宽流速工艺怎么稳？XNano™Prime全区间控流

高流速工艺研发往往需要同时兼顾低流速下的微量配方筛选与高流速下的连续中试模拟，市面上多数LNP设备流速调控范围有限，高低流速工况切换时，常出现流量漂移、两相混合失衡的情况，既拉长工艺调试周期，也易造成样本状态波动。XNano™Prime搭载全域宽流速调控系统，覆盖0.1–2400mL/min运行区间，各流速段均可保持稳定的流量输出，作为适配性较强的微流控设备，为高低流速一体化制备提供扎实的硬件支撑。

宽流速一体化控流硬件设计思路

设备搭载多级变频输送单元，分段适配低、中、高流速区间，全量程流量支持闭环实时校正，保障不同流速下的输出稳定性。微流控、T-mix双混合单元同步匹配全域流速范围，不同流量条件下，两相混合的剪切环境保持统一。这套硬件架构是实现高低流速一体化制备的基础，让单台微流控设备可覆盖多阶段研发工况，减少多设备切换带来的工艺偏差。

0.1–10mL/min低流速区间：微量小试配方筛选工况

控流性能方面，采用适配微量场景的泵控设计，流量偏差控制在较小范围，长时间运行不会出现微量漂移，维持稳定的流速比例。适配早期脂质配方梯度摸索、微量多变量平行对照、新型载体预筛选等小试场景，满足研发前期多样本探索的需求。工艺层面，低流速下可稳定把控两相流速比，微量体系的配比状态稳定，有助于减少珍贵原料的不必要损耗，加快前期筛选节奏。

10–500mL/min中流速区间：标准化工艺定型工况

控流性能方面，流量输出平稳，管路压力波动幅度较低，可适配长时间连续制备运行，维持稳定的混合状态。适配标准配方稳定性考察、下游纯化工艺配套样本制备、小批量实验制剂产出等场景，为工艺定型提供充足的样本支撑。工艺层面，可在该区间锁定适配的基础工艺参数，形成可复用的标准配方文件，为后续放大工作铺垫基础。

500–2400mL/min高流速区间：中试模拟连续制备工况

控流性能方面，大功率输送模块配合压力缓冲结构，高流速下可持续稳定控流，配比不会出现偏移，保障连续制备的一致性。适配中试工艺预验证、大批量均质样本连续制备、量产设备工艺前置模拟等场景，提前还原放大后的运行环境。工艺层面，可复刻量产设备的高流速工况，提前预判放大过程中粒径、包封表现的变化趋势，降低后续放大阶段的调试工作量。

全域宽流速对工艺研发的综合价值

单台设备覆盖微量筛选到高流速中试模拟全流程，无需采购多台不同量程的制备设备，减少硬件投入与场地占用。全流速区间共用同一套流体控制模型，低流速下优化的参数可直接平移至高流速工况，减少重复调试的工作量。高流速工况下的流量可实时自动校正，大幅降低工艺调试频次，提升连续制备的批次一致性，加快工艺打磨节奏。

XNano™Prime依托0.1–2400mL/min的超宽可调流速范围，搭配全域稳定控流的硬件设计，完整覆盖小试筛选、标准工艺定型、高流速中试模拟全研发工况，解决高低流速切换工艺不稳定、多设备拆分研发等行业常见问题。如需了解各流速区间的配套工艺参数与中试模拟落地方案，可前往迈安纳官网咨询交流。