无锡生产型微射流均质机技术参数

    此届展会时间为2021年9月4日-9月6日，期间上海迈克孚展示了高压微射流均质机，它是一种利用高压微射流技术实现纳米材料分散的精密装备，它利用成熟稳定的液压增压技术，在柱塞泵的作用下将液体或固液混悬物料增压，凭借准确的压力调节使物料压力增压到20Mpa至300Mpa之间设定的压力值。被增压的物料，射向具有固定几何形状的金刚石微通道并产生超音速微射流，超音速微射流物料在特定几何通道内受到每秒千万次的物理剪切、对撞、空穴效应、急剧压力降等物理作用力，从而实现纳米材料的分散，在化妆品领域活性成分包裹等方面有重要的应用。高压微射流均质机可以将材料颗粒尺寸减小到亚微米级，以产生稳定的纳米乳液和悬浮液，滴尺寸的减小和颗粒更均匀地分散，性能将增加，可以达到更好的外观、更优越的效果、更少的有机溶剂添加等等，使得化妆品公司在竞争激烈的市场中脱颖而出成为可能。展会期间，许多化妆品厂家及行业工程师对高压微射流均质装备以及其在化妆品中的应用都表现出极大兴趣，纷纷前来咨询。并且有客户现场预订了一台中试高压微射流均质机。 设备的正常流量为320ml/min，确保了高效稳定的均质化过程。无锡生产型微射流均质机技术参数

    油脂在护肤品中的主要作用包括：①改善肤感，不同的油脂能带来非常不一样的肤感，这是化妆品肤感调节方面重要的一部分；②滋润肌肤，改善肌肤弹性；③减少皮肤水分经皮流失，具有保湿的功效；④可以减少皱纹的出现，增加细胞的周转率；⑤作为活性物的溶剂；⑥增稠污水、水包油和油包水配方；⑦一些油脂可以作为主要的功效成分，如青刺果油作为***成分被薇诺娜广泛应用于产品中，小麦胚芽油被用于保湿产品中，高分子量的硅油被用于护发产品中，具有顺滑、保护毛鳞片的作品。然而在一些透明和半透明产品中，使用较高含量的油脂是非常困难的，比如爽肤水、精华液、精华乳、精华面膜、透明啫喱、以及透明洗发水等。主要原因是：油脂不溶于水，因而不能直接添加；通过少量表面活性剂乳化后添加，产品呈乳白色外观，不能满足很多产品需求；通过增溶剂溶解油脂后添加，需要的增溶剂含量较高，会造成产品发粘，难以在一些夏季使用的产品中使用；油滴粒径偏大，肤感不佳，尤其是很多植物油分子量较大，涂抹后容易产生油腻感；为了达到油脂的保湿效果，精华液等产品中常常需要添加一些小分子醇类，这可能存在潜在的安全性问题。 无锡生产型微射流均质机技术参数微射流均质机的设计需要考虑流体的物理性质和工艺要求。

  抛光液是化学机械抛光技术的关键之一，其性能直接影响着被抛光工件的表面质量。从全球范围来看，根据Techcet预测数据，全球抛光液市场规模将从2019年的12亿美元增至2024年的18亿美元，复合年增长率为8.45%。从国内市场来看，根据QYResearch预测数据，国内抛光液市场规模到2025年或超10亿美元。届时国内市场占全球市场规模将超过50%，远高于当前约16%的份额。受益于晶圆厂扩建潮、技术迭代以及国产替代***提速驱动，CMP抛光液市场国内增速远超国际。全球CMP抛光液市场主要被美国和日本厂商垄断，占据全球CMP抛光液市场近八成市场份额。因此抛光液的制备技术在我国有着广阔的发展前景。

  利用高压微射流技术微载体化后的神经酰胺具有如下优点：粒径小于100nm，加上微载体化的一些变形特性，显著提高了神经酰胺的渗透效率；外观透明至半透明，可在面膜、精华、化妆水等透明度和粘稠度较低的产品使用；无定形态的包裹方式，使其不会再出现重结晶等问题，提高了产品为稳定性无定形态的神经酰胺相比于结晶态的神经酰胺具有更好的渗透效果综上所述，通过高压微射流将神经酰胺等高熔点高结晶性的保湿成分微载体化，可实现更稳定的产品开发、更高效率的皮肤渗透，将“感觉吸收好”变为“皮肤学级甚至分子级的吸收”，真正实现这些保湿成分的有效性。在医药领域，微射流均质机可以用于制备纳米药物和生物制剂。

近年来，随着3C产品和新能源动力汽车的发展，锂离子电池凭借比能量高、循环寿命长、放电电压高、无记忆效应以及贮存寿命长等优点，迅速成为该市场的主要电池类型。但是新能源汽车对更高续航里程的要求，迫切需要更高能量密度的锂离子电池系统。目前主流的思路是从改进和探索新型的锂离子电池电极材料出发来提高电池系统的能量密度。而作为锂离子电池主要储锂部分，负极材料的比容量对锂离子电池的能量密度具有至关重要的作用。现阶段工业上大都采用石墨作为锂离子电池的负极材料，但因其较低的理论比容`量（372mAhg−1）限制了能量密度的进一步提升［1］。在众多负极材料中，硅材料由于具有较高的理论比容量（比较高4200mAhg−1），相比于石墨具有较高的嵌锂电位可以避免生成锂枝晶、适中的工作电压（0.4Vvs.Li/Li+）、含量丰富以及环境友好等特性，被公认为是非常有前途的负极材料［2］。但是，硅材料在嵌锂过程中巨大的体积膨胀诱导极大的内应力产生，内应力的释放会导致硅颗粒破裂甚至粉化，破碎的硅颗粒与电极失去电接触，导致电池容量衰减［3］。另外，硅的本征电导率较差，限制了硅负极的倍率性能［4］。这些力的作用使液体中的颗粒和液滴被破碎和分散，从而实现均质化处理。无锡生产型微射流均质机技术参数

微射流均质机具有处理能力强、操作简便、效率高等优点。无锡生产型微射流均质机技术参数

化学机械抛光（ChemicalMechanicalPolishing，CMP）技术具有独特的化学和机械相结合的效应，是在机械抛光的基础上，根据所要抛光的表面，加入相应的化学试剂，从而达到增强抛光和选择性抛光的效果。化学机械抛光技术是迄今为止可以提供整体平面化的表面精加工技术，它是从原子水平上进行材料去除，从而获得超光滑和**损伤表面，该技术广泛应用于光学元件、计算机硬盘、微机电系统、集成电路等领域。同时，CMP技术也是超精密设备向精细化、集成化和微型化发展的产物。无锡生产型微射流均质机技术参数