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    减薄用清洗剂是在特定的减薄工艺中使用的一种化学制剂，主要用于去除材料表面的杂质、残留物或特定的涂层等，以达到减薄的目的。减薄用清洗剂的类型：1、酸性清洗剂通常含有强酸，如氢氟酸、硝酸等，适用于去除某些金属氧化物或特定的无机材料。酸性清洗剂具有较强的腐蚀性，使用时需要严格控制浓度和清洗时间，以避免对被清洗材料造成过度腐蚀。例如，在半导体制造中，氢氟酸可以用于去除硅片表面的氧化层，实现硅片的减薄。2、碱性清洗剂：含有强碱成分，如氢氧化钠、氢氧化钾等。碱性清洗剂对于去除油脂、有机污染物等有较好的效果。在一些金属材料的减薄过程中，碱性清洗剂可以先去除材料表面的油污等杂质，为后续的减薄工艺做好准备。3、有机溶剂清洗剂：主要由有机溶剂组成，如、乙醇、甲苯等。这类清洗剂对油脂、树脂等有机物质有很强的溶解能力。在某些特殊材料的减薄中，有机溶剂清洗剂可以去除材料表面的有机涂层，或者帮助溶解一些难以去除的有机残留物。

    在本发明的一个实施例中，抛光液110的主要成分包括：碳化硅颗粒，颗粒直径为50nm～200nm，体积比为3％～5％；次氯酸盐，体积比为30％～40％；氢溴酸，体积比为5％～7％，di水，体积比50～60％。本发明的一个实施例中，如图3所示，磁转子12包括截面为半圆形的柱状磁性结构120和位于柱状磁性结构120的底部平面的研磨层121，以通过研磨层121对待加工部件20的待加工表面进行机械研磨。当然，本发明并不仅限于此，在其他实施例中，可以根据实际需求选择合适的磁转子形状。可选地，研磨层121为金属氧化物层，进一步可选地，金属氧化物层包括三氧化二铝层。可选地，研磨层121的厚度为10μm。本发明实施例中，如图4所示，磁转子12沿箭头所示方向旋转，如沿逆时针或顺时针方向旋转，并且，磁转子12的长度近似等于待加工部件20如inp基晶圆的直径，以对整个待加工表面进行研磨。本发明实施例中，抛光减薄装置还包括控制部件。控制部件与磁转子12和喷头11相连，用于控制喷头11和磁转子12交替工作，以对待加工表面交替进行抛光和减薄。其中，控制部件通过脉冲方式控制喷头11和磁转子12交替工作。可选地，控制部件控制磁转子12的转速为80rpm～200rpm。好的减薄用清洗剂公司的标准是什么。

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