如前文所述,必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,因此,该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12的该上表面123的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上(如图9所示)。再者,请再参阅图10至图12所示,为本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图、其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图,以及宣泄孔的表面张力局部放大图,其中该宣泄孔121为直通孔与斜锥孔混合的态样(如图10所示),或是全部为斜锥孔的态样(如图11所示),其中该宣泄孔121具有一***壁面1211与一第二壁面1212,且该第二挡板12具有一下表面122,当该宣泄孔121为斜锥孔的态样时,该***壁面1211与该下表面122的***夹角θ1不同于该第二壁面1212与该下表面122的第二夹角θ2,亦即该***壁面1211与该第二壁面1212可不互相平行,但应避免该***夹角θ1与该第二夹角θ2差距过大而造成毛细现象破除;此外,当该宣泄孔121为斜锥孔态样时。蚀刻液的分类可以分为哪些?广东铜钛蚀刻液蚀刻液哪里买
上述硅烷系偶联剂的选择方法的特征在于,选择上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)形态的分子量之后乘以。以下,通过实施例更加详细地说明本发明。但是,以下的实施例用于更加具体地说明本发明,本发明的范围并不受以下实施例的限定。实施例和比较例的蚀刻液组合物的制造参照以下表1(重量%),制造实施例和比较例的蚀刻液组合物。[表1]参照以下表2和图5,利用实施例和比较例的蚀刻液组合物,对于包含作为氧化物膜sio2和作为上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的、总厚度的膜进行如下处理。在160℃用硅烷系偶联剂%对上述膜处理10,000秒的情况下,可以确认到,aeff值与蚀刻程度(etchingamount,e/a)呈线性相互关系。具体而言,可以判断,作为硅烷系偶联剂,包含aeff值处于~14的蚀刻程度(etchingamount,e/a)优异,从而阻止氧化物膜损伤不良和因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良的效果优异。另一方面,可以判断,作为硅烷系偶联剂,包含aeff值不处于~11的蚀刻程度不佳,从而发生氧化物膜损伤不良。[表2]例如,参照以下表3,包含双。广东铜钛蚀刻液蚀刻液哪里买金属蚀刻液有哪些种类分类?;
步骤一s1:设置一挡液板结构10,其中该挡液板结构10设置有复数个宣泄孔121;该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12,以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13,其中该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121,该复数个宣泄孔121呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离,其中该宣泄孔121的孔径a0比较好小于3mm,以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象,若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时,则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面122,但仍旧可以提供空气宣泄的管道,以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。步骤二s2:使用一设置于该挡液板结构10下方的输送装置30输送一基板20,以经过一喷洒装置50进行一药液51喷洒;在本实用新型其一较佳实施例中,该喷洒装置50设置于该挡液板结构10的一端部,且该基板20设置于该挡液板结构10的下方约8毫米至15毫米之间,其中该喷洒装置50用以喷洒一药液51至该基板20上,以对该基板20进行一湿式蚀刻制程,该挡液板结构10的设置即是为了避免该喷洒装置50的药液51继续对已经完成蚀刻步骤的基板20再进行蚀刻制程。
蚀刻液也可含有α-羟基羧酸和/或其盐。α-羟基羧酸及其盐具有作为钛的络合剂的效果,可抑制蚀刻液中产生钛的沉淀。作为所述α-羟基羧酸,例如可举出酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羟基羧酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从络合效果及溶解性的观点来看,推荐为%至5重量%,更推荐为%至2重量%。另外,蚀刻液也可含有亚硫酸及/或其盐。亚硫酸及其盐具有作为还原剂的效果,可提高钛的蚀刻速度。亚硫酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从还原性及臭气的观点来看,推荐为%至%,更推荐为%至%。蚀刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨碍本发明效果的程度添加其他成分。作为其他成分,例如可举出表面活性剂、成分稳定剂及消泡剂等。蚀刻液可通过使所述各成分溶解于水中而容易地制备。作为所述水,推荐为将离子性物质及杂质除去的水,例如推荐为离子交换水、纯水、超纯水等。蚀刻液可在使用时将各成分以成为预定浓度的方式调配,也可预先制备浓缩液并在即将使用之前稀释而使用。使用本发明的蚀刻液的钛的蚀刻方法并无特别限制,例如可举出:对含有铜及钛的对象物涂布或喷雾蚀刻液的方法;将含有铜及钛的对象物浸渍在蚀刻液中的方法等。处理温度并无特别限制。「博洋化学」蚀刻剂厂家,质优价实,行业靠谱!
所述有机硫化合物具有作为还原剂及络合剂(chelate)的效果。作为所述硫酮系化合物,例如可举出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N'-二苯基硫脲及亚乙基硫脲等。烷基硫脲的烷基并无特别限制,推荐为碳数1至4的烷基。这些硫酮系化合物中,推荐使用选自由作为还原剂或络合剂的效果及水溶性优异的硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。作为所述硫醚系化合物,例如可举出甲硫氨酸、甲硫氨酸烷基酯盐酸盐、乙硫氨酸、2-羟基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等。烷基的碳数并无特别限制,推荐为碳数1至4。另外,这些化合物的一部分也可经取代为氢原子、羟基或氨基等其他基。这些硫醚系化合物中,推荐为使用选自由作为还原剂或络合剂的效果优异的甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所组成的群组中的至少一种。有机硫化合物的浓度并无特别限制,推荐为%至10重量%,更推荐为%至5重量%。在有机硫化合物的浓度小于%的情况下,无法获得充分的还原性及络合效果,有钛的蚀刻速度变得不充分的倾向,若超过10重量%则有达到溶解极限的倾向。苏州博洋化学您正确的选择,欢迎咨询。广东铜钛蚀刻液蚀刻液哪里买
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ITO显影剂也称为造影剂或对比剂,是一种X光无法穿透的药剂,用于让体内组织在X光检查时能看得更清楚。例如消化道摄影时,医师会让患者喝下一杯显影剂溶液(大多含钡),然后用各种角度照相,就能让胃肠道看得很清楚。如果显影只是在光强较大的地方产生游离银,而对底片不做进一步处理,则把它一拿出暗室,未显影的卤化银就会立刻曝光。此后,几乎任何还原剂都将使底片完全形成灰雾。为了克服这个问题,必须找到一种适当的物质以除去未还原的卤化银。黑白照相中较常用的定影液是硫代硫酸钠溶液。其中的硫代硫酸根离子(S2O32-)与银离子形成可溶于水的稳定配合物,因而达到“固定”底片的目的。ITO显影液的市场需求会随着电子行业的快速发展而不断增长。广东铜钛蚀刻液蚀刻液哪里买