上述硅烷系偶联剂的选择方法的特征在于,选择上述硅烷系偶联剂的反应位点(activesite)的数量除以上述硅烷系偶联剂的水解(hydrolysis)形态的分子量之后乘以。以下,通过实施例更加详细地说明本发明。但是,以下的实施例用于更加具体地说明本发明,本发明的范围并不受以下实施例的限定。实施例和比较例的蚀刻液组合物的制造参照以下表1(重量%),制造实施例和比较例的蚀刻液组合物。[表1]参照以下表2和图5,利用实施例和比较例的蚀刻液组合物,对于包含作为氧化物膜sio2和作为上述氧化物膜上的氮化物膜sin的膜的、总厚度的膜进行如下处理。在160℃用硅烷系偶联剂%对上述膜处理10,000秒的情况下,可以确认到,aeff值与蚀刻程度(etchingamount,e/a)呈线性相互关系。具体而言,可以判断,作为硅烷系偶联剂,包含aeff值处于~14的蚀刻程度(etchingamount,e/a)优异,从而阻止氧化物膜损伤不良和因副反应氧化物的残留时间变长而氮化物膜未被完全去除的不良的效果优异。另一方面,可以判断,作为硅烷系偶联剂,包含aeff值不处于~11的蚀刻程度不佳,从而发生氧化物膜损伤不良。[表2]例如,参照以下表3,包含双。蚀刻液适用于哪些行业。绵阳格林达蚀刻液什么价格
所述有机硫化合物具有作为还原剂及络合剂(chelate)的效果。作为所述硫酮系化合物,例如可举出硫脲、N-烷基硫脲、N,N-二烷基硫脲、N,N'-二烷基硫脲、N,N,N'-三烷基硫脲、N,N,N',N'-四烷基硫脲、N-苯基硫脲、N,N-二苯基硫脲、N,N'-二苯基硫脲及亚乙基硫脲等。烷基硫脲的烷基并无特别限制,推荐为碳数1至4的烷基。这些硫酮系化合物中,推荐使用选自由作为还原剂或络合剂的效果及水溶性优异的硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所组成的群组中的至少一种。作为所述硫醚系化合物,例如可举出甲硫氨酸、甲硫氨酸烷基酯盐酸盐、乙硫氨酸、2-羟基-4-(烷硫基)丁酸及3-(烷硫基)丙酸等。烷基的碳数并无特别限制,推荐为碳数1至4。另外,这些化合物的一部分也可经取代为氢原子、羟基或氨基等其他基。这些硫醚系化合物中,推荐为使用选自由作为还原剂或络合剂的效果优异的甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所组成的群组中的至少一种。有机硫化合物的浓度并无特别限制,推荐为%至10重量%,更推荐为%至5重量%。在有机硫化合物的浓度小于%的情况下,无法获得充分的还原性及络合效果,有钛的蚀刻速度变得不充分的倾向,若超过10重量%则有达到溶解极限的倾向。安徽哪家蚀刻液蚀刻液供应商蚀刻液的主要成分是什么?
