称为等离子去胶,其原理同等离子清洗类似,主要通过氧原子核和光刻胶在等离子体环境中发生反应来去除光刻胶,由于光刻胶的基本成分是碳氢有机物,在射频或微波作用下,氧气电离成氧原子并与光刻胶发生化学反应,生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通过泵被真空抽走,完成光刻胶的去除。等离子物理去胶过程:主要是物理作用对清洗物件进行轰击达到去胶的目的,主要的气体为氧气、氩气等,通过射频产生氧离子,轰击清洗物件,以获得表面光滑的较大化,并且结果是亲水性增大。
汽车内外饰件普遍呈弯曲、凹凸等非平面造型,在喷漆、粘接、涂覆工艺前,可使用等离子设备对汽车内饰件、仪表板、储物盒、天窗导轨、车灯等内外饰件进行表面活化,确保后续工艺质量。等离子表面处理具有处理效果均匀。无明火室温处理,材料不易烫坏变形、环保无污染和适用范围广等优点,在汽车产业中也起着不可或缺的作用。①塑料内饰件粘接前经等离子处理可实现表面活化,改善表面润湿性,确保粘接质量。②大尺寸弯曲、凹凸非平面的内饰件可使用真空等离子清洗机高效、均匀地进行表面活化处理,不同规格的内饰件可定制相应尺寸的腔体。等离子体是物质的一种状态,也叫做物质的第四态,并不属于常见的固液气三态。
等离子体技术的特点是不分材料的几何形状和类型,均可进行PlaSMA等离子处理,对金属、半导体、氧化物、PET纤维、PDMS、PTFE、ITO/FTO导电玻璃、硅片和大多数高分子材料,如液晶高分子、聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、聚四氟乙烯和石墨烯粉末、金属氧化物粉末、聚乙二醇粉末、碳黑粉末、碳纳米管粉末、硼粉、铝粉、荧光粉等都能很好地处理,可实现整体和局部以及复杂结构的清洗、活化、改性、蚀刻。选择适合的等离子清洗机能保证材料表面不被损伤,也能提升材料物理和化学性能。等离子表面处理技术主要应用于手机组装粘接前、中框粘接前、摄像头模组封装前、手机触摸屏等工艺中。吉林宽幅等离子清洗机性能
等离子体和固体、液体或气体一样,是物质的一种状态,也叫做物质的第四态。辽宁大气等离子清洗机厂家供应
在汽车行业中,未经处理的挡风玻璃表面可能缺乏足够的活化能,使得涂层、粘合剂等材料难以与其形成牢固的化学键。挡风玻璃表面的附着力和耐久性直接影响其涂层、粘合剂等材料的性能和使用寿命。如果表面附着力不足,涂层和粘合剂容易脱落或开裂等问题。等离子清洗机具有表面活化功能,通过等离子体的作用,能够完全去除挡风玻璃表面的有机物和其他污染物,从而增加了表面能,提高了油墨、涂层或其他材料与挡风玻璃表面的附着力。针对汽车玻璃制程中印刷、粘接工艺前,可使用等离子清洗机、USC超声波除尘达到表面活化、精细除尘的目的。辽宁大气等离子清洗机厂家供应