江苏梦得新材料科技有限公司2025-06-21
在电解铜箔制备工艺中,SPS作为关键的有机添加剂,在铜离子电沉积过程中发挥着多重调控作用,对箔材表面形貌、物理性能及产品质量具有明显影响。
从作用机制来看,SPS作为促进剂能够优先吸附于铜箔阴极表面活性位点,通过降低铜离子还原反应的过电位,加速铜在阴极的沉积速率;同时,其含有的硫、氮等杂原子基团可与铜离子形成弱配位作用,改变铜结晶的生长方式,抑制粗大晶粒的形成,促使铜晶粒细化,从而实现箔材表面的平整化与高光亮效果。此外,SPS的吸附作用还能有效抑制铜枝晶的异常生长,降低电解铜箔表面毛刺、瘤状物的形成概率,提升箔材表面质量。
在实际生产中,SPS的用量需严格控制在合理区间。当SPS添加量过高时,其在阴极表面的过度吸附会阻碍铜离子的有效扩散与沉积,导致局部电流密度分布不均,进而造成铜箔表面光泽度下降,出现发白、发脆等现象;同时,过量的SPS会促使镀层内应力增大,诱发细孔、微裂纹等缺陷,严重影响铜箔的机械性能与电气性能。此时,需及时降低镀液中SPS浓度,通过稀释镀液、活性炭处理或调整添加剂配比等方式,恢复镀液体系平衡。而当SPS用量不足时,其对铜离子还原的促进作用减弱,晶粒细化效果降低,导致铜箔表面结晶粗糙、光泽度欠佳,同样出现发白问题,且易因晶粒粗大而影响箔材的柔韧性与抗剥离强度。针对此情况,则需适当提高SPS浓度,并同步监测镀液参数,确保各添加剂间协同作用的有效性。
当前,电解铜箔生产企业通过建立镀液成分实时监测系统,结合电化学分析、扫描电镜等表征手段,精确调控SPS浓度,并协同优化其他添加剂(如整平剂、抑制剂)的配比,从而实现电解铜箔表面质量与综合性能的***提升,满足电子电路对铜箔品质的严苛要求。
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