一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法技术领域1.本技术涉及化学蚀刻技术领域,具体涉及一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。背景技术:2.目前,电子器件的基板表面(例如显示器件的阵列基板)通常带有一定图案的氧化铟锡(ito)膜,以便后续给电子器件可控通电。该ito膜通常通过化学蚀刻的方法蚀刻ito材料层形成。其中,对于多晶ito(p-ito)材料,所用蚀刻液主要包括硫酸系、王水系ito蚀刻液。王水系蚀刻液成本低,但其蚀刻速度快,蚀刻的角度难以控制,且容易对ito膜的下层金属造成二次腐蚀。技术实现要素:3.有鉴于此,为克服目前存在的技术难题,本技术提供了一种ito蚀刻液及其制备方法、应用方法。4.具体地,本技术首先方面提供了一种ito蚀刻液,所述ito蚀刻液包括以下重量份数的各组分:20-22份的盐酸,6-7份的硝酸,0.5-3份的酸抑制剂,0.5-3份的表面活性剂,以及水;其中,所述酸抑制剂包括n,n-二异丙基乙胺、n,n-二异丙基乙醇胺中的至少一种;所述表面活性剂包括聚氧乙烯脂肪胺、聚氧乙烯脂肪二胺中的至少一种。5.通过对蚀刻液中硝酸及盐酸的含量进行精确限定,以实现了对王水系蚀刻液蚀刻速度的初步调控,并在一定程度上实现了对蚀刻角度的控制(蚀刻角度小于35
从蚀刻速度及安全性的观点来看,推荐为40℃至70℃,更推荐为45℃至55℃。处理时间视对象物的表面状态及形状等而变化,通常为30秒至120秒左右。实施例然后,对本发明的实施例与比较例一起进行说明。此外,本发明并非限定于下述实施例而解释。制备表1及表2所示的组成的各蚀刻液,在下述条件下进行蚀刻试验及蚀刻液的稳定性试验。此外,表1及表2所示的组成的各蚀刻液中,剩余部分为离子交换水。另外,表1及表2所示的盐酸的浓度为以氯化氢计的浓度。(蚀刻试验)通过溅镀法在树脂上形成50nm的钛膜,然后成膜200nm的铜膜,进而通过电镀铜在该铜膜上形成图案,将所得的基板用作试样。使用铜的蚀刻液,将试样的溅镀铜膜溶解而使钛膜露出。然后,将试样浸渍在实施例1至实施例12及比较例1至比较例3的蚀刻液中进行蚀刻实验。将实验结果示于表1。[表1]像表1所示那样,本发明的蚀刻液可在不蚀刻铜的情况下选择性地蚀刻钛。(蚀刻液的稳定性试验)将实施例1、实施例7、实施例12及比较例4的蚀刻液在室温下放置2天后,进行所述蚀刻试验,比较放置前后的蚀刻速度。将比较结果示于表2。[表2]像表2所示那样,本发明的蚀刻液的保存稳定性优异,即便在长期保存的情况下也可稳定地选择性地蚀刻钛。哪家的蚀刻液的价格优惠?
当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板20上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出,除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的蚀刻不均现象,亦可达到以破真空的原理避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;此外,为了避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题,因此,该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小,例如:孔径a0小于3mm,即可因毛细现象的作用,亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4,而达到防止位于该第二挡板12的该上表面123的药液51水滴经由该复数个宣泄孔121滴下至该基板20上。由上述的实施说明可知,本实用新型的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备与现有技术相较之下,本实用新型具有以下优点。本实用新型的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备主要借由具有复数个宣泄孔的挡液板结构搭配风刀装置的硬体设计,有效使风刀装置吹出的气体得以经由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面张力现象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蚀刻不均等异常现象。维信诺用的哪家的蚀刻液?南京铜钛蚀刻液蚀刻液费用
天马微电子用哪家蚀刻液更多?绵阳格林达蚀刻液什么价格
该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12,以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13,其主要特征在于:该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121。该***挡板11与该第二挡板12呈正交设置,且该第二挡板12与该第三挡板13呈正交设置,以使该***挡板11、该第二挡板12与该第三挡板13围设成一凹槽的态样,在一实施例中,该***挡板11、该第二挡板12与该第三挡板13可以为一体成形,其中该第二挡板12的长度h介于10cm至15cm之间,而该等开设于该第二挡板12上的宣泄孔121可呈千鸟排列或矩阵排列等其中的一种排列的态样,且该宣泄孔121可为直通孔或斜锥孔等其中的一种态样或两者的混合;在本实用新型其一较佳实施例中,开设于该第二挡板12上的宣泄孔121呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离(例如:图3中所示的w),其中该宣泄孔121的一孔径a0比较好小于3mm,以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象,若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时,则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面,但仍旧可以提供空气宣泄的管道,以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。此外,请一并参阅图4图5所示。绵阳格林达蚀刻液什么价格