蚀刻液再生循环系统在电子线路版(PCB)蚀刻过程中,蚀刻液中的铜含量渐渐增加。蚀刻液要达到的蚀刻效果,每公升蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐(NH4CI)及氨水(NH3)。要持续蚀刻液中上述各种成份的浓度水平,蚀刻用过后的(以下称[用后蚀刻液])溶液需不断由添加的药剂所取缔。本系统将大量原本需要排放的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水,补偿因运作时被带走而失去的部份。从而取代蚀刻子液,既可达到蚀刻工艺的要求。如何挑选一款适合自己公司的BOE蚀刻液?福建介绍BOE蚀刻液推荐货源
缓冲氧化物蚀刻液(BOE)又称为缓冲氧化物蚀刻剂,是由氢氟酸(49%)与水或氟化铵与水混合而成。作为一种湿式蚀刻剂,缓冲氧化物蚀刻液具有速率快、蚀刻容易控制、溶解能力高等特点。缓冲氧化物蚀刻液主要用于蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜,下游应用涉及到光伏太阳能、半导体、平板显示等多个领域。
年来,得益于新能源、电子等产业的快速发展,全球缓冲氧化物蚀刻液市场规模不断扩大,发展到2020年,全球缓冲氧化物蚀刻液市场规模已达到4.2亿元。目前缓冲氧化物蚀刻液下游市场处于发展阶段,对缓冲氧化物蚀刻液的需求仍保持增长态势,因此未来缓冲氧化物蚀刻液行业发展前景较好。 福建工业级BOE蚀刻液产品介绍京东方用的哪家的BOE蚀刻液?
Cu2+的蚀刻作用由次要地位而跃居主要地位,此时蚀刻速率慢,即应考虑蚀刻液的更新。一般工厂很少分析和测定蚀刻液中的含铜量,多以蚀刻时间和蚀刻质量来确定蚀刻液的再生与更新。蚀刻铜箔的同时,还伴有一些副反应,就是CuCl2和FeCl3的水解反应:FeCl3+3H2O→Fe(OH)3↓+3HClCuCl2+2H2O→Cu(OH)2↓+2HCl生成的氢氧化物很不稳定,受热后易分解:2Fe(OH)3→Fe2O3↓+3H2OCu(OH)2→CuO↓+H2O结果生成了红色的氧化铁和黑色的氧化铜微粒,悬浮于蚀刻液中,对抗蚀层有一定的破坏作用。2.影响蚀刻速率的因素Fe3+的浓度和蚀刻液的温度蚀刻液温度越高,蚀刻速率越快,温度的选择应以不损坏抗蚀层为原则。Fe3+的浓度对蚀刻速率有很大的影响。蚀刻液中Fe3+浓度逐渐增加,对铜的蚀刻速率相应加快。当所含Fe3+超过某一浓度时,由于溶液粘度增加,蚀刻速率反而有所降低。
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wetetching)和干蚀刻(dryetching)两类。湿蚀刻就是利用合适的化学溶液腐蚀去除材质上未被光阻覆盖(感光膜)的部分,达到一定的雕刻深度。蚀刻精度高,则可以完成精度要求更高的精细零件的加工,扩大蚀刻应用的范围。目前已经使用的蚀刻液类型有六种类型:酸性氯化铜,碱性氯化铜,氯化铁,过硫酸铵,硫酸/铬酸,硫酸/双氧水蚀刻液。常用的化学药水,硝酸、氢氟酸等。质量好的BOE蚀刻液的公司联系方式。
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酸性蚀刻是制造印刷电路板过程中必不可少的工序,酸性蚀刻工序利用酸性蚀刻液在蚀刻机内完成。酸性蚀刻液包括酸性蚀刻子液和酸性蚀刻母液。通过再生循环方法提取铜回收废液继续使用,可以明显减少环境的污染,电解反应是通过阳极的氧化作用使一价铜变为二价铜,使得蚀刻液恢复再生能力,而阴极则通过还原作用来沉积铜,使得蚀刻液具备蚀刻的负载能力。但是会产生氯离子,阳极存在氯气析出的问题。氯气的析出不只危害了车间工人的健康,产生空气污染。福建介绍BOE蚀刻液推荐货源