工作原理的区别微射流均质机是高压流体在加压状态下通过细孔模块时压力急剧下降而形成超声波流速此时的流体内会发生粒子冲击,空化和消流,剪切,应力作用体细胞的破坏,雾化,乳化,分散。高压流体在分散单元的狭小缝隙间快速通过,此时流体内压力的急剧下降而形成的超声速流速,流体内的粒子碰撞,空化及漏流,剪切力作用于劈开纳米大小的细微分子以完全的均质的状态存在。高压均质机是物料通过柱塞泵吸入并加压,在柱塞作用下进入压力大小可调节的阀组中,经过特定宽度的限流缝隙(工作区)后,瞬间失压的 物料以极高的流速(1000 至 1500 米/秒)喷出,碰撞在阀组件之 一的碰撞环上,在食品加工中,微射流均质机可以用于乳化、分散、溶解等工艺过程。上海石墨微射流均质机
有研究表明,硅负极材料在锂合金化过程中发生的体积膨胀,效率并不是固定的,而是与硅材料颗粒尺寸紧密相关[5]。纳米级尺寸的硅颗粒,由于其独特的表面效应和尺寸效应,可以缓解硅体积变化引发的颗粒破碎粉化[6]。另外,通过降低硅材料的颗粒尺寸,直接减少了锂离子的扩散距离,显著提高了硅与锂的合金化反应效率,而使硅纳米颗粒具有更快速的电子传输能力和更高的损伤容限[7]。目前主流的降低硅材料粒径的方式是采用球磨,但是在球磨的过程中部分硅材料容易发生氧化,另外在球磨后材料也容易重新团聚。高压微射流均质机是基于高压微射流技术开发的先进的纳米材料制备装备,它利用成熟稳定的液压技术,在柱塞泵的作用下将液体物料增压,凭借精确压力调节使物料压力增压到20Mpa至210Mpa之间设定的压力值。被增压的物料,流向具有固定几何形状的金刚石(或陶瓷)制作的微通道并产生高速微射流,高速微射流物料在特定几何通道下产生物理剪切、高能对撞、空穴效应等物理作用力,从而使得物料混合、分散、破碎等,在电池负极纳米硅材料的处理中能有--效降低粒径,防止过程氧化以及处理后团聚,具有明显的效果.上海小型微射流均质机价格操作人员需要接受专业培训,熟悉设备的操作流程和安全注意事项。
高压微射流均质机自1900年在巴黎世博会上展出以来,已经有100多年的历史了。从早的食品乳化行业,到现在的生物细胞破碎行业,到药物制剂的脂肪乳,脂质体,纳米粒项目,到化工,到化妆品,可以说渗透进了各行各业,而在这些所有的高压均质机里面,均质阀式的高压均质机出现得早,也是目前为止市面上主流的高压均质机。高压微射流均质机主要是由分散单元和增压机构组成。在增压机构的作用下,利用液压泵产生的高压,流体经过孔径很微小的阀心,产生几倍音速的流体,并在分散单元的狭小缝隙间快速通过,进行强烈的高速撞击。在撞击过程中,流体瞬间转化其大部分能量,流体内压力的急剧下降而形成超声速流体,流体内的粒子碰撞、空化和湍流,剪切力作用于纳米大小的细微分子,使流体的成分以完全均质的状态存在。
二十二碳六烯酸(Docosahexaenoicacid,DHA)属于N-3多不饱和脂肪酸家族中的重要成员,普遍存在在鱼、虾、蟹、海藻等海洋生物中,深海鱼油中的DHA尤为丰富。它具有促进婴幼儿大脑的生长发育、保护视力、提高机体免疫力等诸多功能,应用于食品、保健品等多个领域,具有良好的应用前景。但由于其自身结构特点—具有6个双键(图1),导致易受氧、光、热的影响,发生氧化、聚合、酸败及双键共轭等不良反应,产生大量羰基化合物和含鱼臭物质的化合物。氧化产物摄入体内会引发生理异常、危害健康;氧化过程中也会有不良风味产生,影响产品品质。因此,需要采用方法对它进行保护,目前研究较多的是DHA微胶囊和DHA胶丸等。虽然DHA微胶囊已进行了工业生产,但是其包埋率为10%左右,且溶于水后会有鱼腥味,不易在液体食品中使用。虽然设备成本较高,但其高效、稳定的均质化效果为实验和研究提供了重要价值。
微射流均质机是一种高效的物料处理设备,其主要功能包括以下几个方面:1.均质:微射流均质机可以将物料进行高速均质处理,使其颗粒大小均匀,达到更好的混合效果。这对于制备的化妆品、食品、医药等产品非常重要。2.分散:微射流均质机可以将物料分散到更小的颗粒大小,使其更容易被吸收和利用。这对于制备高效的药物、化妆品等产品非常重要。3.乳化:微射流均质机可以将油水混合物进行高效乳化处理,使其更加稳定,不易分离。这对于制备的食品、化妆品等产品非常重要。4.破壁:微射流均质机可以将细胞壁等物质进行高速破碎,释放出其中的活性成分,提高其利用率。这对于制备高效的药物、保健品等产品非常重要。5.清洗:微射流均质机可以通过高速喷射清洗液,将设备内部进行彻底清洗,保证物料的纯度和卫生。综上所述,微射流均质机具有均质、分散、乳化、破壁和清洗等多种功能,是一种非常重要的物料处理设备。微射流均质机易于清洗和维护,减少生产过程中的卫生问题。江苏超高压微射流均质机应用
微射流均质机对于无机纳米材料的分散具有明显效果,如二氧化硅、二氧化钛等。上海石墨微射流均质机
抛光液是化学机械抛光技术的关键之一,其性能直接影响着被抛光工件的表面质量。从全球范围来看,根据Techcet预测数据,全球抛光液市场规模将从2019年的12亿美元增至2024年的18亿美元,复合年增长率为8.45%。从国内市场来看,根据QYResearch预测数据,国内抛光液市场规模到2025年或超10亿美元。届时国内市场占全球市场规模将超过50%,远高于当前约16%的份额。受益于晶圆厂扩建潮、技术迭代以及国产替代***提速驱动,CMP抛光液市场国内增速远超国际。全球CMP抛光液市场主要被美国和日本厂商垄断,占据全球CMP抛光液市场近八成市场份额。因此抛光液的制备技术在我国有着广阔的发展前景。上海石墨微射流均质机