河南一种BOE蚀刻液价格

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    所述组合物包含540重量％的甲基四氢呋喃和6095重量％的式C4F90R的九氟丁基烷基醚。的甲基四氢呋喃是2-甲基四氢呋喃。在式C4F90R的九氟丁基烷基醚中，九氟丁基甲基醚和九氟丁基乙基醚。不论R是什么，的九氟丁基烷基醚主要由九氟正丁基烷基醚和九氟异丁基烷基醚组成。共沸或共沸型的组合物是特别有利的。当R为甲基时，该共沸或共沸型的组合物包含515重量％的甲基四氢呋喃和8595重量％的九氟丁基甲基醚。包含8重量％的甲基四氢呋喃和92重量％的九氟丁基甲基醚的共沸组合物在大气压下具有°C的沸点。当R为乙基时，该共沸或共沸型的组合物包含1040重量％的甲基四氢呋喃和6090重量％的九氟丁基乙基醚。包含％的甲基四氢呋喃和％的九氟丁基乙基醚的共沸组合物在大气压()下具有°C的沸点。共沸组合物是两种或更多种化合物的液体混合物，其具有可高于或低于各化合物的沸点的恒定沸点(即，在沸腾或蒸发期间没有分馏的倾向)。因此，在蒸发期间形成的蒸气的组成与初始的液体组合物相同或者几乎相同。共沸型组合物是两种或更多种化合物的液体混合物，其具有基本上恒定的沸点，也就是说，共沸型组合物起到单一化合物的作用。

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BOE 蚀刻液（Buffered Oxide Etch）是一种在微加工和半导体制造过程中常用的蚀刻溶液。河南一种BOE蚀刻液价格

    本发明涉及一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂，来改善磷酸的浸润性和表面张力，使之均匀蚀刻氮化硅。背景技术：氮化硅是一种具有很高的化学稳定性的绝缘材料，氢氟酸和热磷酸能对氮化硅进行缓慢地腐蚀。在半导体制造工艺中，一般是采用热磷酸对氮化硅进行蚀刻，一直到了90nm的制程也是采用热磷酸来蚀刻氮化硅。但随着半导体制程的飞速发展，器件的特征尺寸越来越小，集成度越来越高，对制造工艺中的各工艺节点要求也越来越高，如蚀刻工艺中对蚀刻后晶圆表面的均匀性、蚀刻残留、下层薄膜的选择性等都有要求。在使用热磷酸对氮化硅进行蚀刻时，晶圆表面会出现不均匀的现象，体现于在蚀刻前后进行相同位置取点的厚度测量时，检测点之间蚀刻前后的厚度差值存在明显差异。为了解决氮化硅蚀刻不均匀的问题，通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂可以实现氮化硅层的均匀蚀刻。技术实现要素：本发明所要解决的技术问题是提供一种能均匀蚀刻氮化硅层的蚀刻液。本发明涉及一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，所述蚀刻液的组成包括：占蚀刻液总重量≥88％的磷酸、％的醇醚类、％的表面活性剂。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液。河南一种BOE蚀刻液价格