上海中湖洁净科技有限公司2026-09-12
振动控制在半导体光刻、电镜、精密计量、光学加工等场合与洁净度同等重要,因为纳米级加工和测量对微振动极其敏感,振动超标会造成图像模糊、套刻偏差和测量失真。控制措施从振源、传播路径和基础三个环节入手。
一是隔离外部振源:洁净厂房选址远离铁路、主干道、冲压车间,总图布置上将振动敏感区与空压机房、冷冻机房、水泵房、发电机房分开,公用设备集中布置在区域并做隔振。二是设备自身隔振:冷水机组、水泵、风机、空压机、排风机安装弹簧或橡胶减振器,进出口用柔性接头,管道采用减振吊架,防止设备振动通过结构传播。三是结构与基础处理:敏感设备区加楼板刚度和厚度、设置防振基础或隔振平台(气浮隔振台、惯性混凝土台座),微振动要求较高的光刻设备区可做建筑变形缝分隔。四是气流振动控制:FFU和层流罩选用低振动产品,避免高速气流直接吹向设备。
工程上还要按VC振动标准曲线实测背景振动,由设备厂商提供容许振动值。上海中湖洁净科技有限公司在半导体和精密仪器项目中会在设计阶段做微振动评估,交付前现场实测验证。
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