氮化铝陶瓷:半导体制造设备的“洁净防护材料” 半导体晶圆加工对环境洁净度要求严苛,设备部件需具备耐腐蚀、无杂质析出特性。氮化铝陶瓷以超高纯度(99.9%以上) 为关键优势,化学稳定性极强,可耐受半导体制造中的氢氟酸、盐酸等腐蚀气体与液体,不产生金属离子、氧化物等杂质,避免污染晶圆。 其耐高温性能优异(较高使用温度达1800℃),能适配晶圆热处理、刻蚀等高温工艺环节,且机械强度高,可加工成精密载物台、腔体衬板等部件,加工精度达±0.002mm,保障设备运行稳定性。当前,半导体行业向7nm及以下制程突破,对设备材料的洁净度与精度要求更高,氮化铝陶瓷成为半导体好的制造设备的关键材料,应用前景广阔。氧化铝陶瓷,抗化学侵蚀,恶劣环境下依旧耐用。徐州质量陶瓷供应

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氧化铝陶瓷以高纯度氧化铝为关键原料,具备好的物理化学特性。其硬度高达HRA85-90,只次于金刚石,耐磨性能远超金属材质,可承受长期摩擦而不易损耗;耐高温性突出,长期使用温度可达1600℃,短期耐受温度更高达1800℃,在高温环境下仍能保持结构稳定;同时拥有优异的绝缘性能,体积电阻率高,且化学稳定性强,耐酸碱腐蚀,不与绝大多数化学介质发生反应。此外,其密度低、重量轻,兼具强度高与低膨胀系数,在严苛工况下能稳定发挥性能,是好的工业领域的理想材料。氧化锆陶瓷,高韧性抗冲击,精密部件耐用之选。宁波氧化锆陶瓷制作
致密结构低损耗,氧化铝陶瓷,助力精密仪器提质。徐州质量陶瓷供应
氧化铝陶瓷管/环 氧化铝陶瓷管/环是以以氧化铝(Al2O3)为原料,经成型、烧结、精密加工等工艺制成的陶瓷制品,可根据需求定制多种规格,氧化铝陶瓷管/环的性能可通过工艺调整优化,例如通过等静压成型提升致密度,或通过表面处理增强耐磨性,从而适应不同场景的特殊需求。 氧化铝陶瓷管/环主要应用于耐磨与输送系统,如矿山、建材等行业的粉体/颗粒输送管道的密封环、耐磨衬环,也可以作为破损设备中的缓冲环,提升设备耐用性;高温工业领域,作为热电偶保护管、熔炉内的支撑环、高温气体/液体输送管道的内衬或连接件,抵御高温侵蚀。化工防腐领域,在酸碱溶液输送管道、反应釜的接口环、密封垫圈等部位,避免介质对金属部件的腐蚀。徐州质量陶瓷供应
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