线路板去膜剂

半导体产品具有精度高、材质敏感等特点，对去膜剂的要求极高，注重低残留、温和无损伤、高洁净度，点石安达^®去膜剂全系列产品能够精细适配半导体用去膜场景，满足半导体生产的精细去膜需求。

在半导体去膜场景中，点石安达^®选择性干膜去除剂、去膜剂（通用型）能够温和去除半导体表面的膜层与干膜，无残留、无损伤，确保半导体的精度与性能，避免因去膜不当导致的半导体损坏，提升制程良率提优效果，契合精密加工的场景需求。 干膜剥离选点石安达®，温和不伤基材更安心！线路板去膜剂

技术创新是点石安达^®的**竞争力，公司高度重视研发投入，组建了一支以清华、中科大等博士为中心的专业研发团队，团队成员均具备深厚的精细化工、材料科学、电子制造等相关领域背景，拥有多年去膜剂产品研发与行业应用经验。研发团队始终聚焦行业痛点与技术前沿，密切关注电子、金属、矿冶等行业的技术升级需求，持续探索新配方、新工艺、新技术，将前沿科研成果与实际生产场景深度结合，不断优化产品性能，提升产品的适配性与实用性。广州PCB线路板去膜剂价格咨询无残留去膜更彻底，点石安达®去膜剂，清洁无忧虑！

点石安达^®去膜加速剂主打加速高效、协同增效，能够与各类去膜剂协同使用，***提升去膜速度，缩短去膜周期，特征如下：

1.加速去膜，提升效率：采用加速配方，能够快速渗透到膜层内部，加速膜层的瓦解与剥离，与各类去膜剂协同使用，可提升去膜速度，缩短去膜时间，提升生产效率。

2.协同增效，不影响去膜效果：与点石安达®去膜剂、选择性干膜去除剂、护锡去膜剂、铝基板去膜剂等各类去膜产品协同使用，不会影响去膜剂的去膜效果与护材性能，同时能够提升去膜的彻底性，减少膜层残留。

3.适配范围广，通用性强：能够适配各类去膜剂与各类膜层，包括干膜、常规膜层、顽固膜层等，适配金面去膜、铝基去膜、线路板脱膜、半导体用去膜等多种场景，通用性强。

针对不同行业的特性与去膜需求，点石安达^®优化产品配方，提升产品的适配性：电子行业场景，产品注重低残留、温和无损伤，适配线路板、半导体、软板等精密产品的去膜需求；金属行业场景，产品注重缓蚀、防锈，在去膜的同时保护金属基材，避免金属腐蚀；矿冶行业场景，产品注重耐腐、耐污，能够适配高尘、高污、高腐蚀的复杂工况，实现金属洁净脱膜；环保行业场景，产品注重绿色环保，契合环保处理的相关要求。

此外，点石安达^®去膜剂能够适配不同的生产工艺，包括浸泡、喷淋、擦拭、循环等多种去膜方式，根据客户的生产设备与生产需求灵活选择，提升使用便捷性，适配不同产能的生产场景，无论是中小批量生产，还是大规模连续化生产，都能实现稳定、高效的去膜效果。 博士自研去膜有实力，点石安达®去膜剂值得信赖！

点石安达^®选择性干膜去除剂针对性适配干膜去除场景，主打选择性剥离、温和无损，特征如下：

1.选择性剥离，精细去膜：采用选择性配方，能够精细识别干膜与其他膜层、基材，只去除干膜，不影响其他膜层与基材的性能，避免因去膜不当导致的基材损伤与产品不良，提升制程良率提优效果。

2.干膜温和剥离，无残留：配方温和，能够温和剥离干膜，避免干膜残留、脱落不彻底等问题，去膜后基材表面洁净、干爽，无任何残留，为后续表面处理、电镀等工序提供保障。

3.适配多类干膜，通用性强：能够适配不同类型的干膜，包括常规干膜、厚干膜等，适配PCB线路板、软板、半导体等多种精密基材，满足电子行业的精细去膜需求。 MSAP 制程配套去膜剂，适配多阶线路，剥离效率稳定。线路板去膜剂

铝基板制程用去膜剂，溶解稳定，减少板面腐蚀现象。线路板去膜剂

点石安达®去膜加速剂主打加速高效、协同增效，能够与各类去膜剂协同使用，***提升去膜速度，缩短去膜周期，特征如下：

1.温和安全：配方温和，无强烈腐蚀性，不会对基材造成损伤，不会产生有害残留，使用过程中不会对操作人员造成伤害，安全可靠。

2.绿色环保，合规达标：采用环保型原料，无磷、无重金属、无有害挥发物，可生物降解，使用后废水易处理，符合国家环保标准，契合绿色生产理念。

3.用量少，成本可控：浓缩型配方，用量少，只需少量添加，降低单位使用成本，同时减少运输与储存成本，为企业降低生产成本。

点石安达^®去膜加速剂适用于电子、金属、矿冶等行业的各类去膜场景，尤其适配对生产效率要求较高的连续化生产场景，能够与各类去膜剂协同使用，提升去膜效率，缩短生产周期，降低生产成本，同时契合加速高效的场景需求，助力企业实现高效生产。 线路板去膜剂

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