超高真空机组:针对超高真空度(10^-6-10^-12Pa),如半导体制造中的光刻设备,需采用多级泵组合,如机械泵-涡轮分子泵-离子泵。先由机械泵预抽,再经涡轮分子泵提升真空度,之后启动离子泵,将真空度提升至10^-9-10^-12Pa。工作时,各泵按严格顺序启动,且运行过程中需精确控制,防止外界气体进入,保证光刻过程中芯片制造精度。真空泵性能是决定真空机组真空度关键因素。不同类型真空泵极限真空度和抽气速率差异明显。如旋片泵极限真空度一般在10^-2-10^-3Pa,抽气速率相对较小;而涡轮分子泵极限真空度可达10^-11Pa,抽气速率大。客户的满意,是华中真空设备永恒的追求!浙江罗茨真空机组厂家
采用先进的密封技术和高质量的密封材料,提高真空系统的密封性。在管道连接、阀门安装等部位,选用性能优良的密封件(如氟橡胶密封圈、金属密封件等),并保证密封面的加工精度和光洁度。同时,在系统安装完成后,进行严格的检漏工作,采用氦质谱检漏仪等高精度检漏设备,及时发现并修复泄漏点,将系统泄漏率控制在极低的水平(通常要求泄漏率小于10⁻¹⁰Pa・m³/s)。定期对系统进行维护和保养,检查密封件的状态,及时更换老化或损坏的密封件,防止因密封失效导致的泄漏。对于长期运行的真空系统,还可以采用定期烘烤的方式,去除密封件表面吸附的气体和水分,恢复其密封性能。海南真空机组设备华中真空技术力量雄厚:始终坚持“优良的产品、优良的服务、优良的质量、良好的信誉”为宗旨服务于客户。
其内部有多层动叶片和静叶片相间排列,动叶片由电机驱动高速旋转,转速可达数万转每分钟。气体分子进入泵腔后,频繁碰撞高速旋转的动叶片,获得指向排气口的动量,经多级叶片加速后,被推向排气口排出。由于工作时转速极高,对安装精度、动平衡要求严格,且需搭配前级机械泵使用,先由机械泵将系统真空度抽至 10 - 10^-1 Pa,分子泵才能启动正常工作。涡轮分子泵可达到高真空至超高真空度,范围为 10^-4 - 10^-11 Pa,广泛应用于半导体制造、航空航天模拟等对真空度要求严苛的领域。
离子泵无油污染、极限真空度高,可达10^-7-10^-12Pa,适用于超高真空环境,如半导体制造中的光刻、电子显微镜等设备,但价格较高、抽气速率相对较小。吸附泵利用多孔吸附剂材料(如分子筛、活性炭等)吸附气体分子来降低空间内气体压强。工作时,吸附剂对不同气体分子有选择性吸附作用,将气体分子捕获在其孔隙表面。吸附泵常用于获取中真空环境,范围为10^3-10^-2Pa,在一些对真空度要求不高且需快速建立真空的场合应用,如实验室小型真空系统。其优点是结构简单、无运动部件、无油污染,但吸附容量有限,需定期再生吸附剂以维持性能。山东华中真空设备拥有一站式服务产品体系的团队:团结合作、敬业尽责、共同超越企业使命!
在半导体芯片制造过程中,光刻、刻蚀等关键工序需要超高真空环境(真空度通常要求在10⁻⁸Pa以下)。为了达到这一真空度,采用涡轮分子泵机组作为重点抽气设备,并搭配干泵作为前级泵。在系统设计上,采用全金属密封结构,减少泄漏;选用低放气率的不锈钢材料制作真空室和管道;在生产前,对系统进行高温烘烤除气(温度约300℃,持续24小时),去除材料表面的吸附气体。同时,通过实时监测和控制,将真空度稳定控制在10⁻⁹Pa左右,确保芯片制造的精度和质量。华中真空定期组织全员培训,提高员工的管理、技能水平。浙江罗茨真空机组厂家
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根据实际应用对真空度的要求,合理选择重点泵的类型和规格。对于需要高真空度的场景,应选择涡轮分子泵、扩散泵等具有高极限真空度的泵作为主泵;对于中低真空需求,可选择旋片泵、罗茨泵等。同时,根据主泵的性能参数,搭配合适的前级泵,确保前级泵能够为主泵提供良好的前置真空环境。此外,还可以通过多级泵串联的方式提高机组的较高真空度。例如,将多台罗茨泵串联使用,可以提高机组的增压比,从而提升较高真空度;在涡轮分子泵机组中,增加牵引泵级,可以提高对轻质气体(如氢气)的抽气效率,进一步降低系统内气体压强。浙江罗茨真空机组厂家